半导体激光器的设计和工艺内容与章节如下,大家可以看看,是中科院的资料。 <yH4HY
/q`xCS
一. 半导体激光器的基本结构 `6]%P(#a
•1.半导体双异质结构 &-B^~M*??
•2.Fabry-Perot谐振腔(纵模) ]X ?7ZI^
•3. 侧模控制(基侧模) jGpN,/VQa
•4.横模控制 SX#
e:_
•5. 动态单模半导体激光器 3GhRWB-U
•6. 波长可调谐半导体激光器 \}"$ ?d'f
•7.长波长VCSEL的进展 t~#zMUfac
•8.微腔激光器和光子晶体 E{Ov>osq
•9.半导体激光器材料的选择 Wg<(ms dj
sEGO2xeI
二.半导体光波导 iCHOv {p.
•1. 平板波导的模式,TE和TM模 5a|w+HO,
•2. 光限制因子和模式增益 )E-inHD /
•3. 一维多层波导结构(VCSEL)光场分布 vPTM
•4. 半导体激光器镜面反射系数 lY?QQ01D
•5. DFB激光器的藕合模理论 |m^k_d!d
•6. DFB半导体激光器的一维模拟 3 +G$-ru
•7. 等效折射率近似 rp!oO>F
•8. 数值模拟 5',8 ziJQ
1Y7Eajt-5
三.半导体中的光跃迁和增益 {^7Hgg
•1. 费米分布函数及跃迁速率 5?3Me59
•2. 电子波函数及跃迁矩阵元 q#,f 4P
•3.简约态密度及增益谱 +~mA}psr
•4.模式的自发辐射速率 PE3vQH=t~
•5.应变量子阱的能带和增益谱数值结果 d\R,Q
•6.能带,跃迁矩阵元和增益谱数值结果 I uMQ9&
•7.增益谱峰值的近似表达式 Wp!%-vzy&
mUdOX7$c>
四. 速率方程和动态效应 0;AA/
•1.单模速率方程及基本物理量 ?"i}^B`*
•2.稳态输出 4'a=pnE$
•3. 共振频率和3dB带宽 7|$:=4
•4. 载流子输运效应对带宽影响 -y8`yHb_
•5. 开启延迟时间 l0PZ`m+;j
•6. 线宽增宽因子和动态频率啁啾 CsoiyY -2
•7. 自发辐射引起的噪声 }dWq=)*
•8. 相对强度噪声 6/r)y+H
•9. 模式线宽 ,D]QxbwZ
•10. 多模速率方程 ,+meT`'vn
8&?s#5zA
五.半导体激光器的基本工艺和特性 P3)Nl^/
1.半导体激光器的工艺过程2.激光器微分特性 R3;Tk^5A
3.激光器寿命 h?BFvbAt
4.激光器阈值电流的温度特性 i+S)
K
]yx$(6_U
《半导体激光器的设计和工艺》全部内容pdf文档件附件,下载以后大家记得回复支持!