如下要求,基片为晶体, $|g
;
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% Qqi?DW1)-
yM}3u4FG
?yxQs=&-q~
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% =]5f\f6
rq^%)tR
em95ccs'-
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 t-5K
dLB
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 ?(Ua+*b
配置的设备才能做出来,谢谢