微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 ?8g[0/  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 IS`1}i$1%  
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目录 ~7Ey9wRkD  
译者序 %(GWR@mfC  
前言 3;(6tWWLT  
第1章面浮雕衍射光学元件 d`D<PT(\  
1.1制造方法 Yyq:5V!  
1.2周期和波长比 nYJ)M AG@  
1.3光栅形状 qEC-'sl<  
1.4深度优化 uFDJRQJ<  
1.5错位失对准 C0o0 l>  
1.6边缘圆形化 TFbMrIF  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 F V8K_xj  
1.8表面纹理结构 A"t~ )  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 {AbQaw  
1.10太阳电池的表面纹理结构 nPp\IE}:  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 *f8;#.Re  
1.12成形金属基准层的制造工艺 0oI3Fb;E  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 [hs_HYqJ  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 -~O7.E(ok  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 5?+ECxPt  
致谢 UPs*{m  
参考文献 z;6Tp  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 jM8e2z3  
2.1概述和回顾 -lr)z=})  
2.2基本的刻蚀处理技术 |^K-m42  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 `9a %vN  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 8OoKP4,;  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 `y5?lS*  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 fZK&h.  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 }D_h*9  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 413,O~^  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 PtySPDClj  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 ~Zbr7zVn  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 {&,9Zy]"S  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 USLG G}R  
致谢 q:4 51C
 
参考文献 5z8CUDt 0  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 S'>(4a  
3.1概述 8?ldD  
3.2相位掩模技术 tbHU(#~  
3.3光学元件的设计和制造 2GNtO!B.  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 !+tz<9BBY  
3.3.2相位掩模的设计 >e y.7YG  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 Z-3i -(  
3.4轴对称元件的设计和制造 MP/6AAt7=|  
3.5结论 =e'b*KTL,  
参考文献 n82N@z<8]  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 *-~B{2b<  
4.1概述 Pt~mpRlH
 
4.2电子束光刻术 QAYhAOS|e  
4.2.1电子束光刻术发展史 BgLW!|T[  
4.2.2电子束光刻系统 '\qd{mM\r  
4.2.3电子束光刻技术 M>hHTa?W  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 NF`WA-W8@  
4.3.1回顾 %N 8/g]`7  
4.3.2硅 Fm(~Vt;%u  
4.3.3砷化镓 f\O)+Vc  
4.3.4熔凝石英 Kbjt CI7  
4.4光学器件加工实例 <}S1ZEZcQ  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 &{${Fq
 
4.4.2熔凝石英微偏振器 ^R.kThG  
4.4.3砷化镓双折射波片 Ws'OJ1  
4.5结论 RD_IGV  
致谢 %/KN-*  
参考文献 x ;V7D5 q  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 ]Igd<  
5.1概述 B0Ql1x#x  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 yi`Z(j;
 
5.3纳米压印光刻术的相关概念 gJn|G#!  
5.3.1纳米压印组件和工艺 U 2k^X=yl  
5.3.2纳米压印设备 jEr
/*kv  
5.4商业化器件的应用 R*~<?}Rr  
5.4.1通信用近红外偏振器 j)IXe 0dMC  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 4:\1S~WW  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） G0p|44_~t  
5.4.4高亮度发光二极管 '^f,H1oW  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 2Cd#~  
5.4.6多层集成光学元件 &6%%_Lw$  
5.4.7分子电子学存储器 6.? Ke8iC  
5.4.8光学和磁数据存储 L}O_1+b  
5.5结论 <eRE;8C-  
致谢 b e[KNrO  
参考文献 S;DqM;Q  
第6章平面光子晶体的设计和制造 i=$##  
6.1概述 2O\p`,.  
6.2光子晶体学基础知识 *:r@-=M3=  
6.2.1晶体学术语 bDI#'F  
6.2.2晶格类型 +Bk d  
6.2.3计算方法 Mx<V;GPm  
6.3原型平面光子晶体 -V@vY42  
6.3.1电子束光刻工艺 zbsdK  
6.3.2普通硅刻蚀技术 ud]O'@G<  
6.3.3时间复用刻蚀 ,f0|eu>  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 g{K*EL<  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 (jYHaTL6Y'  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 }C1&}hZ  
6.4.2负折射 Zcq'u jU  
6.5未来应用前景 J7:VRf|,?(  
参考文献 _l$
V|
 
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 Y;3DU1MG0  
7.1对称性、拓扑性和PBG H8d%_jCr  
7.2金属光子晶体 3|4jS"t{
f  
7.3金属结构的可加工性 PveY8[i  
7.4三维光子晶体的制造 G+Ft2/+\  
7.5胶体模板法 f0rM 4"1  
7.6微光刻工艺  pv<$ o  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 X yi[z tN  
7.8膜层应力 ?Fgk$WqC  
7.9对准 |sd0fTK  
7.10表面粗糙度 J})G l  
7.11侧壁轮廓 hl`4_`3y  
7.12释放刻蚀 o HqBNTyH  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 )cnH %6X  
7.14结论 Y r6wYs(%  
致谢 $'D|}=h<Y  
参考文献