微光学和纳米光学制造技术

发布:cyqdesign 2012-09-29 22:55 阅读:3333
《国际信息工程先进技术译丛:微光学纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺,重点强调了关键性的专业技巧,提供了最新的技术信息,内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法。 =1k%T{>  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家,代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计(尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究)的工程师使用,也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 aOw#]pB|  
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目录 ,(Ol]W}  
译者序 UmvnVmnv  
前言 gaxM#  
第1章面浮雕衍射光学元件 xJAQ'ANr  
1.1制造方法 XI |k,Ko<  
1.2周期和波长 Dn@ZS_f  
1.3光栅形状 Yi,`uJKh  
1.4深度优化 S~ Z<-@S  
1.5错位失对准 /t`,7y 3T  
1.6边缘圆形化 ?hGE[.(eh]  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 I]i( B+D  
1.8表面纹理结构 F\&{>&  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 M)!"R [V  
1.10太阳电池的表面纹理结构 ~Kt1%&3{a?  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 Woj5 yr  
1.12成形金属基准层的制造工艺 y2#"\5dC  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 |1tpXpe  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 S9r?= K  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 }:{9!RMO  
致谢 c_S~{a44Ud  
参考文献 NA/`LaJ  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 8 AFc=Wx  
2.1概述和回顾 U]gUGD!5x  
2.2基本的刻蚀处理技术 OJ"./*H  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 +v 3: \#  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 wggB^ }~  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 _tX=xAO9  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 Axns  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 2C}Yvfm4  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 f,E7eL@  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 ;5L^)Nyd  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 ,b&h Lht  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 YC8IwyL'  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 \QC{38}  
致谢 &z1U0uk  
参考文献 d4BzFGsW  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 5 ,-8oEUL  
3.1概述 O^=+"O]  
3.2相位掩模技术 D-LOjMe  
3.3光学元件的设计和制造 hHmm(~5gR  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 gN />y1{a  
3.3.2相位掩模的设计 7@>/O)>(AS  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 f$\ O:E=  
3.4轴对称元件的设计和制造 )dX(0E4Td/  
3.5结论 !hZ: \&V  
参考文献 & nXE?-J  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 2[Lv_<i|  
4.1概述 G\BZ^SwE  
4.2电子束光刻术 ih/E,B"  
4.2.1电子束光刻术发展史 Pb>/b\&JS  
4.2.2电子束光刻系统 3p&T?E%  
4.2.3电子束光刻技术 /P@%{y  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 3sdL\  
4.3.1回顾 YmaS,Q-  
4.3.2硅 S}VS@KDO  
4.3.3砷化镓 vE'{?C=EM  
4.3.4熔凝石英 ,G%UU~/a  
4.4光学器件加工实例 96<oX:#  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 Ve|:k5z  
4.4.2熔凝石英微偏振器 xmcZN3 ){+  
4.4.3砷化镓双折射波片 cbyzZ#WRb  
4.5结论 ltgtD k  
致谢 b{ xlW }S  
参考文献 [,Go*r  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 ]}N01yw|s  
5.1概述 `8W HVC$  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 C h>F11kC  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 i,*m(C@F}  
5.3.1纳米压印组件和工艺 }|=/v( D  
5.3.2纳米压印设备 : gU5CUm  
5.4商业化器件的应用 dREY m}1  
5.4.1通信用近红外偏振器 hA 5')te<  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 k*fU:q1  
5.4.3光学读取装置的光学波片(CD\DVD) $xZ ~bE9  
5.4.4高亮度发光二极管 Icrnu}pl_  
5.4.5微光学(微透镜阵列)和衍射光学元件 4)8VmCW  
5.4.6多层集成光学元件 K-C,n~-  
5.4.7分子电子学存储器 (?\+  
5.4.8光学和磁数据存储 rMxIujx  
5.5结论 `9K5 ;]  
致谢 NUltuM  
参考文献 v>} +->f  
第6章平面光子晶体的设计和制造 Blzvn19'h  
6.1概述 H/*ol^X7  
6.2光子晶体学基础知识 950N\Y @u  
6.2.1晶体学术语 xz"60xxY  
6.2.2晶格类型 tn' Jkwp  
6.2.3计算方法 ]q%r2 (y,k  
6.3原型平面光子晶体 {s0%XG1$  
6.3.1电子束光刻工艺 "g"a-{8  
6.3.2普通硅刻蚀技术 zW%Em81Wd  
6.3.3时间复用刻蚀 0wv#AT  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 Z*co\ pW  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 [UzD3VPg  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 VjM3M<!g>M  
6.4.2负折射 . |T=T0^  
6.5未来应用前景 ):! =XhQ  
参考文献 >J:=)1`  
第7章三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法 %Gh5!e:$SI  
7.1对称性、拓扑性和PBG NVv <vu  
7.2金属光子晶体 R}=5:)%w  
7.3金属结构的可加工性 o?Hfxp0}  
7.4三维光子晶体的制造 ?8V.iHJk  
7.5胶体模板法 eA4:]A"  
7.6微光刻工艺 [#Y L_*p  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 \tI%[g1M  
7.8膜层应力 K4!-%d$  
7.9对准 U8Y%rFh1  
7.10表面粗糙度 yQ[;y~W  
7.11侧壁轮廓 /]TNEU,K  
7.12释放刻蚀 h4pS~/  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 c 3QgX4vq  
7.14结论 !'jq.RawP  
致谢 ]5Uuz?:e  
参考文献
关键词: 光学纳米制造
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