如下要求,基片为晶体, $XT&8%|*7
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% N;Hf7K
Q#:,s8TW[
#c?\(qjWA
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% 27,WP-qie
';b/D
?bN8h)>QQ8
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 7cvbYP\<lv
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 siyJjE)}w
配置的设备才能做出来,谢谢