微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 4kx N<]  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 3!]rmZ-W  
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目录 WpvhTX  
译者序 M_DwUS1?  
前言 +ZP7{%  
第1章面浮雕衍射光学元件 t?FBG4  
1.1制造方法 kAUymds;O  
1.2周期和波长比 ECmW`#Otb)  
1.3光栅形状 $I?"lky  
1.4深度优化 4Z0]oIX  
1.5错位失对准 OjA,]Gv6  
1.6边缘圆形化 V0mn4sfs  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 a%0EiU  
1.8表面纹理结构 z F;K  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 iy.\=Cs$N  
1.10太阳电池的表面纹理结构 (TM,V!G+U~  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 @H8EWTZ  
1.12成形金属基准层的制造工艺 dWBA1p  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 ns4,@C$  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 f|gg  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 8z\xrY  
致谢 E]r?{t`]  
参考文献 owv[M6lbD  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 jebx40TA3  
2.1概述和回顾 Tid aa  
2.2基本的刻蚀处理技术 >9J:Uo1z  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 a 1*p*dM#  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 MolgwVd
 
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 xT2PyI_:  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 uyx 2;f  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 [Ch.cE_  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 G3
v5KmT  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 X@F
N|Rdh  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 Ax}JLPz5'  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 FpU>^'2]  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 DtnEi4h,  
致谢 xgtR6E^k  
参考文献 /Z4et'Lo  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 3Zh)]^  
3.1概述 ;dhQN}7  
3.2相位掩模技术 ?Mfw]z"\C)  
3.3光学元件的设计和制造 Etm?'  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 w4Z'K&d=  
3.3.2相位掩模的设计 ddR>7d}N  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 vZ Lf  
3.4轴对称元件的设计和制造 > Nr#O  
3.5结论 |EN
h)M8}r  
参考文献 +"VP-s0  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 ov
V'VcUs  
4.1概述 +ck}l2&#  
4.2电子束光刻术 Gs[XJ 5%`~  
4.2.1电子束光刻术发展史 $ME)#(  
4.2.2电子束光刻系统 1BEHw?dLU  
4.2.3电子束光刻技术 vvOV2n.WD  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 a[TMDU;(/4  
4.3.1回顾 Z/J y'$x  
4.3.2硅 5kXYeP3:  
4.3.3砷化镓 rrv%~giU  
4.3.4熔凝石英 <9 ;!3xG  
4.4光学器件加工实例 ig &Y  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 GPkpXVm  
4.4.2熔凝石英微偏振器 ,Y48[_ymm  
4.4.3砷化镓双折射波片 Y nZiTe@  
4.5结论 YK~%xo  
致谢 H>@+om  
参考文献 n(]-y@X0_  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 uW3!Yg@  
5.1概述 ,7b[!#?8  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 >F&47Yn  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 7VI*N)OZ8  
5.3.1纳米压印组件和工艺 S21,VpW\  
5.3.2纳米压印设备 mj@13$=  
5.4商业化器件的应用 N}YkMJy  
5.4.1通信用近红外偏振器 !{41!O,K#  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 0qT%!ku&  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） 7t_^8I%[  
5.4.4高亮度发光二极管 & ZB  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 Om {'1  
5.4.6多层集成光学元件 C"enpc_C/  
5.4.7分子电子学存储器 8-6L|#J#  
5.4.8光学和磁数据存储 {FTqu.  
5.5结论 \D&KC,i5f  
致谢 B?o7e<l[  
参考文献 SK
.: Q5:  
第6章平面光子晶体的设计和制造 \5cpFj5%  
6.1概述 OK gqT!  
6.2光子晶体学基础知识 jlg(drTo  
6.2.1晶体学术语 (_{yB[z>`  
6.2.2晶格类型 4nz35BLr  
6.2.3计算方法 @ur+;IK$  
6.3原型平面光子晶体 6\S~P/PkE  
6.3.1电子束光刻工艺 ua `
RJ
 
6.3.2普通硅刻蚀技术 7T'B6`-Ox  
6.3.3时间复用刻蚀 3DG_QVg^v  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 /|#fejPh  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 f:P}*^ Gw  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 8e"gW >f  
6.4.2负折射 0Fr?^3h  
6.5未来应用前景 IdxzE_@  
参考文献 pFz`}?c0  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 <_KIK  
7.1对称性、拓扑性和PBG ;IM}|2zuN  
7.2金属光子晶体 k.15CA`  
7.3金属结构的可加工性 F1Bq$*'N$w  
7.4三维光子晶体的制造 ,3 u}x,  
7.5胶体模板法 {2"zVt#h  
7.6微光刻工艺 e64^ChCoV  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 h3@v+Z<}  
7.8膜层应力 Mh 7DV  
7.9对准 @!d{bQd,  
7.10表面粗糙度 7 x?<*T  
7.11侧壁轮廓 9k[9P;"F:  
7.12释放刻蚀 GNJj=1Lsd  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 ^L&iR0  
7.14结论 mUx+Y]Ep  
致谢 _2 osV[e  
参考文献