微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 !1tHg Z2\  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 R^
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目录 \Kp!G1?_AY  
译者序 2D;,
'  
前言 _d#1muZ?p|  
第1章面浮雕衍射光学元件  -a``  
1.1制造方法 (!72Eaw:]  
1.2周期和波长比 'D ,efTq  
1.3光栅形状 si:p98[w  
1.4深度优化 "HCJ!  
1.5错位失对准 >wz&{9ni  
1.6边缘圆形化 tC0:w,C)  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化
"P)f,n  
1.8表面纹理结构 LU
Gyc( h  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 Zl5cHejM  
1.10太阳电池的表面纹理结构 I}djDtJ  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 O)y|G%O  
1.12成形金属基准层的制造工艺 A"(XrL-pV  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 &cDLSnR  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 qPEtMvL #  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 J#h2~Hz!  
致谢 X]^FHYjhS  
参考文献 D=hy[sDBw  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 y0!-].5UH  
2.1概述和回顾 pCXceNFo  
2.2基本的刻蚀处理技术 ]ZV.@%+  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 KxyD{W1  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 ^P4q6BW  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 zX{O"w  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 Wpgp YcPS  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 rI/;L<c  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 ,$"*X-1  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 tPv3nh  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 /.54r/FN')  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 i2. +E&3v  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术  -&N^S?  
致谢 ,8~qnLy9  
参考文献 +m|S7yr'  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 {y5v"GR{YM  
3.1概述 L5(7;  
3.2相位掩模技术
Z>0a?=1[  
3.3光学元件的设计和制造 v:2*<;  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 m<7Ax>  
3.3.2相位掩模的设计 >3{#S:  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 B|\pzWD%  
3.4轴对称元件的设计和制造 /y8=r"'G  
3.5结论 N4]Sp v  
参考文献 DGR[2C)@N  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 xEW>7}+\  
4.1概述 #%Z 0!  
4.2电子束光刻术 Z7\}x"hk  
4.2.1电子束光刻术发展史 Y[_{tS#u  
4.2.2电子束光刻系统 <+7]EwVcn^  
4.2.3电子束光刻技术 T;7=05k<_  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 DC9\Sp?  
4.3.1回顾 |p4D!M+$7  
4.3.2硅 vy:-a G  
4.3.3砷化镓 ]2:w?+
T  
4.3.4熔凝石英 XH^X4W  
4.4光学器件加工实例 ,iUWLcOM  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 '?j[hhfB-  
4.4.2熔凝石英微偏振器 g
u~JB  
4.4.3砷化镓双折射波片 Ge'[AhA  
4.5结论 i5PZ)&  
致谢 QcW6o,  
参考文献 w
Sy|h*a,  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 y\a@'LFL  
5.1概述 BM~>=emc  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 a ~  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 P\jnht  
5.3.1纳米压印组件和工艺 pr;n~E 'kq  
5.3.2纳米压印设备 4q9+a7@  
5.4商业化器件的应用 ;u:A:Y4V  
5.4.1通信用近红外偏振器 ^bD)Tg5K  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 e
8Ul^]  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） cDkq@H:  
5.4.4高亮度发光二极管  $,b1`*  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 I{/}pr>  
5.4.6多层集成光学元件 M%yeI{m  
5.4.7分子电子学存储器 wBuos}/  
5.4.8光学和磁数据存储 "YC5viX  
5.5结论 G+_Q7-o&d6  
致谢 V4["+Y  
参考文献 [:hTwBRF  
第6章平面光子晶体的设计和制造 i%FpPni  
6.1概述 ;hf{B7  
6.2光子晶体学基础知识 A$JL"~R  
6.2.1晶体学术语 **,(>4j  
6.2.2晶格类型 8I>'xf  
6.2.3计算方法 l:@`.'-=  
6.3原型平面光子晶体 7>-"r*W +z  
6.3.1电子束光刻工艺 . r?URC  
6.3.2普通硅刻蚀技术 @K=:f  
6.3.3时间复用刻蚀 :@~Nszlb  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 qS9z0HLE  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 5bj9S  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 OMY^'g%w  
6.4.2负折射 Kggc9^ 7  
6.5未来应用前景 ! %~P[;.  
参考文献 Ye=c;0V(w  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 IYG,n
t!  
7.1对称性、拓扑性和PBG h,*-V 'X.k  
7.2金属光子晶体 (kYwD  
7.3金属结构的可加工性 ["u:_2!4P  
7.4三维光子晶体的制造 /bSAVSKR  
7.5胶体模板法 hZwbYvu  
7.6微光刻工艺 \yE*nZ  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 LBIsj}e  
7.8膜层应力 r\j*?m ]  
7.9对准 srGF=1_  
7.10表面粗糙度 %ij,xN  
7.11侧壁轮廓 Pb]EpyAW  
7.12释放刻蚀 nO
m-Yb+F  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 h,fC-+H5  
7.14结论 3oQ?
VP  
致谢 (i.7\$4  
参考文献