如下要求,基片为晶体, )u<sEF
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% KaOS!e'
a?@j`@]ZR~
aN.Phn:
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% "Sl";.
VTD'D+t
1J^{h5?lU
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 RzNv|
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么
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配置的设备才能做出来,谢谢