微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。
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《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 '< ]:su+  
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目录 Y1a[HF^-  
译者序 }:u" ?v=|j  
前言 7%?2>t3~  
第1章面浮雕衍射光学元件 9{{QdN8  
1.1制造方法 0yW#).D^b  
1.2周期和波长比 w~J 7|8Y  
1.3光栅形状 %bo0-lnp  
1.4深度优化 C"bG?Mb  
1.5错位失对准 mG4myQ?$  
1.6边缘圆形化 QC7Ceeh]4  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 R;,&s!\<  
1.8表面纹理结构 Uc,D&Og  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 H..g2;
D  
1.10太阳电池的表面纹理结构 / fBi9=}+  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 P7GuFn/p~2  
1.12成形金属基准层的制造工艺 _2Sb?]Xn  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 SS?^-BI  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 9(?9yFbj5  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 W7I.S5  
致谢 ]
v=*WK  
参考文献 +2%ih!  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 z-<091,  
2.1概述和回顾 >]N}3J}47g  
2.2基本的刻蚀处理技术 ~hi\*W6jg  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 );T0n  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 j)4:*R.Z]  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 xWk:7,/  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 z3!j>X_w  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 +a$'<GvP  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 m0xL'g6F  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 r':wq
 
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 'n`+R~Kkh  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 mQ 1)d5  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 r*#ApM"L  
致谢 (XtN3FTY  
参考文献 -2NXQ+m ;  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 SMHQo/c r  
3.1概述 e~#;ux  
3.2相位掩模技术 [RtTi<F^  
3.3光学元件的设计和制造 "YU<CO;4VV  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 l ;"v&?  
3.3.2相位掩模的设计 [?rK9I&  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 ML6Y_|6 |  
3.4轴对称元件的设计和制造 nx#0*r}5  
3.5结论 ks92-%
;:  
参考文献 E(J@A'cX  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 RT
N?[`  
4.1概述 p=F!)TnJN  
4.2电子束光刻术 4DhG
p  
4.2.1电子束光刻术发展史 E`#m0Q(8  
4.2.2电子束光刻系统 I'&#pOB  
4.2.3电子束光刻技术 NfG<!  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 ?f@g1jJP  
4.3.1回顾 32yGIR
V  
4.3.2硅 12 y=Eh  
4.3.3砷化镓 ${(v Er#}k  
4.3.4熔凝石英 #-76E  
4.4光学器件加工实例 ^PwZP;On  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 s"u6po.'  
4.4.2熔凝石英微偏振器 &PY~m<F  
4.4.3砷化镓双折射波片 ~s.~X5  
4.5结论 +NIq}fZn9  
致谢 ZL!,s#  
参考文献 "R8:s  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 ITcgpK6k  
5.1概述 X.~z:W+  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 p mv6m  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 Ir%L%MuR]  
5.3.1纳米压印组件和工艺 "Zk# bQ2j  
5.3.2纳米压印设备 _v~c3y).  
5.4商业化器件的应用 G- _h 2  
5.4.1通信用近红外偏振器 L{;Sc_  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 B4tC3r  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） 'i-6JG%  
5.4.4高亮度发光二极管 Hzm<KQ g  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 :bBLP7eyV  
5.4.6多层集成光学元件 9W^sq<tR  
5.4.7分子电子学存储器 'p%aHK{  
5.4.8光学和磁数据存储 m Acny$u  
5.5结论 g]kM7,/M  
致谢 g.L~Z1-  
参考文献 ?= G+L0t  
第6章平面光子晶体的设计和制造 0tA~Y26  
6.1概述 Sq#AnD6To  
6.2光子晶体学基础知识 4XL$I
*;4  
6.2.1晶体学术语 uD'yzR!]+  
6.2.2晶格类型 TA2HAMx)  
6.2.3计算方法 n $Nw/Vm  
6.3原型平面光子晶体 }kJfTsFS  
6.3.1电子束光刻工艺 _H{6{!=y  
6.3.2普通硅刻蚀技术 /l.:GH36f  
6.3.3时间复用刻蚀 '3%JhG)#  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 ;_$Q~X  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 5OHg%
^  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 *}F>c3x]  
6.4.2负折射 @`Fv}RY{  
6.5未来应用前景 b#uNdq3  
参考文献 |}^me7C,[  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 B#Q` !B4v  
7.1对称性、拓扑性和PBG fL xGaOT  
7.2金属光子晶体 {oXU)9vj  
7.3金属结构的可加工性 T]er_n  
7.4三维光子晶体的制造 J&P{7a  
7.5胶体模板法 2/WtOQIB  
7.6微光刻工艺 
@euH[<  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 GtuA94=!V&  
7.8膜层应力 |Do+=Gr$t@  
7.9对准 (M0"I1g|w  
7.10表面粗糙度 lw\+!}8(  
7.11侧壁轮廓 wDQ@$T^vh  
7.12释放刻蚀 ?g{--'L  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 L/J1;  
7.14结论 34*73WxK  
致谢 }Z/[ "  
参考文献