微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 pa2cM%48  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 >Ni<itze$i  
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目录 "Oq>i9v;|$  
译者序 cRS2v--\-  
前言 3!2TE-  
第1章面浮雕衍射光学元件 C?fa-i0l^  
1.1制造方法 u ioBId  
1.2周期和波长比 D9-D%R,
 
1.3光栅形状 qcR"i+b  
1.4深度优化 ~[3B<^e  
1.5错位失对准 AA~6r[*~  
1.6边缘圆形化 2Pic4Z  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 6R';[um?q  
1.8表面纹理结构 {n-6e[  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 wC>Xu.Z:  
1.10太阳电池的表面纹理结构 P,ud"F=r  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 QTbv3#  
1.12成形金属基准层的制造工艺 k/mO(i%qi  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 } 0x'm  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 WJF#+)P:Y  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 D/Hob  
致谢 ;nZN}&m   
参考文献 L6f$ID:  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 5@
< D6>6  
2.1概述和回顾 VtzX I2.2  
2.2基本的刻蚀处理技术 yVl?gGgh  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 7FvtWE*  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 FCPiU3  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 x/^,{RrPk  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 ?JI:>3e  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 gbL!8Z1
h  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 j/PNi@  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 3PgiV%]  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 0 V3`rK  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 =#K$b *#  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 g1B[RSWv  
致谢 5&N55?G6  
参考文献 <j^bk"l p  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 5fDnr&DR  
3.1概述 Jrm 9,7/  
3.2相位掩模技术 P/;d|M(  
3.3光学元件的设计和制造 5*IfI+}  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 D0H
LU ~o  
3.3.2相位掩模的设计 K3On8  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 rA6lyzJ  
3.4轴对称元件的设计和制造 / +9o?Kxya  
3.5结论 1@vlbgLr@  
参考文献 c037#&Q%#  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 3r]N\c  
4.1概述 wR*>9LjeG  
4.2电子束光刻术 f_qW+fN::s  
4.2.1电子束光刻术发展史 +=&A1{kR3  
4.2.2电子束光刻系统 C)8>_PY[M  
4.2.3电子束光刻技术 R1lC_G]  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 j@4AY}[tX  
4.3.1回顾 +8~C&K:  
4.3.2硅 QM'Db`B  
4.3.3砷化镓 Ut
hH  
4.3.4熔凝石英 @$ggPrs  
4.4光学器件加工实例 "Acc]CqH*  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 l\%LT{$e  
4.4.2熔凝石英微偏振器 %?WR9}KU0  
4.4.3砷化镓双折射波片 N6wCCXd  
4.5结论 [/iT D=O,  
致谢 JLFZy\  
参考文献 /yn%0Wish  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 ne(zGJd  
5.1概述 z-X_O32  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 1?j['~aE  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 !Ey=  
5.3.1纳米压印组件和工艺 Q>[Xm)jr:  
5.3.2纳米压印设备  a }m>  
5.4商业化器件的应用 kvo V?<!  
5.4.1通信用近红外偏振器 x{.+i'  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 DpZO$5.Ec+  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） vl
67Xtk4  
5.4.4高亮度发光二极管 1*o=I-nOa  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 !0k'fYCa  
5.4.6多层集成光学元件 W$b
QS!7y  
5.4.7分子电子学存储器 XwNJHOaF  
5.4.8光学和磁数据存储 KqNbIw*sR  
5.5结论 *
c1)x  
致谢 MR{JMo=r  
参考文献 LqA&@  
第6章平面光子晶体的设计和制造 U1!#TD)@  
6.1概述 ?cRGdLP'D  
6.2光子晶体学基础知识 yoc;`hO-  
6.2.1晶体学术语 /-v6jiM  
6.2.2晶格类型 UBZ37P  
6.2.3计算方法 q*E<~!jL  
6.3原型平面光子晶体 *(>,\8OVf  
6.3.1电子束光刻工艺 5y`n8. (?  
6.3.2普通硅刻蚀技术 X@j.$0eK  
6.3.3时间复用刻蚀 +thkx$o  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 ].e4a;pt  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 A)j',jE&1  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 2/ES.>K!.  
6.4.2负折射 h]{V/  
6.5未来应用前景 7yM"G$  
参考文献 !um~P  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 p
saPrE  
7.1对称性、拓扑性和PBG V~%C me  
7.2金属光子晶体 XHER[8
l  
7.3金属结构的可加工性 l}jC$B`5  
7.4三维光子晶体的制造 iXsX@ S^F  
7.5胶体模板法 >L_nu.x  
7.6微光刻工艺 lH#C:n  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体
jr`;H  
7.8膜层应力 uihU)]+@t/  
7.9对准 %/:0x:ns  
7.10表面粗糙度 f2f2&|7  
7.11侧壁轮廓 ??u*qO:p  
7.12释放刻蚀  Z,Z4Sp  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 "!F%X%/  
7.14结论 yPXa  
致谢 WNmG
'hlA  
参考文献