微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 RU GhhK  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 1$~W~O  
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目录 /I3>u  
译者序 fu?Y'Qet  
前言 HX:rVHY  
第1章面浮雕衍射光学元件 Y;WHjW(K  
1.1制造方法 )mMHwLDwH  
1.2周期和波长比 jB!Q8#&Q  
1.3光栅形状 U.HeIJ#  
1.4深度优化  7ehs+GI  
1.5错位失对准 :TzHI   
1.6边缘圆形化 _4jRUsvjY  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 hZ@Wl6FG;  
1.8表面纹理结构
5%n  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 DU/WB  
1.10太阳电池的表面纹理结构 -hIDL'5u-I  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 bl;C=n  
1.12成形金属基准层的制造工艺 NbtNu$%t  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 h&}XG\ioNA  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 %XieKL  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 @4N@cM0   
致谢 p%v+\T2r  
参考文献 1]uHaI(  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 T};fy+iq  
2.1概述和回顾 tK+K l
z  
2.2基本的刻蚀处理技术 y84=Q  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 ,!?&LdPt>  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 *MFsq}\ $  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 r-$SF5uv  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 )0I;+9:D=  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 cR+9^DzA  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 {$ghf"  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 :3# t;  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 OJ
L?
[<I  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 D d$ SQ  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 A9[ELD>p  
致谢 =gb.%a{R  
参考文献 ):lq}6J#  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 9_mys}+  
3.1概述 <-:gaA`KM  
3.2相位掩模技术 $6a55~h|(  
3.3光学元件的设计和制造 )(|+z'  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 \)?[1b&[_  
3.3.2相位掩模的设计 )o<rU[oD]C  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 (@H'7,  
3.4轴对称元件的设计和制造 G:e9}  
3.5结论 dM{xPpnx  
参考文献 I-Ya#s#m  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 Ub8|x]ix  
4.1概述 i
v*Ft.1t  
4.2电子束光刻术 OA??fb,b  
4.2.1电子束光刻术发展史 9:!<=rk  
4.2.2电子束光刻系统 4|*H0}HOm  
4.2.3电子束光刻技术 E5P?(5Nv  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 |7V:~MTkk&  
4.3.1回顾 4%TY` II  
4.3.2硅 'mz _JM  
4.3.3砷化镓 TixXA:Mf  
4.3.4熔凝石英 -o\r]24  
4.4光学器件加工实例 9WaKsdf  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 &n.7~C]R  
4.4.2熔凝石英微偏振器 w6MEY"<L  
4.4.3砷化镓双折射波片 6Hz45  
4.5结论 0i2ZgOJ  
致谢 !biq7f%6#  
参考文献 =X?jId{  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 `Tx1?]  
5.1概述 ceDe!Iu  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 !tkP!%w  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 G!J{$0.  
5.3.1纳米压印组件和工艺 /h=:heS4$  
5.3.2纳米压印设备 1'dL8Y  
5.4商业化器件的应用 `k}  
5.4.1通信用近红外偏振器 &}P{w  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 7tgn"wK  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） ;Zb+WGyj  
5.4.4高亮度发光二极管 ]g jhrD  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 $0C1';=^}  
5.4.6多层集成光学元件 <!#6c :(Q  
5.4.7分子电子学存储器 ^[{\ZX  
5.4.8光学和磁数据存储 Y4Hi<JWo  
5.5结论 -z]v"gF?Px  
致谢 w\U fq  
参考文献 "pb,|U
 
第6章平面光子晶体的设计和制造 =6Dz<Lq  
6.1概述 $*ujX,}xG  
6.2光子晶体学基础知识  SrPZ^NF  
6.2.1晶体学术语 _C3l2v'I$  
6.2.2晶格类型 F2yc&mXyk  
6.2.3计算方法 **L. !/  
6.3原型平面光子晶体 ENwDW#U9  
6.3.1电子束光刻工艺 ;6g&_6  
6.3.2普通硅刻蚀技术 ,}i`1E1=  
6.3.3时间复用刻蚀 rmj?jBKQU  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 &BnK[Q8X  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 lLy^@s  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 c!Gnd*!?-  
6.4.2负折射 u?[dy n  
6.5未来应用前景 FI1R7A
 
参考文献 Qo>VN`v  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 Yb8o`j+t  
7.1对称性、拓扑性和PBG Fv \yhR  
7.2金属光子晶体 xWX1P%`  
7.3金属结构的可加工性 XkZ82w#b  
7.4三维光子晶体的制造 =p9d4smbn  
7.5胶体模板法 !BD+H/A.{  
7.6微光刻工艺 R8a4F^{*  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 gbOd(ugH  
7.8膜层应力 $+eDoI'f  
7.9对准 }Wf\\  
7.10表面粗糙度 0;,4.hsh  
7.11侧壁轮廓 N5u.V\F!z\  
7.12释放刻蚀 H
CHZB*r[  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 |7Z7_YWs  
7.14结论 (P {o9  
致谢 iGmBG1a\  
参考文献