如下要求,基片为晶体, PX:#+bq1
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% PDNl]?
3I6ocj[,
'VDWJTia
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% ':*H#}Br-#
R\j~X@vI
ohx[_}xN
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 _$~>O7
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 YQMWhC,8hy
配置的设备才能做出来,谢谢