如下要求,基片为晶体, 7.Kjg_N#Tr
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% ofJ]`]~VG
z)?#UdBQv
:6Pc m3
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% 7! A%6
(w@MlMk
GF/x;,Ae
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 KE)D =P
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 0qV*d
配置的设备才能做出来,谢谢