如下要求,基片为晶体, C;.,+(G
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% [ugr<[6
3Vak
C
0Q)YZ2
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% c%1{l]
)ybF@emc
:T<5Tq*+x
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 RaP,dR+P
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 15r=d
配置的设备才能做出来,谢谢