微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 iwQ-(GjM[A  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 R`2A-c  
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目录 ( 'n8=J  
译者序 
#}dVaXY)  
前言 q9Sz7_K  
第1章面浮雕衍射光学元件 A&c@8  
1.1制造方法 cTd;p>:>m  
1.2周期和波长比 9
K':Fn2,  
1.3光栅形状 ]"Y%M'  
1.4深度优化 Eqbe$o`dd  
1.5错位失对准 H'{?aaK|t  
1.6边缘圆形化 DBJA}Cw  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 >}b6
J7_  
1.8表面纹理结构 W[E3P,XS  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 xs!g{~V{  
1.10太阳电池的表面纹理结构 mO)PJd2ZD  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 RR!!hY3 K  
1.12成形金属基准层的制造工艺 99"[b  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 HI\f>U  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 xDJ+BQ<1A  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 PCPf*G>  
致谢 }{
xN`pZ  
参考文献 v
X0"S  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 qzA]2'~Q  
2.1概述和回顾 R pI<]1
  
2.2基本的刻蚀处理技术 6_<s=nTX  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 G4Kmt98I  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 RO{@RhnV  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 030U7VT1  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 HNy/ -  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 q|o|/O-{  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 O R<"LTCL  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 OR\DTLIl  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 #M?F^u[  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 :X1cA
3c!  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 ]hE+$sKd  
致谢 Vp$wHB&  
参考文献 P:(EU s}0  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 
&.Latx  
3.1概述 l>D-
Aan  
3.2相位掩模技术 -nk#d%a\  
3.3光学元件的设计和制造 px|>
v8  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 !ml_S)  
3.3.2相位掩模的设计 'Z.OF5|eGT  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 N pXgyD  
3.4轴对称元件的设计和制造 b>QM~mq3^I  
3.5结论 dGsS<@G  
参考文献 e
" Eqi-
 
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 8nIMZV  
4.1概述 K2xH'v O(  
4.2电子束光刻术 wI! +L&Q  
4.2.1电子束光刻术发展史 C NfJ:e2  
4.2.2电子束光刻系统 (@ fa~?v>@  
4.2.3电子束光刻技术 ^r>f2 x  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 cXS;z.M\_  
4.3.1回顾 [O7w =  
4.3.2硅 >X[|c"l.  
4.3.3砷化镓 *O+R|Cdp/  
4.3.4熔凝石英
mN\%fJ7  
4.4光学器件加工实例 v._Egk0  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 K[uY+!'1  
4.4.2熔凝石英微偏振器 gT(th9'+z  
4.4.3砷化镓双折射波片 m']9Q3-  
4.5结论 3cOY0Z#T  
致谢 6[*;M  
参考文献 9DOkQnnc  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 Ak5[PBbW  
5.1概述 >-5td=:Z  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 jq57C}X}2  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 =6cyE  
5.3.1纳米压印组件和工艺 GS ;HtUQ  
5.3.2纳米压印设备 7~wFU*P1  
5.4商业化器件的应用 s~=KhP~  
5.4.1通信用近红外偏振器 EqD^/(,L2  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 /!=U+X  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） URYZV8=B~  
5.4.4高亮度发光二极管 W/ g
|{t[  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 tYs8)\{  
5.4.6多层集成光学元件 \G$QNUU  
5.4.7分子电子学存储器 FZe:co8Mu  
5.4.8光学和磁数据存储 vG]GQ#  
5.5结论 C-llq
`(d  
致谢 SU%mmwES3  
参考文献 6OL41g'  
第6章平面光子晶体的设计和制造 ud0QZ X  
6.1概述 "7=
bL7wM&  
6.2光子晶体学基础知识  vv+TKO  
6.2.1晶体学术语 !1a}| !Zn  
6.2.2晶格类型 o]Z _@VI  
6.2.3计算方法 -xJX_6}A  
6.3原型平面光子晶体 wgY6D!Y   
6.3.1电子束光刻工艺 TC qkm^xv  
6.3.2普通硅刻蚀技术 7:n?PN(p6a  
6.3.3时间复用刻蚀 In f9wq\  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 ,*/Pg52?  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 7MY)\aH  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 ,{k<JA{  
6.4.2负折射 8h2D+1,PZC  
6.5未来应用前景 vqq6B/r@Fu  
参考文献 WgE@89  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 807al^s x  
7.1对称性、拓扑性和PBG sffhPX\I  
7.2金属光子晶体 jm+ V$YBP  
7.3金属结构的可加工性 }@d>,1DU  
7.4三维光子晶体的制造 `9/0J-7*  
7.5胶体模板法 d9O:,DKf  
7.6微光刻工艺 SOVjEo4'3  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体
?TDvCL  
7.8膜层应力
R7lYu\mA  
7.9对准 v@VLVf)>9^  
7.10表面粗糙度 i8K_vo2Z)  
7.11侧壁轮廓 >-!r9"8@  
7.12释放刻蚀 Q4
RpK(N  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 d$pYo)8o({  
7.14结论 zm>>} 5R  
致谢 z. 'Fv7  
参考文献