微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 CP}0Ri)  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 [.M  
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目录 :g&>D#{  
译者序 VcP:}a< B\  
前言 yj>){NcX  
第1章面浮雕衍射光学元件 m^z,,t9  
1.1制造方法 l+oDq'[q"  
1.2周期和波长比 e!6eZ)l  
1.3光栅形状 Ec+22X  
1.4深度优化 r8sdzz%  
1.5错位失对准 $\+"qs)  
1.6边缘圆形化 ohtT O]\  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 D^N[=q99&e  
1.8表面纹理结构 !!9{U%s  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 ; /=
L  
1.10太阳电池的表面纹理结构  2mQOj$Lv  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 \{lE
0j7}h  
1.12成形金属基准层的制造工艺 nz>K{(  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 jn~!V!++  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 [ ynuj3G V  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 '\@WN]  
致谢 OqtQA#uL  
参考文献 So?m?,!W  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 y!F:m=x<  
2.1概述和回顾 2f `&WUe  
2.2基本的刻蚀处理技术 TWtC-wI;  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 bZu$0IG  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 jBS'g{y-!  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 <H!O:Mf_p  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 f:S}h-AL&  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 gUspGsfr  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 >n(F4C-pl  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 3<+z46`?  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 Q@3B{  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 R#D#{cC(  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 8'+7i8e  
致谢 uO"y`$C$_  
参考文献 <M=';h^w2  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 *]>])ms)  
3.1概述  K,6OGsh  
3.2相位掩模技术 9Kx<\)-GMD  
3.3光学元件的设计和制造 @bE~@4mOu  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 X`D+jiQ(f  
3.3.2相位掩模的设计 gXF.on4B  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 .ByU  
3.4轴对称元件的设计和制造 f'i6QMk\&  
3.5结论 N70zjy4?fL  
参考文献 y>)MAzz~\  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 4aA9\\hfGY  
4.1概述 Jb9F=s+  
4.2电子束光刻术 ?@>;/@  
4.2.1电子束光刻术发展史 p+vh[+yp  
4.2.2电子束光刻系统 qZ&a76t  
4.2.3电子束光刻技术 dt<~sOT3s  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 t|<FA#  
4.3.1回顾 MJA~jjy4  
4.3.2硅 F'rt>YvF
 
4.3.3砷化镓 G@B*E%$9  
4.3.4熔凝石英 )Y~xIj>  
4.4光学器件加工实例 %Sul4: D#  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 'd+
:D'  
4.4.2熔凝石英微偏振器 y)tYSTJK  
4.4.3砷化镓双折射波片 @"w2R$o  
4.5结论 FZH-q!"^cK  
致谢 BD4`eiu"  
参考文献 V!W1fb7V  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 jAZ >mo[  
5.1概述 p0Z:Wkz]  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 y #69|G  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 v~f'K3fLp  
5.3.1纳米压印组件和工艺 EDtCNqBS~2  
5.3.2纳米压印设备 &u=8r*  
5.4商业化器件的应用 m9woredS,  
5.4.1通信用近红外偏振器 "1K:/n  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 Qww^P/vm  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD）
l0:5q?g  
5.4.4高亮度发光二极管 x^X$M$o,l  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 &kiF/F 1  
5.4.6多层集成光学元件 EavX8r  
5.4.7分子电子学存储器 XddHP;x  
5.4.8光学和磁数据存储 _;7fraqX  
5.5结论 xG8`'SNY  
致谢 HS7_MGU  
参考文献 G0pBR]_5z$  
第6章平面光子晶体的设计和制造 ,z G(u 1  
6.1概述 %E aE,  
6.2光子晶体学基础知识 d@Q][7  
6.2.1晶体学术语 7OE[RX8!f  
6.2.2晶格类型 M7vj^mt?
 
6.2.3计算方法 HitAc8  
6.3原型平面光子晶体 rw]yKH  
6.3.1电子束光刻工艺 #)`\!)?  
6.3.2普通硅刻蚀技术 i5VG2S  
6.3.3时间复用刻蚀 
D'nL  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 Wy.";/C  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 ikIzhUWE  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 M/} a
q  
6.4.2负折射 pqH4w(;  
6.5未来应用前景 `36N n+A  
参考文献 :/i~y$t  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 Mi?}S6bp  
7.1对称性、拓扑性和PBG eC;!YGZ  
7.2金属光子晶体 RG&6FRoq  
7.3金属结构的可加工性 [%?y( q  
7.4三维光子晶体的制造 F"[3c6yF  
7.5胶体模板法 e3g_At\  
7.6微光刻工艺 hlC%HA  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 nj  
7.8膜层应力 A="fj  
7.9对准 l&Q!mU}  
7.10表面粗糙度 &[~[~m|  
7.11侧壁轮廓 N+J>7_k   
7.12释放刻蚀 fhr-Y'  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 8U=A{{0p  
7.14结论 7k~Lttuk  
致谢 Y"*:&E2)r  
参考文献