微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 =wPl;SDf!  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 %Ox*?l _  
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目录 tqAh&TW3+  
译者序 {b"V7vn,  
前言 #<S+E7uTs  
第1章面浮雕衍射光学元件 Aj;Z &  
1.1制造方法 7pMrYIP  
1.2周期和波长比 YbND2i  
1.3光栅形状 9h<];  
1.4深度优化 lDnF(  
1.5错位失对准 >>Z.]  
1.6边缘圆形化 |#LU"D  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 7;) T;X  
1.8表面纹理结构 8Sd<!  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 'mXf8   
1.10太阳电池的表面纹理结构 !<Ma9%uC{  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 1\=)b< y  
1.12成形金属基准层的制造工艺 M^AwOR7<  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 xqs{d&W  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 @Z&El:]3>  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 $d3al%Uo  
致谢 ]wMd!.lm-  
参考文献 0
D+[W5TB  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 P%A;EF~v  
2.1概述和回顾 0/S|h"-L  
2.2基本的刻蚀处理技术 }A\s`Hm  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 zRd^Uks  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 NGcd  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 P$ZIKkf  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 ~[l6;bn  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 4{=zO(>  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 D1rXTI$$  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 M{cF14cQ  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 Ri=:=oF
(  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 |T\`wcP`q  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 V
W:WB.K$  
致谢 (KtuikJ32^  
参考文献 xl8=y  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 e&sZ]{uD  
3.1概述 vikA  
3.2相位掩模技术 : 8dQ8p;  
3.3光学元件的设计和制造 XHs>Q>`  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 &YC Z L  
3.3.2相位掩模的设计 h+=xG|1R[5  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 @SeInew;`l  
3.4轴对称元件的设计和制造 "Zm**h.t  
3.5结论 B3|h$aKC  
参考文献 9'nM$a  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 5x856RQ'  
4.1概述 1W3+ng  
4.2电子束光刻术 Z>hS&B  
4.2.1电子束光刻术发展史 $/*19e~  
4.2.2电子束光刻系统 nb-]fa  
4.2.3电子束光刻技术 ere h!  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 UdO(9Jc5^  
4.3.1回顾 :5|'C
 
4.3.2硅 Q+@/.qJ  
4.3.3砷化镓 [PG#5.jwQ  
4.3.4熔凝石英 ykK21P,v  
4.4光学器件加工实例 Q^13KWvuV  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 O?\UPNb:K  
4.4.2熔凝石英微偏振器 $d0xJxM  
4.4.3砷化镓双折射波片 BN
i6I\wa  
4.5结论 ?.Iau/  
致谢 @jh\yjrW  
参考文献 (bhMo^3/*  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 )(b,v/:  
5.1概述 z`g4
<  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 T:FaD V{  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 (<GBhNj=c  
5.3.1纳米压印组件和工艺 03N|@Tu  
5.3.2纳米压印设备 p+
x}$&<|  
5.4商业化器件的应用 rtM29~c>@  
5.4.1通信用近红外偏振器 9;2{=,  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 E>LZw>^YJ  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） ;OC~,?O5  
5.4.4高亮度发光二极管 #/N;ScyUJT  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 `U4e]Qh/+  
5.4.6多层集成光学元件 A-"2sp*t  
5.4.7分子电子学存储器 -Cn x!g}  
5.4.8光学和磁数据存储 C2e.RTxc  
5.5结论 j(aok5:e  
致谢 QC\r|RXW  
参考文献 m8}c(GwcP  
第6章平面光子晶体的设计和制造 % 9Jx|  
6.1概述 M=rH*w{^  
6.2光子晶体学基础知识 (JMk0H3u  
6.2.1晶体学术语 r4MPs-}oF  
6.2.2晶格类型 DP@F-Q4  
6.2.3计算方法 ZNfQM&<d  
6.3原型平面光子晶体 kB#;s  
6.3.1电子束光刻工艺 
c"*xw8|  
6.3.2普通硅刻蚀技术 1&Z#$iD  
6.3.3时间复用刻蚀 P~}Yj@2  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 xg(*j[ff3  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 shkyN  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 !)r1zSY"g  
6.4.2负折射 4De2miq  
6.5未来应用前景 t,w'w_C  
参考文献 _ASyGmO{  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 y.>1r7  
7.1对称性、拓扑性和PBG %+pF4f8]  
7.2金属光子晶体 _^ZBSx09)  
7.3金属结构的可加工性 ,gO(zI-1  
7.4三维光子晶体的制造 TI5<' U)  
7.5胶体模板法 F[q)ME+`)  
7.6微光刻工艺 V$Zl]f$S  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 qtR/K=^i  
7.8膜层应力 MSqW {  
7.9对准 E!EENg  
7.10表面粗糙度 pQ,|l$^m  
7.11侧壁轮廓 <`)vp0  
7.12释放刻蚀 V}aZ}m{J  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 Au10]b  
7.14结论 byJR6f  
致谢 |=u }1G?  
参考文献