《国际信息工程先进技术译丛:微
光学和
纳米光学
制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺,重点强调了关键性的专业技巧,提供了最新的技术信息,内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的
模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法。
m+ #G* 《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家,代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、
光学设计和光机结构设计(尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究)的工程师使用,也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。
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(?.h<v1} yV&]i-ey 目录
a<((\c_8G 译者序
]a:T]x6' 前言
hWX4 P 第1章面浮雕衍射光学元件
5\}QOL 1.1制造方法
!8RJHMX& 1.2周期和
波长比
!Uhc jfq`e 1.3光栅形状
7a.iT-* 1.4深度
优化 V@1,((,l 1.5错位失对准
?b]f$
2 1.6边缘圆形化
;BHIss7 1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化
ZMK1V)ohn 1.8表面纹理结构
S@4bpnhK 1.9熔凝石英表面的纹理结构
bF +d_t 1.10太阳
电池的表面纹理结构
KT<N
;[; 1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法
}j\8|UG 1.12成形金属基准层的制造工艺
wMM1Q/-# 1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀
a3He-76 1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀
W,nn,% 1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀
=[gFaB_H 致谢
$! g~pV 参考文献
oV~S4|9: 第2章微光学等离子体刻蚀加工技术
Z/;8eb*B7 2.1概述和回顾
Imo?)dYK 2.2基本的刻蚀处理技术
Nk9w;
z& 2.3玻璃类
材料的刻蚀工艺
J]Q-#g'Z 2.4硅材料微光学结构的刻蚀
u:^9ZQ+ 2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺
@DAaCF8 2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件
4 %u\dTg/B 2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺
,JJ1sf2A 2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用
i \ .&8 2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6
of`WP 2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺
,awkL
: 2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺
2d&HSW 2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术
g{m~TVm' 致谢
m`@~ZIa?>B 参考文献
C{V,=Fo^ 第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术
A5G@u}YS5 3.1概述
#}UI 3.2相位掩模技术
`3dGn.M 3.3光学元件的设计和制造
os+]ct 3.3.1光致抗蚀剂的性质
krXU*64 3.3.2相位掩模的设计
GGGz7_s
? 3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺
"
_TAo 3.4轴对称元件的设计和制造
2o0WS~}5 3.5结论
?A 5;" 参考文献
4&B|rf 第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术
M7(]NQ\TQ 4.1概述
-TyBb] 4.2电子束光刻术
F Zk[w>{ 4.2.1电子束光刻术发展史
z*N%kcw" 4.2.2电子束光刻
系统 h-*h;Uyc 4.2.3电子束光刻技术
<I2~>x5db 4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术
Ga;Lm?6- 4.3.1回顾
>i2WYT 4.3.2硅
DM{Z#b] 4.3.3砷化镓
(i]0IYMXy* 4.3.4熔凝石英
:)k|Onz 4.4光学器件加工实例
Qgl5Jr. 4.4.1熔凝石英自电光效应器件
_2<d6@} 4.4.2熔凝石英微偏振器
ban;HGGNG{ 4.4.3砷化镓双折射波片
N9O}6 4.5结论
9]a!1 致谢
HU-#xK 参考文献
%D+NrL( 第5章纳米压印光刻技术和器件应用
MAgoxq~;V 5.1概述
OUm,;WNLf 5.2压印图形化和压印光刻术的发展史
sfCU"O2G 5.3纳米压印光刻术的相关概念
4?aNJyV%& 5.3.1纳米压印组件和工艺
snny!
0E\m 5.3.2纳米压印设备
EB5^eNdL 5.4商业化器件的应用
12 bztlv 5.4.1通信用近红外偏振器
],f%:
?%50 5.4.2投影显示用可见光偏振器
L^jhr>-"; 5.4.3光学读取装置的光学波片(CD\DVD)
-$(2Z[ 5.4.4高亮度发光二极管
B|-W 5.4.5微光学(微
透镜阵列)和衍射光学元件
y~rtYI
5.4.6多层集成光学元件
V}q=!zz 5.4.7分子电子学存储器
^FK-e;J 5.4.8光学和磁数据存储
W_|7hwr 5.5结论
>]?!9@#IH 致谢
OJ)XJL 参考文献
x)e(g}n 第6章平面光子晶体的设计和制造
/#e-x|L 6.1概述
!l1jQq_mK 6.2光子晶体学基础知识
OH vV_ 6.2.1晶体学术语
h%U,g
9_ 6.2.2晶格类型
c.;<+dYsm* 6.2.3计算方法
++d[YhO 6.3原型平面光子晶体
5Fa/Q>N 6.3.1电子束光刻工艺
X"v)9p 6.3.2普通硅刻蚀技术
7iH%1f 6.3.3时间复用刻蚀
I<$m% 6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺
w;V+)r?w 6.4基于色散特性的平面光子晶体
UAtdRVi]M 6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导
G8OnNI 6.4.2负折射
p~Mw^SN' 6.5未来应用前景
4tFnZ2x 参考文献
Wvwjj~HP2} 第7章三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法
wZ~eE'zx+ 7.1对称性、拓扑性和PBG
qUG)+~g` 7.2金属光子晶体
6G?7>M 7.3金属结构的可加工性
!FbW3p f 7.4三维光子晶体的制造
3qrjb]E%} 7.5胶体模板法
rA1;DSw6E[ 7.6微光刻工艺
~{np G 7.7利用“模压”技术制造光子晶体
604^~6 7.8膜层应力
J"yq)0 7.9对准
p`oHF 5 7.10表面粗糙度
9lSs;zm{Q 7.11侧壁轮廓
}wV/)Oy[ 7.12释放刻蚀
@i@f@.t 7.13测量方法、测试工具和失效模式
Y
j*Y*LB~ 7.14结论
xU$15|ny 致谢
j79$/ Ol
参考文献