如下要求,基片为晶体, hTm}j,H
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% uz#9w\="
Sf8d|R@O
K0\WN"ua;
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% Xwi&uyvU&
#L)rz u
Z7^}G=*
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 cOQy|v`KD,
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 DbN'b(+
配置的设备才能做出来,谢谢