微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 jG :R\D}0  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 0-HE, lv  
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目录 z+I-3v  
译者序 ]f~YeOB@  
前言 l$KcS&{w9  
第1章面浮雕衍射光学元件 `pUArqf  
1.1制造方法 0^z$COCv  
1.2周期和波长比 7mNskb|  
1.3光栅形状 uSjMqfK  
1.4深度优化 ?Sxnq#r#  
1.5错位失对准 G9q0E|  
1.6边缘圆形化 ISmnZ@  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 5i?U-  
1.8表面纹理结构 Uo ,3 lMr  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 N~d]}J8}gx  
1.10太阳电池的表面纹理结构 Nb1la
wC  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 uBgHtjmae  
1.12成形金属基准层的制造工艺 swA"_A8>u  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 .Ps;O  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 CcTJCuOS  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 ja
2]VbB  
致谢 "kC>EtaX  
参考文献 3!L)7Z/  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 ;|y,bo@sJJ  
2.1概述和回顾 '5--eYG  
2.2基本的刻蚀处理技术 uzsN#'7=  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 5P!17.W'u  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 0a'y\f:6*  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 HvTQycG  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 0*/~9n-Vl  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 RYNzTA  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 {cA )jW\'  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 x{}m)2[Y  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 ?`>yl4  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 C*!_. <b  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 n6}1{\  
致谢 E \
RU[  
参考文献 KI{u:Lbi  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 Jd;1dYkH:  
3.1概述 LzfLCGA^  
3.2相位掩模技术 &.,OvVAo  
3.3光学元件的设计和制造 /a_|oCeC}  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 dEiX!k$#  
3.3.2相位掩模的设计 8] 
*{i  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 AVjtK  
3.4轴对称元件的设计和制造 N_0O""d  
3.5结论  2~)]E#9  
参考文献 )94R\f  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 =DgD&_  
4.1概述 UPC& O  
4.2电子束光刻术 :Us-^zVr  
4.2.1电子束光刻术发展史 cPXvTVvs  
4.2.2电子束光刻系统 0)NHjKP  
4.2.3电子束光刻技术 ".u?-xcbJ  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 r/e&}!  
4.3.1回顾 `dK\VK^  
4.3.2硅 M: 6cma5  
4.3.3砷化镓 \Mi< ROp5  
4.3.4熔凝石英 `6A"eDa  
4.4光学器件加工实例 n7G$gLX  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 lV?SvXe
 
4.4.2熔凝石英微偏振器 lVdExR>H  
4.4.3砷化镓双折射波片 *Pl[a1=o  
4.5结论 o\#C] pp  
致谢 {e^llfj$#  
参考文献 ) l)5^7=W  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 0)B+:  
5.1概述 5c#L6 dA)  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史  ,Y!)V  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 $ ]HIYYs  
5.3.1纳米压印组件和工艺 ;H^!yj5H  
5.3.2纳米压印设备 ~$$V=$&  
5.4商业化器件的应用 #/:[ho{JQ  
5.4.1通信用近红外偏振器 yZ{YIy~  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 O6pjuhMx  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） vcmS]$}  
5.4.4高亮度发光二极管 rcK*",>  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 + y^s 6j}  
5.4.6多层集成光学元件 <3qbgn>}b  
5.4.7分子电子学存储器 {1Qwwhov  
5.4.8光学和磁数据存储 P7o6B,9  
5.5结论 ~(8A&!#,!  
致谢 c(jA"K[|b  
参考文献 cZYX[.oIB  
第6章平面光子晶体的设计和制造 Rq7ksTo  
6.1概述 ubLLhf  
6.2光子晶体学基础知识 Czp:y8YX-  
6.2.1晶体学术语 5~kf:U%~  
6.2.2晶格类型 86_Zh5:  
6.2.3计算方法 Hq9(6w9w  
6.3原型平面光子晶体 m0P5a%D  
6.3.1电子束光刻工艺 fq(e~Aqw$  
6.3.2普通硅刻蚀技术 )_jO8)jB  
6.3.3时间复用刻蚀 q=bXHtU  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 ";~#epPkX  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 }S&{ &gh  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 E.}Zmr#H  
6.4.2负折射 V)]&UbEL|  
6.5未来应用前景 !cpBX>{w  
参考文献 WC4Il C  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 k@2gw]y"  
7.1对称性、拓扑性和PBG 82<L07fB  
7.2金属光子晶体 FD*y[A ?  
7.3金属结构的可加工性 ':,LZ A8A  
7.4三维光子晶体的制造 wFvilF V  
7.5胶体模板法 mVkn~LD:0  
7.6微光刻工艺 k\lj<v<vD  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 __9673y  
7.8膜层应力 Wp'\NFe8  
7.9对准 ~ce.&C7cR  
7.10表面粗糙度 6/z}-;,W'  
7.11侧壁轮廓 U +]ab  
7.12释放刻蚀 qgDBu\  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 >}9TdP/oT  
7.14结论 i~2>kxf;K1  
致谢 {ys_uS{c*  
参考文献