微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 1~ZKpvu  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 "ktC1y1  
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目录 S+C^7# lT  
译者序 1eDc:!^SD  
前言 ))>)qav  
第1章面浮雕衍射光学元件 @7*Ag~MRb  
1.1制造方法 T4{&@b 0*  
1.2周期和波长比 ?OPAf4h  
1.3光栅形状 U%na^Wu  
1.4深度优化 84*Fal~Som  
1.5错位失对准 0\y@etb:mf  
1.6边缘圆形化 ywV8s|o  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 g$*VA} s  
1.8表面纹理结构  ]=g|e  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 'E,Bl]8C5  
1.10太阳电池的表面纹理结构 
'3@WF2a  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 d/OIc){tD  
1.12成形金属基准层的制造工艺 ;DKwv}  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 A fctycQ-  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 *
a
d"3>  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 cuP5cL/Y  
致谢 U;:,$]+  
参考文献 HSOdqjR*  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 @kKmkVhu*  
2.1概述和回顾 ;pNHT*>u,  
2.2基本的刻蚀处理技术 (UV+/[,  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 ]4>[y?k34  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 0fPqO2  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 wQ,RZO3  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 pTK|u!fs  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 WLWE%bDP  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 pstQithS  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 5Ffz^;i  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 O/\jkF  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 X?.bE!3=  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 gH0B[w ]  
致谢 8E Y<^:  
参考文献 05MtQB   
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 ^F~e?^s  
3.1概述 `B6{y9J6  
3.2相位掩模技术 AAdRuO{l1  
3.3光学元件的设计和制造 ^[CD-#  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 fwRlqfi  
3.3.2相位掩模的设计 +2w54X%?M  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 ?8(`tS(_?  
3.4轴对称元件的设计和制造 WL}6YSC  
3.5结论 tGd<{nF%2  
参考文献 Hk\+;'PrN  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 @X/S h:  
4.1概述 Rhx7eU#&  
4.2电子束光刻术 *ftJ(  
4.2.1电子束光刻术发展史 E!VAA=  
4.2.2电子束光刻系统 "ngYh]Git$  
4.2.3电子束光刻技术 c`X'Q)c&K  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 @6$r|:]G-  
4.3.1回顾 -H`G6oMOO  
4.3.2硅 &u"*vG (U[  
4.3.3砷化镓 `z)!!y  
4.3.4熔凝石英 im+2)9f  
4.4光学器件加工实例 BPrA*u}T  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 i:kWO7aP  
4.4.2熔凝石英微偏振器 P+3G*M=}  
4.4.3砷化镓双折射波片 q'hV 'U  
4.5结论 4'54  
致谢 BdO$  
参考文献 &,."=G  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 +ZE&]
BO{  
5.1概述 $hSu~}g  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 9'toj%XQ  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 h;4g#|,  
5.3.1纳米压印组件和工艺 \-s) D#Y;r  
5.3.2纳米压印设备 NTL#!  
5.4商业化器件的应用 Sc6wC H  
5.4.1通信用近红外偏振器 Pz|qy,  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 45MK|4\Y_  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） sjTsaM;<  
5.4.4高亮度发光二极管 Lf0Hz")  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 1wc -v@E  
5.4.6多层集成光学元件 :GK{JP  
5.4.7分子电子学存储器 DhZtiqL#_  
5.4.8光学和磁数据存储 N0vd>b  
5.5结论 Xp} vJl   
致谢 Xb^\{s?b  
参考文献 f6L_uk`{  
第6章平面光子晶体的设计和制造 RaU.yCYyu  
6.1概述 8nnkv,wa  
6.2光子晶体学基础知识 m]-8?B1`Y  
6.2.1晶体学术语 iQ9#gPk_9  
6.2.2晶格类型 {my=Li<_H  
6.2.3计算方法 Bd NuhV`0  
6.3原型平面光子晶体 l(]\[}.5  
6.3.1电子束光刻工艺 b(Z%#*e  
6.3.2普通硅刻蚀技术 _kY5
6  
6.3.3时间复用刻蚀 zt,-O7I'1  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 .v" lY2:N  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 MW`a>'0t?  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 }qD.Ek  
6.4.2负折射 ~o/^=:*  
6.5未来应用前景 ,#wVqBEk  
参考文献 jujx3rnK?  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 =` i 7?  
7.1对称性、拓扑性和PBG S-rqrbr|AT  
7.2金属光子晶体 34oLl#q*  
7.3金属结构的可加工性 @&Nvb.5nT  
7.4三维光子晶体的制造 T),:8/  
7.5胶体模板法 T?\CAk>  
7.6微光刻工艺 ]F@md(J  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 BL8\p_U  
7.8膜层应力 jVA~]a  
7.9对准 YjX=@  
7.10表面粗糙度 sN C?o[9l!  
7.11侧壁轮廓 ^X&9"x)4  
7.12释放刻蚀 X#3<hN*v  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 R82Y&s;  
7.14结论 pt4xUu{  
致谢 *cf"l  
参考文献