如下要求,基片为晶体, YQgNv` l}
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% 1f4bt6[
LdTdQ,s<
Cd]/
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% Y )b@0'
] hE="z=n
1H{jy^sP 7
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 dDtFx2(R
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 pCU*@c!
配置的设备才能做出来,谢谢