微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 axU!o /m>  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 ~ D3'-,n[  
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目录 n)`*{uv$  
译者序 WHE*NWz>q  
前言 u#J5M&#  
第1章面浮雕衍射光学元件 n=rPFpRLF  
1.1制造方法 lzS"NHs<g(  
1.2周期和波长比 T'Jw\u>"R  
1.3光栅形状 wQ.i
ld  
1.4深度优化 %5F=!(w  
1.5错位失对准 V3@^bc!  
1.6边缘圆形化 dhm;  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 8{?Oi'-|0  
1.8表面纹理结构 %HYC-TF#  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 8(Z*Vz uu  
1.10太阳电池的表面纹理结构 P7u5Ykc*  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 hC6$>tl  
1.12成形金属基准层的制造工艺 C8&)-v|  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 k(VA5upCs  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 {R1jysGtD  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 6"_FjS3Sl  
致谢 ;PS[VdV  
参考文献 *vBcT.|,  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 []LNNO],X  
2.1概述和回顾 BIcE3}dS8  
2.2基本的刻蚀处理技术 IUu[`\b=  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 d54>nycU~N  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 L]HY*e  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 (''`Ce  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 f0wQn09  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 Hk6Dwe[y  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 zhN'@Wj'_  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 hrcR"OZ~X  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 sBRw#xyS  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 t}'Oh}CG  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 $fnFi|-  
致谢 e
j!C^  
参考文献 <'GI<Hc  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 /1MO]u\  
3.1概述 w,`x(!&  
3.2相位掩模技术 NsJUruN  
3.3光学元件的设计和制造 U8<GD|  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 +(|T\%$DT  
3.3.2相位掩模的设计 n$b/@hp$z  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 =euoSH D
}  
3.4轴对称元件的设计和制造 SrHRpxy  
3.5结论 oz[E>%  
参考文献 vZXyc*  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 Ah)7A|0rT  
4.1概述 {SROg;vA  
4.2电子束光刻术 i 3?zYaT  
4.2.1电子束光刻术发展史 H%])>   
4.2.2电子束光刻系统 z ^a,7}4  
4.2.3电子束光刻技术 oPWvZI(\&  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 yiI&>J))  
4.3.1回顾 M:C*?;K:  
4.3.2硅 Wb*d`hzQ}  
4.3.3砷化镓 ld2\/9+n  
4.3.4熔凝石英 /"/$1F%{  
4.4光学器件加工实例 =VY[m-q5  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 L"('gc!W  
4.4.2熔凝石英微偏振器 %AW  
4.4.3砷化镓双折射波片 bLNQ%=FjO  
4.5结论 g7d)YUc  
致谢 zo]7#  
参考文献 ]Fjz+CGg  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 k ( R  
5.1概述 BHFWig*{  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 g<{~f  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 PU-;Q@< E  
5.3.1纳米压印组件和工艺 y4envjl0  
5.3.2纳米压印设备 L2K4nTA  
5.4商业化器件的应用 L{5zA5#m  
5.4.1通信用近红外偏振器 ^M?uv
{354  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 GbNVcP.ocP  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） Re.fS6y$>  
5.4.4高亮度发光二极管 XPX{c|]>.  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 O'5(L9,  
5.4.6多层集成光学元件 'VF9j\a  
5.4.7分子电子学存储器 T]E$H, p  
5.4.8光学和磁数据存储 Vw
v O@G7A  
5.5结论 @rVmr{UE  
致谢 >#>YoA@S  
参考文献 nre8 F  
第6章平面光子晶体的设计和制造 9prG@  
6.1概述 J.O;c5wL  
6.2光子晶体学基础知识 1` 9/[2z  
6.2.1晶体学术语 q .?D{[2  
6.2.2晶格类型 y
)(@  
6.2.3计算方法 >GZF\ER  
6.3原型平面光子晶体 "w_(p|cm=  
6.3.1电子束光刻工艺 zHx?-Q&3  
6.3.2普通硅刻蚀技术 &G'R{s&"  
6.3.3时间复用刻蚀 c"0CHrd  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 !TG"A
W  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 z2,rnm)Q  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 kW/ksz0)  
6.4.2负折射 wePMBL1P*  
6.5未来应用前景 *W i(%  
参考文献 g\6(ezUF*  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 1bvL  
7.1对称性、拓扑性和PBG dn`#N^Od  
7.2金属光子晶体 k"L_0HK  
7.3金属结构的可加工性 7f 7*id  
7.4三维光子晶体的制造 (r7~ccy4  
7.5胶体模板法 8(S'g+p  
7.6微光刻工艺 g[Yok`e[  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 \W$
>EH  
7.8膜层应力 n){\KIU/O  
7.9对准 ,@>B#%Nz  
7.10表面粗糙度 \w`Il"}V  
7.11侧壁轮廓 <Ojf&C^Z  
7.12释放刻蚀 .0s/O  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 'rd{fe_g!  
7.14结论 =>BT
]WK>  
致谢 oR3$A :!P=  
参考文献