ZEMAX 光学设计软件成像暨照明培训班 (青岛 2013年7月15-20日 )
● 报名咨询热线 南京光研软件系统有限公司 联系人:吴 电话:025-85099608 E-mail:nancy@wavelab-sci.com.cn sales@wavelab-sci.com.cn ●课程介绍 ZEMAX光学设计成像培训班 7月15日—17日 ☆本课程为ZEMAX成像学习课程,专门针对ZEMAX初学者而设计的,他们需要了解光学设计、基本原理和技术,同时进行简单成像系统的设计,这个课程涵盖了ZEMAX的使用基础,定义光学系统、优化、光线像差FAS和其他评价工具、多重结构、切趾法、渐晕和公差的介绍。通过本课程密集培训和练习互动后,学员能达到独立轻松设计光学系统,并能进行分析及优化和公差评估。主要内容包括: 1、光学理论基础介绍,几何经典成像理论,像差理论,一阶光学与三阶光学计算像差,像差产生原因 及平衡像差的方法。 2、光学系统中孔径、视场、光瞳、光阑、F/#、主光线/边缘、渐晕、切趾等等光学术语解释。 3、光学系统设计实例,包括经典成像系统和无焦准直扩束系统的设计,从初始结构设计到最终系统分析、优化全过程。从简单的单透镜、双胶合设计到复杂的多重结构,变焦镜头、扫描镜头设计。 4、ZEMAX的优化技巧探讨,设定评价函数及评估系统性能的方法,优化操作函数的选择,玻璃材料的优化方法。 5、衍射光学理论,衍射极限系统分析,MTF传递函数定义及作为评价标准时对优化操作的要求。结合双高斯照相镜头实例进行MTF优化设计。 6、非旋转对称系统、多反射镜系统、离轴三反系统在ZEMAX中的模拟。使用坐标断点精确模拟系统偏心旋转的方法。结合牛顿望远镜设计实例精细讲解分析。 7、光学系统公差分析,模拟实际加工及装配中产生的误差,预测系统的可制造性能以及能否达到设计要求的标准。公差分析和操作详细步骤,蒙特卡罗结果分析集阐释。 |