如下要求,基片为晶体, {xx}xib3
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% 'Lq+ONX5
_K}q%In
_3(rwD
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% )(0if0D4
}`kiULC'=
BmKf%:l}
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 7Xx3s@
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 nNq<x^@83
配置的设备才能做出来,谢谢