微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 efyEzL  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 &5HI   
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目录 "A[.7w  
译者序 p_xJKQS  
前言 T7qp ({v?Q  
第1章面浮雕衍射光学元件 &4wSX{c/P  
1.1制造方法 6Lq8#{/]u  
1.2周期和波长比 &LV'"2ng8  
1.3光栅形状 xRZ K&vkKE  
1.4深度优化 tG]W!\C'h  
1.5错位失对准 7IUJHc?  
1.6边缘圆形化 =8vwaJ  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 \V~B+e  
1.8表面纹理结构 1^AQLOiRE1  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 :tENn r.9v  
1.10太阳电池的表面纹理结构 Zp/P/97p  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 6oWFjeZ0  
1.12成形金属基准层的制造工艺 MNh:NFCRA  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 Z{u]qI{l  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 L]YJ#5  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 UJS vtD{g  
致谢 oVl:g:K40  
参考文献 mb'{@  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 -R9{Ak  
2.1概述和回顾 2n"-~'3\  
2.2基本的刻蚀处理技术 nF-l4=  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 <&+0  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 a{e1g93}  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 VaonG]Ues  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件  v?d`fd  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 "
SuG6!k3  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 ga'G)d3oS  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 bz1`f>%l  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 (Rs;+S  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 t.!?"kP"c  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 {h|kx/4{m  
致谢 &w=ul'R98  
参考文献 uv$utu>< *  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 8&hxU@T~  
3.1概述 ZXj*Vu$_4  
3.2相位掩模技术 P e} T  
3.3光学元件的设计和制造 vqF=kB"P  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 ,-n_(U  
3.3.2相位掩模的设计 t[H
sqnP  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 6EY0Fjsi  
3.4轴对称元件的设计和制造 ^c}kVQ\g3  
3.5结论 TPj,
4&|  
参考文献 Zirp_[KZ%  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 A(XX2f!i  
4.1概述 e6y!,My<  
4.2电子束光刻术 HKC&grp  
4.2.1电子束光刻术发展史 DLq'V.M:  
4.2.2电子束光刻系统 Nbf>Y  
4.2.3电子束光刻技术 {rF9[S"h  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 Ix@nRc'  
4.3.1回顾 A)#Fyde  
4.3.2硅 OSJL,F,  
4.3.3砷化镓 4y)6!p  
4.3.4熔凝石英 V\c`O  
4.4光学器件加工实例 SJ,
];mC0  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 ?wIw$p>wT  
4.4.2熔凝石英微偏振器 aMK\&yZD  
4.4.3砷化镓双折射波片 A0ZU
#"'/  
4.5结论 Yru,YA   
致谢 {H=<5  
参考文献 &`g^b^i  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 zq$0 ?vGd  
5.1概述 pCeCR  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 2/))Y\~  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 r0<zy_d'  
5.3.1纳米压印组件和工艺 xjYH[PgfX  
5.3.2纳米压印设备 -|:mRAe  
5.4商业化器件的应用 d|sf2   
5.4.1通信用近红外偏振器 /mn'9=ks  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 7a4Z~r27/  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） Wq25,M'  
5.4.4高亮度发光二极管 e\ZV^h}TQ  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 GG4FS  
5.4.6多层集成光学元件 B;<zA' 1  
5.4.7分子电子学存储器 H=XdgOui  
5.4.8光学和磁数据存储 wO]H+t  
5.5结论 yx<-M  
致谢 5^{2g^jH6  
参考文献 j^/^PUR  
第6章平面光子晶体的设计和制造 B?d+^sz]  
6.1概述 "JgwL_2  
6.2光子晶体学基础知识 8%Ak  
6.2.1晶体学术语 A*kN I  
6.2.2晶格类型 u&j_;Y!6  
6.2.3计算方法 T|--ZRYn  
6.3原型平面光子晶体 U_wIx  
6.3.1电子束光刻工艺 V|2[>\Cv  
6.3.2普通硅刻蚀技术 &<(&u`S  
6.3.3时间复用刻蚀 &!>.)I`  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 [mo9?  
6.4基于色散特性的平面光子晶体  ,}^FV~  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 j9f QV  
6.4.2负折射 m-9ChF:U  
6.5未来应用前景 )|&FBz;  
参考文献 g]?QV2bX6  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 o#-^Lg&
 
7.1对称性、拓扑性和PBG F>k/;@d  
7.2金属光子晶体 nKch:g  
7.3金属结构的可加工性 G#.q%Up  
7.4三维光子晶体的制造 q3u:Tpn4%  
7.5胶体模板法 Go7 oj'"  
7.6微光刻工艺 cZ,}1?!  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 VP }To  
7.8膜层应力 wYd{X 8
$  
7.9对准 (I#3![q  
7.10表面粗糙度 O~5*X f  
7.11侧壁轮廓 ZkF6AF   
7.12释放刻蚀 |Syulus  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 5~RR _G  
7.14结论 wd2z=^S~  
致谢 rrs0|=  
参考文献