微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 ^T^U:Zdq  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 0Vy* 0\{S  
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目录 Iun!rv  
译者序 {MYlW0)~  
前言 BAt2m-  
第1章面浮雕衍射光学元件 uc7Y8iO  
1.1制造方法 WQ"ZQ  
1.2周期和波长比 Y6{p|F?&"  
1.3光栅形状 L~ 1Lv?  
1.4深度优化 
cRU.  
1.5错位失对准 N?87Bd  
1.6边缘圆形化 Ii[rM/sG  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 hj4A&`2  
1.8表面纹理结构 2ix_,yTO  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 bk^ :6>{K  
1.10太阳电池的表面纹理结构 xsAF<:S\  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 s|{K?s  
1.12成形金属基准层的制造工艺 -,4_ &V  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 -F5U.6~`!  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 4] DmgOru%  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 ao7|8[  
致谢 \ 2".Kb@=  
参考文献 |: nuT$(  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 AvV.faa  
2.1概述和回顾 Bq:@ [pCQ  
2.2基本的刻蚀处理技术 W%1fm/G0  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 -@J;FjrXmP  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 \LM'KD pP_  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 cwpDad[Kx  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 KrbNo$0%  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 _=}Y lR  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 Ke'bH  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 0!(Ii@m=N  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 j83p[qR7o  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 Tmw :w~  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 $B$=,^)3  
致谢 t-E'foYfr`  
参考文献 eY&UFe  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 EG9S? $  
3.1概述 vDBnWA  
3.2相位掩模技术 J-\b?Ra  
3.3光学元件的设计和制造 W}.4$f>  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 T-5T`awf  
3.3.2相位掩模的设计 Y%&6qt G  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 ;'<K}h
 
3.4轴对称元件的设计和制造 5<#H=A~(  
3.5结论 0kCUz  
参考文献 @
cjhri|vH  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 0p[$8SCJ  
4.1概述 F;~ #\X  
4.2电子束光刻术 01w=;Q  
4.2.1电子束光刻术发展史 <edAWc+  
4.2.2电子束光刻系统 X2Lhb{ZHE  
4.2.3电子束光刻技术 G&Cl:CtC  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 uF^+}Y ZT  
4.3.1回顾 qC3 rHT]  
4.3.2硅 xH'H! 8  
4.3.3砷化镓 47icy-@kg  
4.3.4熔凝石英 Dt+"E  
4.4光学器件加工实例 f}+G;a9Nj  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 ~F' $p  
4.4.2熔凝石英微偏振器 "3hw]`a}  
4.4.3砷化镓双折射波片 'Y&yt"cs  
4.5结论 FlkAo]  
致谢 o oS4F1ta  
参考文献
PGw"\-F  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 0{B5C[PTG  
5.1概述 !-;Me&"I=`  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 s]2k@3|e  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 GN~:rdd  
5.3.1纳米压印组件和工艺 S$$:G$j  
5.3.2纳米压印设备 4ErDGYg}  
5.4商业化器件的应用 ,g6.d#c  
5.4.1通信用近红外偏振器 1DLQZq  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 zJx<]=]  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） Xbu >8d?n  
5.4.4高亮度发光二极管 goHr#@  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 J#X7Ss  
5.4.6多层集成光学元件 bMv9f J  
5.4.7分子电子学存储器 mS);bs  
5.4.8光学和磁数据存储 ;N/c5+  
5.5结论 =1esUO[nx  
致谢 ~XZ1,2jA/  
参考文献 Hu'c)|~f  
第6章平面光子晶体的设计和制造 >T(f  
6.1概述 m|-O/6~  
6.2光子晶体学基础知识 eFeeloH?e*  
6.2.1晶体学术语 AX1\L|tJS  
6.2.2晶格类型 F-=er e  
6.2.3计算方法 ,3Wa~\/Q  
6.3原型平面光子晶体 g^]Q*EBa  
6.3.1电子束光刻工艺 x/4lD}Pw]  
6.3.2普通硅刻蚀技术 v =u|D$  
6.3.3时间复用刻蚀 Y&j6;2-Z  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 iYnw?4Y  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 I{RktO;1  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 2'x_zMV  
6.4.2负折射 yk#:.5H  
6.5未来应用前景 ZRX>SyM
 
参考文献 TIvLY5 HG  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 ZU:gNO0  
7.1对称性、拓扑性和PBG $OUa3!U_!  
7.2金属光子晶体 +0=RC^   
7.3金属结构的可加工性 >"Hj=?  
7.4三维光子晶体的制造 HSUr  
7.5胶体模板法 r1=Zoxc=w  
7.6微光刻工艺 Z6 aT%7}}  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 Xpa;F$VI  
7.8膜层应力 Tok"-
$`N  
7.9对准 a;h:o>Do5  
7.10表面粗糙度 )Z^(+  
7.11侧壁轮廓 >Ek`P
VPD  
7.12释放刻蚀 $>BP}V33  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 =_wgKXBFa  
7.14结论 )pvZM?  
致谢 s0`uSQ2X  
参考文献