如下要求,基片为晶体, 1& '8Y
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% @mBX~ ?=Z3
KV*xApb9y
j$7Xs"
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% W.1As{
?^EXTU85`"
mnID3=JF
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 iK IOh('G
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 e[Jem5C
配置的设备才能做出来,谢谢