如下要求,基片为晶体, tHhA_
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% 90%alG1>y
8oI)q4V
@u./VK
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% ';buS -|6
nw3CI&Y`
Xa._
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 +tz^ &(
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 ni#!Gxw
配置的设备才能做出来,谢谢