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AR膜反射率不良时如何调整
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AR膜反射率不良时如何调整
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leehow534
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发表于: 2013-12-13
目前已知的是:
K j~!E H"
1.根据TFC演示,膜厚调整
<Y"HCa{
2.如果蒸发速率过小,就把预熔
功率
加大些
fg/hUUl
没有其他方法了吗,各位亲们?
6]mAtA`Y
8Vy/n^3)
同样的条件连续镀为什么每次反射率图形都不一样咧?
3bT?4
[ 此帖被leehow534在2013-12-15 22:46重新编辑 ]
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fagbit
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1楼
发表于: 2013-12-14
问题不是很清楚,AR膜怎么扯到分光?
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leehow534
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2楼
发表于: 2013-12-14
就是反射率图形老是变来变去
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leehow534
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3楼
发表于: 2013-12-14
就是调整反射率图形规格内
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jack0827
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4楼
发表于: 2014-01-08
确认每次预融的一致性,还有相关的真空度。
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李仁锋
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5楼
发表于: 2014-01-09
你是不是用的310,可能里面设置有问题QQ81398665
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6楼
发表于: 2014-02-17
晶控?电子枪的功率,光斑的大小是不是变化了,没有压控的话,注意真空度是不是有变化
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qxb2008
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7楼
发表于: 2014-03-19
这就说明楼主你的镀膜条件重复性很差啊,如果机台系数没弄错的话。问题可以分两种情况:一种是镀膜机的重复性差,一种是膜系敏感层太多。镀膜机的重复性差要考虑的因素就多了:真空度/温度/充氧/蒸镀速率/伞差/蒸发角度等;膜系的敏感层可以通过二次优化进行调整。总之一个条件一个条件的去确认,总会找到问题的。
i[w&