微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 [^iQE  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 P)h
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目录 }sbh|#  
译者序 Idq&0<I  
前言 ^h q?E2-  
第1章面浮雕衍射光学元件 _;o)MTw|'  
1.1制造方法 m@|0iDS  
1.2周期和波长比 7d44i  
1.3光栅形状 (k{rn3,  
1.4深度优化 |sQC:y>  
1.5错位失对准 $L~?!u&N  
1.6边缘圆形化 qs96($  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 U"Gg ,  
1.8表面纹理结构 4Dd@&N  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 E?L^
L3s  
1.10太阳电池的表面纹理结构 J$9`[^pV  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 c ilo8x`  
1.12成形金属基准层的制造工艺 r8o9C  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 v[3QI7E3  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 \0K3TMl)J  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 RmR-uQU-c  
致谢 m :6.  
参考文献 Ec44JD  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 !B&OK&*  
2.1概述和回顾 WFl, u!"A  
2.2基本的刻蚀处理技术 3M5+!H  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 #84<aM  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 V^n?0^o  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 +pGkeZX  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 &#keI.,  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 Y[(U~l,a+  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 vG`;2laY  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 xJ2DkZ  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 W@X/Z8.(  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 Y|*a,H"_  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 k&|#(1CFY  
致谢 ?3f-"K_r  
参考文献 f
!|$!r*q  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 7W)*IJ  
3.1概述 Ia>07av  
3.2相位掩模技术 kOu C@~,  
3.3光学元件的设计和制造 %OI4}!z@l  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 *%[L @WF  
3.3.2相位掩模的设计 s)gUvS\  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 G*oqhep  
3.4轴对称元件的设计和制造 %K9 9_Cl3  
3.5结论 <)D)j[  
参考文献 X9|={ng)g#  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 ;x]CaG)f  
4.1概述 GmjTxNU@  
4.2电子束光刻术 bgi B*`z  
4.2.1电子束光刻术发展史 nfL-E:n=  
4.2.2电子束光刻系统 E46+B2_~zk  
4.2.3电子束光刻技术 jrF#DDH?I  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 J)*7JX  
4.3.1回顾 m2i'$
^a#  
4.3.2硅 z0yPBt1W  
4.3.3砷化镓 a9+l:c@  
4.3.4熔凝石英 W7\s=t\  
4.4光学器件加工实例 ;ui=7[Us  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 /t4#-vz  
4.4.2熔凝石英微偏振器 ZxDh94w/  
4.4.3砷化镓双折射波片 X(YR).a~  
4.5结论 lhp.zl  
致谢 ;J]
Lzh  
参考文献 +!@@55I-  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 q_J)68BR  
5.1概述 sI&|qK-(  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 AW6"1(D  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 2. t'!uwI  
5.3.1纳米压印组件和工艺 i]8+JG6  
5.3.2纳米压印设备 _?aI/D  
5.4商业化器件的应用 p7Q}xx  
5.4.1通信用近红外偏振器 r+yl{  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 $,s"c(pv[,  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） p+ki1!Ed  
5.4.4高亮度发光二极管 'yIz<o
 
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 #9's
^}i  
5.4.6多层集成光学元件 ZcP/rT3{^  
5.4.7分子电子学存储器 UP+4xG  
5.4.8光学和磁数据存储 U?WS\Jji3!  
5.5结论 +nOa&d\  
致谢 RTXl3 jq  
参考文献 A;ti$jy  
第6章平面光子晶体的设计和制造 )<>1Q{j@  
6.1概述 `P(Otr[6  
6.2光子晶体学基础知识 GIs *;ps7w  
6.2.1晶体学术语 DJ]GM|?  
6.2.2晶格类型 '1f:8  
6.2.3计算方法 n0T>sE-9  
6.3原型平面光子晶体 RaX:&PE  
6.3.1电子束光刻工艺 !!\OB6  
6.3.2普通硅刻蚀技术 O{Y_j&1  
6.3.3时间复用刻蚀 2B!Bogs  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 GcHy`bQbiX  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 r ?e''r  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 +{7/+Zz  
6.4.2负折射 @D3|Ak1  
6.5未来应用前景 K'DRX85F  
参考文献 Y/Dah*  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 aj\ zc I  
7.1对称性、拓扑性和PBG ?T (@<T  
7.2金属光子晶体 U~nW>WJ+.  
7.3金属结构的可加工性 .!><qVg  
7.4三维光子晶体的制造 :Qekv(z  
7.5胶体模板法 Y!0ZwwW  
7.6微光刻工艺 c_RAtM<n  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 0Xe?{!@a  
7.8膜层应力 ]NRQM8\  
7.9对准 PDQ\N
D  
7.10表面粗糙度 IMF9eS{
L  
7.11侧壁轮廓 o'hwyXy/S  
7.12释放刻蚀 {] Zet}2  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 )r +o51gp  
7.14结论 '(S@9%,aK1  
致谢 0;6^fiSY;  
参考文献