微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 f1AO<>I;  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。  |\FJ  
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目录 xey?.2K1A  
译者序 h9Tst)iRi  
前言 &8HJ4Vj2  
第1章面浮雕衍射光学元件 T_j0*A$  
1.1制造方法 {W'{A  
1.2周期和波长比 "G!,gtA~  
1.3光栅形状 RPw1i*  
1.4深度优化
+2#pP  
1.5错位失对准 Bo4iX,zu  
1.6边缘圆形化 wBCBZs$H  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 a(_3271  
1.8表面纹理结构 D\Fu4Eg  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 9Xe|*bT
  
1.10太阳电池的表面纹理结构 ZdJQ9y  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 R-6km Tex>  
1.12成形金属基准层的制造工艺 ~? n)/i("  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 ]#;u]  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 0zpA<"S  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 _b! TmS#F1  
致谢 +{\b&q_  
参考文献 !DBaC%TGC  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 o4H'  
2.1概述和回顾 H<Zs2DP`  
2.2基本的刻蚀处理技术 :M$8<03>F  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 /6FPiASbS  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 %'MR;hQsd8  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 ]RuH6d2d|  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 vMYEP_lhK,  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 eC='[W<a.  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 ]t-B-(D  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 XZ4H(Cj  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 $aY:Z_s  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 _]M:  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 2{01i)2y  
致谢 ,#.9^J  
参考文献 b?:SCUI  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 eY\!}) 5  
3.1概述 Q[.d  
3.2相位掩模技术 Mb+CtI_'  
3.3光学元件的设计和制造 'ALe>\WO  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 s x)x7  
3.3.2相位掩模的设计 @rlL'|&X*  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 {^@qfkZ
z^  
3.4轴对称元件的设计和制造 .~%,eF;l$  
3.5结论 |#5_VEG  
参考文献 sf,9Ym  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 M5{vYk>,1Q  
4.1概述 }4_c~)9Q  
4.2电子束光刻术 `cqZ;(^  
4.2.1电子束光刻术发展史 M(.]?+  
4.2.2电子束光刻系统 eB5<N
?;s  
4.2.3电子束光刻技术 yHxi^D]  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 -hKtd3WbT  
4.3.1回顾 +||[H)qym  
4.3.2硅 ]Czq A c  
4.3.3砷化镓 e:(~=9}Li  
4.3.4熔凝石英 A[N>T\  
4.4光学器件加工实例 z1LY|8$G  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 nEh^{6  
4.4.2熔凝石英微偏振器 :s
nn-e0l  
4.4.3砷化镓双折射波片 UpqDGd7M  
4.5结论 y0 qq7Dmu  
致谢 lPn&,\9@~  
参考文献 (=w ff5U  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 )}SiM{g  
5.1概述 *Bx'g| u  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 &:Sb$+z  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 f
c9gi4y9  
5.3.1纳米压印组件和工艺 ?]2OT5@&s  
5.3.2纳米压印设备 * TR~>|  
5.4商业化器件的应用 f2FGod<CzN  
5.4.1通信用近红外偏振器 4W+%`x_U]  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 mNApFwZ  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） o/p'eY:)  
5.4.4高亮度发光二极管 et :v4^*f  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 c$]NXKcA  
5.4.6多层集成光学元件 *,oZ]!   
5.4.7分子电子学存储器 l|K`'YS!<{  
5.4.8光学和磁数据存储 ^<nN~@
j  
5.5结论 -cnlj  
致谢 +hd1|qa4  
参考文献 U-GV^j  
第6章平面光子晶体的设计和制造 o)IcAqN$H  
6.1概述 AZ
adNuL/  
6.2光子晶体学基础知识 0 ;ov^]  
6.2.1晶体学术语 m#(ve1E  
6.2.2晶格类型 Ow7I`#P  
6.2.3计算方法 rFR2c?j8  
6.3原型平面光子晶体 sTGe=}T8  
6.3.1电子束光刻工艺 *oz=k  
6.3.2普通硅刻蚀技术 QTjOLK$e$  
6.3.3时间复用刻蚀 i4oBi]$T  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 #L,5;R{`  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 -Fs^^={Q  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 ]qk/V:H:  
6.4.2负折射 L8j#lu  
6.5未来应用前景 wq"AWyu  
参考文献 =m=utd8  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 >SZ9,K4Gs  
7.1对称性、拓扑性和PBG G0eJ<*|_ 3  
7.2金属光子晶体 zwKm;;v8  
7.3金属结构的可加工性 CmPix]YMQ  
7.4三维光子晶体的制造 P=9Zm  
7.5胶体模板法 /A) v$Bv=  
7.6微光刻工艺 `?L-{VtM3*  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 :}18G}B  
7.8膜层应力 }qOC*k:  
7.9对准 |_;Vb  
7.10表面粗糙度 '((Ll  
7.11侧壁轮廓 ;.r >  
7.12释放刻蚀 }AfK=1yOa  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 !S',V&Yb  
7.14结论 ;{~F7:i  
致谢 6\9 9WQ  
参考文献