微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 }En  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 =4V&*go*\  
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目录 #^m0aB7r  
译者序 )u))n#P  
前言 b0iSn#$  
第1章面浮雕衍射光学元件 ^,m< 9  
1.1制造方法 DPi_O{W>  
1.2周期和波长比 X%yO5c\l2  
1.3光栅形状 BA\/
YW @  
1.4深度优化 HhO".GA  
1.5错位失对准 J>fQNW!{  
1.6边缘圆形化 ?X@fKAj  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 n>@oBG)!  
1.8表面纹理结构 }Zl&]e
 
1.9熔凝石英表面的纹理结构 dJ$"l|$$  
1.10太阳电池的表面纹理结构 )`^p%k  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 [MuEoWrq(}  
1.12成形金属基准层的制造工艺 OL4z%mDZi  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 s4&^D<  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 U qG .:@T  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 !9 fz(9  
致谢 z-M3  
参考文献 +P.+_7+:  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术  hi
g2  
2.1概述和回顾 xsWur(>]  
2.2基本的刻蚀处理技术 Y*mbjyt[?X  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 v<Bynd-  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 f~}H  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 ySI~{YVM  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 >0Q|nCx  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 ^CwR!I.D}4  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 %Uz(Vd
#K  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 R|i/lEq  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 apE  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 sz9L8f2  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 ^eW}XRI  
致谢 B"%{i-v>**  
参考文献 5`f@>r?  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 M'_9A  
3.1概述 %YOndIS:  
3.2相位掩模技术 \QmCeB  
3.3光学元件的设计和制造 uZ;D!2Q a  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 LM2TZ  
3.3.2相位掩模的设计 .*e
lggM  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 ?yh}/T\qp  
3.4轴对称元件的设计和制造 vTv]U5%:>%  
3.5结论 [s<^&WM/  
参考文献 >I=2!C1w  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 pmX#E  
4.1概述 ZyE
HzM{$  
4.2电子束光刻术 6~*9;!th  
4.2.1电子束光刻术发展史 *Vho?P6y\Y  
4.2.2电子束光刻系统 MxBTX4ES  
4.2.3电子束光刻技术 t(="h6i  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 q%ow/!\;  
4.3.1回顾 \W%UZs  
4.3.2硅 ,m,)
I  
4.3.3砷化镓 iOG
[>u0h  
4.3.4熔凝石英 z $MV%F  
4.4光学器件加工实例 VN%INUi@  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 xU%w=0z<  
4.4.2熔凝石英微偏振器 u[{tb  
4.4.3砷化镓双折射波片 JgHM?AWg|  
4.5结论 - M,7N}z@;  
致谢 8uA,iYD  
参考文献 [~&X
L0  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 [d* ~@P  
5.1概述 Hk|0HL  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 csfgJ^n  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 }2ZsHM^]%  
5.3.1纳米压印组件和工艺 `_&Vt=7lG  
5.3.2纳米压印设备 hHDOWHWE  
5.4商业化器件的应用 hTwA%  
5.4.1通信用近红外偏振器 ^  :F.  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 l&}y/t4%  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） R6=$u{D  
5.4.4高亮度发光二极管 }W ^: cp  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 Wq^qpN)5Y  
5.4.6多层集成光学元件 pC_O:f>vJ  
5.4.7分子电子学存储器 'TAUE{{  
5.4.8光学和磁数据存储 ?-Vjha@BO  
5.5结论 "]-Xmdk09  
致谢 ~@kU3ZGJZ  
参考文献 ~xoF6CF  
第6章平面光子晶体的设计和制造 i<(Xr  
6.1概述 a<fUI
%_  
6.2光子晶体学基础知识 8#Q$zLK42N  
6.2.1晶体学术语 U"50_O  
6.2.2晶格类型 hI(SOsKs  
6.2.3计算方法 Q3"}Hl2  
6.3原型平面光子晶体 u!:z.RH8n  
6.3.1电子束光刻工艺 tlA"B{7  
6.3.2普通硅刻蚀技术 kHqztg  
6.3.3时间复用刻蚀 Zy09L}59P  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 M2U&?V C!  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 @9&P~mo/  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 }@r{?8Ru  
6.4.2负折射 'KPASfC  
6.5未来应用前景 Jnv@.  
参考文献 >fIk;6
<{  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 ?:Bv iF);/  
7.1对称性、拓扑性和PBG lvp8z)G  
7.2金属光子晶体 B7"PIkk;  
7.3金属结构的可加工性 r$wxk 4%Rz  
7.4三维光子晶体的制造 )TmHhNo  
7.5胶体模板法 x\Y $+A,P  
7.6微光刻工艺 Dnc<sd;  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 _$>pw<  
7.8膜层应力 kEd@oC  
7.9对准 \Y}3cE  
7.10表面粗糙度 _wdG|{p
x  
7.11侧壁轮廓 Ig5L$bAM~  
7.12释放刻蚀 )P|[r  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 |$7vI&m  
7.14结论 r4,VTy2Qe  
致谢 gI8Bx]  
参考文献