如下要求,基片为晶体, 3O.-'U1K
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% ch&r.
]1K
&U5p
u0,~pJvX
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% 86Rit!ih
{MS&t09Wh
5^xt/vYa)
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 Wwz>tE
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 Z`W.(gua
配置的设备才能做出来,谢谢