如下要求,基片为晶体, *PB/iVH%6
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% zv%J=N$G
?f2G?Y
{
R*Y=Ie
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% |>sv8/!
x1DVD!0 ~{
~u/@rqF
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 NV!4(_~
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 d/B*
配置的设备才能做出来,谢谢