微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 BKZ v9  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 0!_*S )  
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目录 .[,6JU%  
译者序 @'gl~J7  
前言 +c r  
第1章面浮雕衍射光学元件 n;qz^HXEJ  
1.1制造方法 x~Agm_Tu+'  
1.2周期和波长比 o&,Y<$!:VH  
1.3光栅形状 5[<F_"x  
1.4深度优化 PGY9*0n  
1.5错位失对准 O#G| ~'.,  
1.6边缘圆形化 4 l1 i>_R  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 {_7Hz,2U  
1.8表面纹理结构 A8!Ed$@  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 9FNwpL'C  
1.10太阳电池的表面纹理结构 .+vd6Uc5a  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 VF=Z`  
1.12成形金属基准层的制造工艺 6F-JK1i  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 9`INC~h  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 n.Vtc-yZU  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 a[i>;0  
致谢 !;+U_j'Pg  
参考文献 y1u9B;Fd  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 B52H(sm  
2.1概述和回顾 DM'qNgB7  
2.2基本的刻蚀处理技术 5H*>  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 BkV(81"C  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 P\T|[%E'  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 x;mJvfX  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 Y'JL(~|  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 `*d{PJTv  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 RM#fX^)=  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 ]?# #))RUS  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 JT#7yetk'  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 #B}Qt5w  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 1ys(v  
致谢 _k|g@"  
参考文献 Efvq?cG&  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 hb<k]-'!  
3.1概述 ig$jKou F  
3.2相位掩模技术 C d|W#.6  
3.3光学元件的设计和制造 yl]UUBcQ  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 !%wdn33"  
3.3.2相位掩模的设计 `I{tZ$iD  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 1
17c,yM0  
3.4轴对称元件的设计和制造 9#fp_G;=  
3.5结论 @`Wt4<  
参考文献 J[6VBM.Y  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 c"qPTjY  
4.1概述 6J"(xT  
4.2电子束光刻术 )^";BVY  
4.2.1电子束光刻术发展史 wn1, EhHt  
4.2.2电子束光刻系统 Mlwdha0  
4.2.3电子束光刻技术 ke^d8Z.  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 ,S0UY):(A  
4.3.1回顾 ?DRR+n _  
4.3.2硅 =+4 _j  
4.3.3砷化镓 /:KQAM0  
4.3.4熔凝石英 jOv~!7T  
4.4光学器件加工实例 i3d y  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 }b
iCQ*{'  
4.4.2熔凝石英微偏振器 4]IKh,jT  
4.4.3砷化镓双折射波片 ZqFUPHc  
4.5结论 R|-j]Ne  
致谢 M2L0c
?  
参考文献 'mUI-1GkT  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 mV%h[~-  
5.1概述 )gjGG8Ee  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 D$mf5G &  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 R~cIT:i  
5.3.1纳米压印组件和工艺 =oPng=:  
5.3.2纳米压印设备 xRB7lV*  
5.4商业化器件的应用 1EuK,:x  
5.4.1通信用近红外偏振器 RJL
Fj  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 W.p66IQwL&  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） lU&Q^Zj`  
5.4.4高亮度发光二极管 w_GLC%|7  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 (Wn "3 ]  
5.4.6多层集成光学元件 ?jFc@t*\:  
5.4.7分子电子学存储器 W}?s^  
5.4.8光学和磁数据存储 )lOji7&e  
5.5结论 k0knPDbHv  
致谢 ^7<[}u;qF  
参考文献 !YIb  
第6章平面光子晶体的设计和制造 Stt* 1gT  
6.1概述 )6g&v'dq  
6.2光子晶体学基础知识 ff[
C'  
6.2.1晶体学术语 YY\Rua/nG  
6.2.2晶格类型 9[Y*k^.!  
6.2.3计算方法 cT I,1U  
6.3原型平面光子晶体 (]}XLMi,|!  
6.3.1电子束光刻工艺 =:
;YTi
e  
6.3.2普通硅刻蚀技术 T*8_FR<  
6.3.3时间复用刻蚀 &62`Wr0C  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 [C2kK *JZ  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 7Y)s#FJ  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 {vjqy&?y  
6.4.2负折射 UFos E|r:  
6.5未来应用前景 \k4M{h6  
参考文献 !}y8S'Yjw  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 K/~Y!?:Jr  
7.1对称性、拓扑性和PBG We|-5  
7.2金属光子晶体 }\U0[x#q  
7.3金属结构的可加工性 b~F!.^7Q  
7.4三维光子晶体的制造 `TOX1cmw  
7.5胶体模板法 |KTpK(6p  
7.6微光刻工艺 c_t7RWV}  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 |^Ur  
7.8膜层应力 3/:LYvM<  
7.9对准 aam1tm#Q  
7.10表面粗糙度 {Qm6?H  
7.11侧壁轮廓 ^971<B(v  
7.12释放刻蚀 !\3}R25  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 q;IhLBl'  
7.14结论 JtThkh'-"  
致谢 L,GShl0S  
参考文献