《国际信息工程先进技术译丛:微
光学和
纳米光学
制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺,重点强调了关键性的专业技巧,提供了最新的技术信息,内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的
模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法。
^T^U:Zdq 《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家,代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、
光学设计和光机结构设计(尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究)的工程师使用,也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。
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7zQD.+&L ?kS5=&< 本帖为实体书购买信息推荐,暂无电子文档!
=797;|B H #"7:NR^H^ 目录
Iun!rv 译者序
{MYlW0)~ 前言
BAt2m- 第1章面浮雕衍射光学元件
u c7Y8iO 1.1制造方法
WQ"ZQ 1.2周期和
波长比
Y6{p|F?&" 1.3光栅形状
L~ 1Lv? 1.4深度
优化 cRU. 1.5错位失对准
N?87Bd 1.6边缘圆形化
Ii[rM/sG 1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化
hj4A&`2 1.8表面纹理结构
2ix_,yTO 1.9熔凝石英表面的纹理结构
bk^ :6>{K 1.10太阳
电池的表面纹理结构
xsAF<:S\ 1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法
s|{K?s 1.12成形金属基准层的制造工艺
-,4_ &V 1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀
-F5U.6~`! 1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀
4]
DmgOru% 1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀
a o7|8[ 致谢
\
2".Kb@= 参考文献
|:
nuT$( 第2章微光学等离子体刻蚀加工技术
AvV.faa 2.1概述和回顾
Bq:@ [pCQ 2.2基本的刻蚀处理技术
W%1fm/G0 2.3玻璃类
材料的刻蚀工艺
-@J;FjrXmP 2.4硅材料微光学结构的刻蚀
\LM'KD pP_ 2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺
c wpDad[Kx 2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件
KrbNo$0% 2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺
_=}Y
lR 2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用
Ke'bH 2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6
0!(Ii@m=N 2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺
j83p[qR7o 2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺
Tmw
:w~ 2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术
$B$=,^)3 致谢
t-E'foYfr` 参考文献
eY&UFe 第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术
EG9S?
$ 3.1概述
vDBnWA 3.2相位掩模技术
J-\b?Ra 3.3光学元件的设计和制造
W}.4$f> 3.3.1光致抗蚀剂的性质
T-5T`awf 3.3.2相位掩模的设计
Y%&6qt G 3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺
;'<K}h 3.4轴对称元件的设计和制造
5<#H=A~( 3.5结论
0kCUz 参考文献
@cjhri|vH 第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术
0p[$8SCJ 4.1概述
F;~ #\X 4.2电子束光刻术
01w=;Q 4.2.1电子束光刻术发展史
<edAWc+ 4.2.2电子束光刻
系统 X2Lhb{ZHE 4.2.3电子束光刻技术
G&Cl:CtC 4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术
uF^+}Y ZT 4.3.1回顾
qC3 rHT] 4.3.2硅
xH'H!
8 4.3.3砷化镓
47icy-@kg 4.3.4熔凝石英
Dt+"E 4.4光学器件加工实例
f}+G;a9Nj 4.4.1熔凝石英自电光效应器件
~F' $p 4.4.2熔凝石英微偏振器
"3hw]`a} 4.4.3砷化镓双折射波片
'Y&yt"cs 4.5结论
FlkAo] 致谢
o oS4F1ta 参考文献
PGw"\-F 第5章纳米压印光刻技术和器件应用
0{B5C[PTG 5.1概述
!-;Me&"I=` 5.2压印图形化和压印光刻术的发展史
s]2k@3|e 5.3纳米压印光刻术的相关概念
GN~:rdd 5.3.1纳米压印组件和工艺
S$$:G$j 5.3.2纳米压印设备
4ErDGYg} 5.4商业化器件的应用
,g6.d#c 5.4.1通信用近红外偏振器
1DLQZq 5.4.2投影显示用可见光偏振器
zJx<]=] 5.4.3光学读取装置的光学波片(CD\DVD)
Xbu >8d?n 5.4.4高亮度发光二极管
goHr#@ 5.4.5微光学(微
透镜阵列)和衍射光学元件
J#X 7Ss 5.4.6多层集成光学元件
bMv9f
J 5.4.7分子电子学存储器
mS);bs 5.4.8光学和磁数据存储
;N/c 5+ 5.5结论
=1esUO[nx 致谢
~XZ1,2jA/ 参考文献
Hu'c)|~f 第6章平面光子晶体的设计和制造
>T(f 6.1概述
m|-O/6~ 6.2光子晶体学基础知识
eFeeloH?e* 6.2.1晶体学术语
AX1\L|tJS 6.2.2晶格类型
F-=er e 6.2.3计算方法
,3Wa~\/Q 6.3原型平面光子晶体
g^]Q*EBa 6.3.1电子束光刻工艺
x/4lD}Pw] 6.3.2普通硅刻蚀技术
v =u|D$ 6.3.3时间复用刻蚀
Y&j6;2-Z 6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺
iYnw?4Y 6.4基于色散特性的平面光子晶体
I{RktO;1 6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导
2'x_zMV 6.4.2负折射
yk#:.5H 6.5未来应用前景
ZRX>SyM 参考文献
TIvLY5 HG 第7章三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法
ZU:gNO0 7.1对称性、拓扑性和PBG
$OUa3!U_! 7.2金属光子晶体
+0=RC^ 7.3金属结构的可加工性
>"Hj=? 7.4三维光子晶体的制造
HSUr 7.5胶体模板法
r1=Zoxc=w 7.6微光刻工艺
Z6
aT%7}} 7.7利用“模压”技术制造光子晶体
Xpa;F$VI 7.8膜层应力
Tok"-$`N 7.9对准
a;h:o>Do5 7.10表面粗糙度
) Z^(+ 7.11侧壁轮廓
>Ek`PVPD 7.12释放刻蚀
$>BP}V33 7.13测量方法、测试工具和失效模式
=_wgKXBFa 7.14结论
)pvZM? 致谢
s0`uSQ2X 参考文献