如下要求,基片为晶体, fxcE1=a
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% %0-oZL
;I*t5{
#a}w&O";
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% lu{
*]!
LG,? ,%_s
aE 07#
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 "QOQ
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 nN{DO:_o
配置的设备才能做出来,谢谢