联合光电获得变焦光学系统新型专利授权

近日，联合光电获得一项实用新型专利授权，专利名为 "变焦光学系统"，专利申请号为 CN202520665745.3，授权日为 2026 年 2 月 6 日。

专利摘要：本实用新型公开了一种变焦光学系统，涉及变焦光学系统技术领域，其中，变焦光学系统具有沿光轴方向呈相对设置的物侧与像侧，变焦光学系统包括由物侧到像侧依次布设的第一镜组、第二镜组以及像面，第一镜组和第二镜组均沿光轴方向活动设置，第二镜组用于变焦，第一镜组用于对焦，且变焦光学系统的最大光学总长在 51mm 以内，其中，变焦光学系统处于广角端的焦距为 fw，第一镜组的焦距为 f1，第二镜组的焦距为 f2，变焦光学系统满足以下条件， 0.55 ≤ fw/f1 ≤ 0.1；且 0.2323 ≤ fw/f2 ≤ 0.75。如此设置，使变焦光学系统处于广角端时具有 140 ° 以上的视场角，以提供一种广视野、小体积、低成本、高分辨率且能够在高低温环境下满足人脸识别的需求的变焦光学系统。