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    [书籍]微光学和纳米光学制造技术 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2012-09-29
    关键词: 光学纳米制造
    《国际信息工程先进技术译丛:微光学纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺,重点强调了关键性的专业技巧,提供了最新的技术信息,内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法。 z59J=?|  
    《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家,代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计(尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究)的工程师使用,也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 XePBA J  
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    目录 T,>e\  
    译者序 #9Z-Hd<  
    前言 %L.+r!.  
    第1章面浮雕衍射光学元件 *[n^6)  
    1.1制造方法 i[#Tn52D  
    1.2周期和波长 V|7CYkB8  
    1.3光栅形状 Pme?`YO$x  
    1.4深度优化 Um<vsR  
    1.5错位失对准 mNKa~E  
    1.6边缘圆形化 rOT8!"  
    1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 FU3B;Fn^Z(  
    1.8表面纹理结构 < .!3yy  
    1.9熔凝石英表面的纹理结构 0f1#T gX  
    1.10太阳电池的表面纹理结构 _3S{n=9  
    1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 1 Y& d%AA  
    1.12成形金属基准层的制造工艺 _I!&w!3oM  
    1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 *Rd&4XG  
    1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 6 -}gqkR  
    1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 [4e5(!e  
    致谢 &EOh}O<  
    参考文献 {9MYEN}FO  
    第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 r N7"%dx  
    2.1概述和回顾 ~T~v*'_h  
    2.2基本的刻蚀处理技术 ehq6.+l  
    2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 W]OT=6u8o  
    2.4硅材料微光学结构的刻蚀 IpxjP\  
    2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 Y')+/<Q2E  
    2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 M&dtXG8<^  
    2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 DV l: s  
    2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 Apn#o2  
    2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 e+[J9;g  
    2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 G w[&P%  
    2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 i_"I"5pBF  
    2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 nC^'2z  
    致谢 [6|vx},N  
    参考文献 "6i9f$N  
    第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 TfPx   
    3.1概述 \bfHGo=  
    3.2相位掩模技术 _f`m/l  
    3.3光学元件的设计和制造 (Wn'.|^%  
    3.3.1光致抗蚀剂的性质 !MC W t  
    3.3.2相位掩模的设计 q}jf&xUWzH  
    3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 c z|IBsa*  
    3.4轴对称元件的设计和制造 w3@ te\  
    3.5结论 @j6D#./7j  
    参考文献 0CROq}  
    第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 u#\3T>o%@  
    4.1概述 $gNCS:VG*  
    4.2电子束光刻术 sAN#j {  
    4.2.1电子束光刻术发展史 }W<L;yD  
    4.2.2电子束光刻系统 ~#@EjQCq  
    4.2.3电子束光刻技术 m_B5M0},  
    4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 abND#t  
    4.3.1回顾 VsC]z, oV  
    4.3.2硅 s@$AYZm_  
    4.3.3砷化镓 o;.-I[9h]  
    4.3.4熔凝石英 ;%1^k/b6t  
    4.4光学器件加工实例 e([&Nr8h  
    4.4.1熔凝石英自电光效应器件 ZLkJYZk  
    4.4.2熔凝石英微偏振器 D1f=f88/}  
    4.4.3砷化镓双折射波片 0`W~2ai  
    4.5结论 v>XE]c_  
    致谢 Ssj'1[%  
    参考文献 ^tv*I~>J!  
    第5章纳米压印光刻技术和器件应用 gJ])A7O  
    5.1概述 j!s&yHE1  
    5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 ? _W*7<  
    5.3纳米压印光刻术的相关概念 S;])Nt'X'  
    5.3.1纳米压印组件和工艺 6]Jv3Re'(I  
    5.3.2纳米压印设备 ^6*? a9jO>  
    5.4商业化器件的应用 ' |Oi#S  
    5.4.1通信用近红外偏振器 3X:F9x>y  
    5.4.2投影显示用可见光偏振器 g=pDC+  
    5.4.3光学读取装置的光学波片(CD\DVD) J0#% *B  
    5.4.4高亮度发光二极管 Q-"FmD-Yw  
    5.4.5微光学(微透镜阵列)和衍射光学元件 _5zR!|\^  
    5.4.6多层集成光学元件 6-3l6q  
    5.4.7分子电子学存储器 "rXGXQu  
    5.4.8光学和磁数据存储 Cn,jLy  
    5.5结论 BWs\'B  
    致谢 % ;<FfS  
    参考文献 {t 7 M  
    第6章平面光子晶体的设计和制造 UW+I 8\^  
    6.1概述 8p FSm>  
    6.2光子晶体学基础知识 ql#K72s  
    6.2.1晶体学术语 U0rz 4fxc  
    6.2.2晶格类型 pQp}HD!-  
    6.2.3计算方法 J.-#:OZ  
    6.3原型平面光子晶体 3 !,%;Vz=  
    6.3.1电子束光刻工艺 ' 9,}N:p  
    6.3.2普通硅刻蚀技术 \||PW58j  
    6.3.3时间复用刻蚀 , ?%`Ky/  
    6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 j<!$ug9VA  
    6.4基于色散特性的平面光子晶体 _ehU:3L`s  
    6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 =3"Nn4Z  
    6.4.2负折射 j.z#fU  
    6.5未来应用前景 yR`-rJb V  
    参考文献 1kpI?Plki  
    第7章三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法 @ +7'0[y?  
    7.1对称性、拓扑性和PBG )S%mKdOm $  
    7.2金属光子晶体 y>G{GQ  
    7.3金属结构的可加工性 _uBf.Qfs  
    7.4三维光子晶体的制造 !B\\:k]aO^  
    7.5胶体模板法 #NqA5QR  
    7.6微光刻工艺 tly:$;K  
    7.7利用“模压”技术制造光子晶体 $exu}%  
    7.8膜层应力 A$5T3j'  
    7.9对准 [p <L*3<  
    7.10表面粗糙度 $]Q_x?  
    7.11侧壁轮廓 8\yH 7H  
    7.12释放刻蚀 0trFLX  
    7.13测量方法、测试工具和失效模式 / g&mDYV|  
    7.14结论 JK1b 68n  
    致谢 =v_ju;C=  
    参考文献
     
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