[求助]AR膜反射率不良时如何调整 [复制链接]

目前已知的是： )_a~} U]=.  
1.根据TFC演示，膜厚调整 |]QqXE-7  
2.如果蒸发速率过小，就把预熔功率加大些 v. %R}Pa  
没有其他方法了吗，各位亲们？ $m7?3/YG  
:iFIQpk  
同样的条件连续镀为什么每次反射率图形都不一样咧？ a-y+@#;2_  

膜系敏感层  

看变化的大不大吧，如果在机器的误差范围之内变化是正常的，如果是连续的同一机器镀膜，每次都不一样，应该是设备出现了不良，EB，膜厚计，离子枪等不良都有可能。

主要控制膜厚和折射率

薄層問題 PGYXhwOI  
fR)m%m  
解決方法: kxp);  
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\ jw  
最簡單就是用石英控控制薄層 UJ0<%^f   
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或薄層的鍍率用慢點 ikSF)r;*t  
$"dR SysB  
去試試看

不懂，还在学习中

如果是国内的设备，还是晶控比较好，光控最好的还是莱宝

可以考虑换下靶的材料

leehow534:气压，膜厚，光量比值都没问题，很奇怪呀。 d{3@h+zL  
有些膜层同样的膜厚10几个NM，监控玻璃有时候有极值有时候又没有，何解？ $`8Ar,Xz`  
大多数情况下没有极值，根本看不出来规律来 (2014-04-01 23:20)  [U@*1  

5aBAr  
薄层，特别是二氧化硅薄层，还是用晶控。 Tx1vL  
另外，看一下光控片有没有问题，高度是否一致，是否水平放置。 -*~CV:2iq-  
光控片换新的试试，装之前擦一下。

AR就用晶控控制看看呗。