如下要求,基片为晶体, +z|UpI
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% gf3U#L}P
mT6q}``vtG
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HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% t0e{|du
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现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 g={]Mzh
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 uZ\wwYY#M
配置的设备才能做出来,谢谢