微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 *BKIA  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 EzU3'x  
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目录 " 
f.9u  
译者序 MP~+@0cv  
前言 p21li}Iu  
第1章面浮雕衍射光学元件 zT")!Df>'  
1.1制造方法 _Zus4&'  
1.2周期和波长比 W4=A.2[q  
1.3光栅形状 @zT2!C?^L  
1.4深度优化 >3&9Wbv>  
1.5错位失对准 P>'29$1'  
1.6边缘圆形化 JvYs6u  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 ;Q
idf}:  
1.8表面纹理结构 =l>=]O~h  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 36}&{A  
1.10太阳电池的表面纹理结构 's$/-AV  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 Y?:"nhN  
1.12成形金属基准层的制造工艺 T>w;M?`9K  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 d'[q2y?6N  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 lS?#(}a1)  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 P?K
g7m W  
致谢 E+J+fi  
参考文献 /]2I%Q  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 _gQ_ixu  
2.1概述和回顾 >^D5D%"  
2.2基本的刻蚀处理技术 ,3Nna:~f  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 y<PQ$D)  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 G4uA&"OE  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 IGo+O*dMw  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 wI?AZd;`'  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 B^C5?  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 YcW)D  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 &}d5'IRT  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 szp.\CMz  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺
.>p.k*vU  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 oG c9 6B%  
致谢 @>`qfy?  
参考文献 +@~e9ZG%a  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 GjbOc   
3.1概述 b{;LbHq+G  
3.2相位掩模技术 2yVQqwQm  
3.3光学元件的设计和制造 PoD/i@  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 K;]Dh?  
3.3.2相位掩模的设计 xW58B  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 v.c.5@%%o  
3.4轴对称元件的设计和制造 9r ](/"=f  
3.5结论 `t+;[G>ZE  
参考文献 qoEZ>  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 kNX8y--  
4.1概述 Aa^w{D  
4.2电子束光刻术 X39%O'  
4.2.1电子束光刻术发展史 q siV  
4.2.2电子束光刻系统 yUs/lI, Q  
4.2.3电子束光刻技术 2\CZ"a#[  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 `bWc<
4T  
4.3.1回顾 er<_;"`1  
4.3.2硅 MHS|gR.c  
4.3.3砷化镓 E5\>mf ,;u  
4.3.4熔凝石英 n(_wt##wE~  
4.4光学器件加工实例 B5[As8
Sa  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 |}@teN^J*U  
4.4.2熔凝石英微偏振器 d}wE4(]b  
4.4.3砷化镓双折射波片 _)6r@fZ.p  
4.5结论 JY%l1:}G3  
致谢 o;>qsn8  
参考文献 G<Urj+3/Xo  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 .e\PCf9v  
5.1概述 WLH ;{  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 57EL&V%j  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 
f'Rq#b@  
5.3.1纳米压印组件和工艺 lYU?j|n  
5.3.2纳米压印设备 XII',&  
5.4商业化器件的应用 7wHd*{^9N  
5.4.1通信用近红外偏振器 ~xcU6@/  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 KBA&s  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） eWXR #g!%>  
5.4.4高亮度发光二极管 Mtn{63cK  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 U-D00l7C  
5.4.6多层集成光学元件 @*WrHoa2N  
5.4.7分子电子学存储器 f]2;s#cu  
5.4.8光学和磁数据存储 \b#`Ahf`  
5.5结论 QiaB
ZAol  
致谢 Wr8}=\/  
参考文献 q-S#[I+g  
第6章平面光子晶体的设计和制造 >^g\s]c[  
6.1概述 $<L@B|}F)  
6.2光子晶体学基础知识 C1OiMb(:  
6.2.1晶体学术语 ()<?^lr33  
6.2.2晶格类型 PR%n>a#  
6.2.3计算方法 T%E/k# )q  
6.3原型平面光子晶体 JO~62='J  
6.3.1电子束光刻工艺 9&s>RJ  
6.3.2普通硅刻蚀技术 }/jWa|)f  
6.3.3时间复用刻蚀 /&l4 sF1  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 )ib$*dmUP  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 }4?z<.V  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 xrkR)~ E  
6.4.2负折射 xEufbFAN?  
6.5未来应用前景 k|$?b7)"@  
参考文献 
QE721y   
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 .&n!4F'  
7.1对称性、拓扑性和PBG yoM^6o^
,D  
7.2金属光子晶体 UDPn4q  
7.3金属结构的可加工性 v=DC3oh-  
7.4三维光子晶体的制造 3il$V78|  
7.5胶体模板法 4r#4h4`y|  
7.6微光刻工艺 |{MXDx  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 ^JGwCHeb|H  
7.8膜层应力 27MwZz  
7.9对准 Xm<|m#  
7.10表面粗糙度 rx@2Dmt6  
7.11侧壁轮廓 s%G%s,d  
7.12释放刻蚀 s0DT1s&  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 9xeg,
#1  
7.14结论 8YQ7XB  
致谢 9)uJ\NMy
 
参考文献