微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 /!yU!`bY  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 UJAv`yjG  
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目录 ^+>laOzC`8  
译者序 i4Q@K,$  
前言 KEo,m  
第1章面浮雕衍射光学元件 7UKh688  
1.1制造方法
mUAi4N  
1.2周期和波长比 7?!d^$B  
1.3光栅形状 ?DS@e@lx  
1.4深度优化 "yy5F>0Wt  
1.5错位失对准 bivuqKA  
1.6边缘圆形化 Drgv`z  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 'A=^Se`=  
1.8表面纹理结构 ,GhS[VJjR  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 UawyDs  
1.10太阳电池的表面纹理结构 PFlNo` iO  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 CAig]=2'  
1.12成形金属基准层的制造工艺 Wa>}wA=v  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 d=$Mim  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 ^qvZXb  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 $l
fn(b,  
致谢 $D~0~gn~  
参考文献 >W=,j)MA  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 DZ3wCLQtK  
2.1概述和回顾 13$%,q
)  
2.2基本的刻蚀处理技术 I;,77PxD  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 [: n'k  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 t9GR69v:?  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 xA2YG|RU=b  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 K-^\" W8  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 htO+z7  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 .ljnDL/  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 *2>&"B09`  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 8rAg\H3E  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 zJKv'>
?  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 8?B!2  
致谢 ihhDOmUto  
参考文献 Hp|kQJ[LE  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 g>E LGG|Q  
3.1概述 ^ glri$m  
3.2相位掩模技术 IEL%!RFG  
3.3光学元件的设计和制造 <6%?OJhp  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 6IN e@  
3.3.2相位掩模的设计 KC*e/J  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 PV.Xz0@R  
3.4轴对称元件的设计和制造 '|6]_  
3.5结论 >mbHy<<  
参考文献 v ,i%Q$  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 t4."/.=+  
4.1概述 ih-#5M@  
4.2电子束光刻术 m+`cS=-.  
4.2.1电子束光刻术发展史 NR$3%0 nC6  
4.2.2电子束光刻系统 <`8n^m*  
4.2.3电子束光刻技术 o*+"|  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 ]#iigPZ7  
4.3.1回顾 nmee 'oEw  
4.3.2硅 x /(^7#u,  
4.3.3砷化镓 Y,qI@n<  
4.3.4熔凝石英 np|Sy;:  
4.4光学器件加工实例 ]? c B:}  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 ;}I:\P  
4.4.2熔凝石英微偏振器 '&P%C" 5  
4.4.3砷化镓双折射波片 ?>9/#Nv  
4.5结论 +)AG*  
致谢 &Q/W~)~  
参考文献 ^`i#$  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 LRxZcxmy  
5.1概述 ;HfmzY(  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 X;+sUj8  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 : g7@PJND  
5.3.1纳米压印组件和工艺 (' (K9@}  
5.3.2纳米压印设备 *xAqnk   
5.4商业化器件的应用 d"
1]4.c  
5.4.1通信用近红外偏振器 "m):Y;9iQ?  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 4!{KWL`A  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） -u+vJ6EY  
5.4.4高亮度发光二极管 Gq)]s'r2  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 I.(,hFx;  
5.4.6多层集成光学元件 3GYw+%Z]  
5.4.7分子电子学存储器 .|KyNBn  
5.4.8光学和磁数据存储 LtO!umM  
5.5结论 5+4IN5o]=  
致谢 5X:AbF  
参考文献 G`D`Af/B  
第6章平面光子晶体的设计和制造 JJ-( Sl  
6.1概述 nt;m+by  
6.2光子晶体学基础知识 Rxt^v+ ,$  
6.2.1晶体学术语 f].h^~.q  
6.2.2晶格类型 ](]i 'fE>  
6.2.3计算方法 0@0w+&*"@  
6.3原型平面光子晶体 KJUH(]>F  
6.3.1电子束光刻工艺 dA}-]  
6.3.2普通硅刻蚀技术 &GO}|W  
6.3.3时间复用刻蚀 ]Jg&VXrH  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 _IHV7*u{;  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 IxN9&xa
  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 kOrZv,qFG[  
6.4.2负折射 wYXQlxdy  
6.5未来应用前景 un"Gozmt5  
参考文献 a#(?P.6  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 BN
5[,J  
7.1对称性、拓扑性和PBG w>&aEv/f  
7.2金属光子晶体 mkk6`,ov  
7.3金属结构的可加工性  #4NaL  
7.4三维光子晶体的制造  `,*3[  
7.5胶体模板法 m]0;"jeL  
7.6微光刻工艺 1p3z1_wrs  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 y3Qsv  
7.8膜层应力 hp50J  
7.9对准 ea2ayT  
7.10表面粗糙度 u(.e8~s8  
7.11侧壁轮廓 mfn,Gjt3O  
7.12释放刻蚀 \A#41  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 a 7V-C  
7.14结论 wh`"w7
br  
致谢 Oc0a77@  
参考文献