如下要求,基片为晶体, #(jozl_8
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% |
%af}#
FQ
Oah}7!a)
I~qS6#%r
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% O xqbHe
/'=C<HSO
B:tST(
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 xyx.1o
e!
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 RC8{QgaI
配置的设备才能做出来,谢谢