半导体激光器的设计和工艺内容与章节如下,大家可以看看,是中科院的资料。 v?iH}7zb%Q
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一. 半导体激光器的基本结构 yvnrZ&x:
•1.半导体双异质结构 Le+8s LE`Y
•2.Fabry-Perot谐振腔(纵模) (3HgI
•3. 侧模控制(基侧模) i_9/!D
•4.横模控制 3xR#,22:}
•5. 动态单模半导体激光器 G?X,Y\Lp
•6. 波长可调谐半导体激光器 sjbC~Te--
•7.长波长VCSEL的进展 |zegnq~
•8.微腔激光器和光子晶体 Y@xeyMzE
•9.半导体激光器材料的选择 .ceU @^
jT_Tx\k
二.半导体光波导 gG|1$
•1. 平板波导的模式,TE和TM模 PbC>v
•2. 光限制因子和模式增益 {ca^yHgGy
•3. 一维多层波导结构(VCSEL)光场分布 ~.=HN}E
•4. 半导体激光器镜面反射系数 IOsDVIXL\
•5. DFB激光器的藕合模理论 g0U\AN
•6. DFB半导体激光器的一维模拟 G\+MT(&5
•7. 等效折射率近似 <cd%n-
•8. 数值模拟 ))-M+CA
Z#t.wWSq
三.半导体中的光跃迁和增益 =Qq^=3@h
•1. 费米分布函数及跃迁速率 J;9QDrl`
•2. 电子波函数及跃迁矩阵元 hndRgCo
•3.简约态密度及增益谱 Al;oI3
•4.模式的自发辐射速率 ]t0S_UH$
•5.应变量子阱的能带和增益谱数值结果 x"=q+sA
•6.能带,跃迁矩阵元和增益谱数值结果 nqW:P$
•7.增益谱峰值的近似表达式 jtJ8r5j 1
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四. 速率方程和动态效应 [Cr~gd+q
•1.单模速率方程及基本物理量 --hnv/AjI
•2.稳态输出 |I<-x)joIK
•3. 共振频率和3dB带宽 n Fn`>kQ
•4. 载流子输运效应对带宽影响 Dy'l]vN$
•5. 开启延迟时间 y.NArN|%
•6. 线宽增宽因子和动态频率啁啾 |1 6v4 R
•7. 自发辐射引起的噪声 !S}Au Mw
•8. 相对强度噪声 pIjVJ9+j
•9. 模式线宽 &xT~;R^
•10. 多模速率方程 BFRSYwPr
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五.半导体激光器的基本工艺和特性 [l{eJ/W
1.半导体激光器的工艺过程2.激光器微分特性 b,sc
3.激光器寿命 T`G"2|ISS
4.激光器阈值电流的温度特性 SuuS!U+i>
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