微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 w~VqdB  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 sTO9>~sj  
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目录 '} LAZQ"  
译者序 8Wyv!tL  
前言 fHwr6"DJ  
第1章面浮雕衍射光学元件 QsH Fk5)  
1.1制造方法 L<TL6  
1.2周期和波长比 D[}qhDlX  
1.3光栅形状 `?:X-dh_  
1.4深度优化 FBJ Lkg0  
1.5错位失对准 %q 7gl;'  
1.6边缘圆形化 NI?YUhg>  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 *Ldno`1O  
1.8表面纹理结构 4vRIJ}nQ  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 z8hAZ?r1`  
1.10太阳电池的表面纹理结构 eLAhfG  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 '; Z!(r  
1.12成形金属基准层的制造工艺 :u>9H{a  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 En/EQ\T@F  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 Og~3eL[1%C  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 6,;7iA]  
致谢 >0qe*4n|M  
参考文献 ]pP [0S  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 lVQy {`Ns  
2.1概述和回顾 vS'5Lm  
2.2基本的刻蚀处理技术 z gDc=  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 AVbGJ+  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 VVyms7 VN  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 ,,[pc  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 (}LLk+  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 rb@{ir  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 w(Hio-l=  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 <v=T31aS  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 B7!dp`rPp  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 ;nB.f.e`  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 j:6VWdgq  
致谢 Da"GYEC  
参考文献 G;3N"az  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 ,a/<t"  
3.1概述 )mw&e}jRV  
3.2相位掩模技术 .IJgkP)!]  
3.3光学元件的设计和制造 Y^@Nvt$<K  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 Iz[
T.$9  
3.3.2相位掩模的设计 Xm!;  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 J#^oUq  
3.4轴对称元件的设计和制造 ]#VNZ#("  
3.5结论 g x~fZOF_  
参考文献 Fb{kql=  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 MKN],l N  
4.1概述 <^(g<B`>  
4.2电子束光刻术
!3'&_vmG$  
4.2.1电子束光刻术发展史 ir ^XZVR  
4.2.2电子束光刻系统 =fr_` "?k  
4.2.3电子束光刻技术 `vPc&.
-K  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 1Xi.OGl  
4.3.1回顾 Iq[Z5k(K  
4.3.2硅 ;,yjkD[mWE  
4.3.3砷化镓 9(;
I+.;8k  
4.3.4熔凝石英 u:0M,Ye  
4.4光学器件加工实例 Ev7fvz =  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 &_N$S2  
4.4.2熔凝石英微偏振器 CgO&z<A!&  
4.4.3砷化镓双折射波片 u`2[V4=
L  
4.5结论 {b6$F[e  
致谢 r g$2)z1  
参考文献 *To
5\|  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 oG_-a(N  
5.1概述 3M[b)At V.  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 V=v7<I=]  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 d]*a:>58  
5.3.1纳米压印组件和工艺 ZCbnDj  
5.3.2纳米压印设备 ,y57tY  
5.4商业化器件的应用 S
EeDq/h  
5.4.1通信用近红外偏振器 5/)
,HGxi  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 #,KjJ  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） >$yqx1=jW  
5.4.4高亮度发光二极管 n(MVm-H  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 g}B|ZRz+{  
5.4.6多层集成光学元件 DJmT]Q]o)  
5.4.7分子电子学存储器
`bdCom  
5.4.8光学和磁数据存储 Tl9;KE|  
5.5结论 J~jR`2+r  
致谢 UpU2H4  
参考文献 5fdB<& 9  
第6章平面光子晶体的设计和制造 u#l@:p  
6.1概述 ~X`_g/5X  
6.2光子晶体学基础知识 %;r0,lN|II  
6.2.1晶体学术语 9"H]zfW  
6.2.2晶格类型 dSkW[r9Z%l  
6.2.3计算方法 =V@5W[bV  
6.3原型平面光子晶体 |9F^"7Q~C  
6.3.1电子束光刻工艺 !A\Qwg>  
6.3.2普通硅刻蚀技术 [Ie;Jd>gG  
6.3.3时间复用刻蚀 Z7X_U`Q  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 [JY1|N  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 ; SS/bS|  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 mQ@A3/=`  
6.4.2负折射 H.HXwN/x  
6.5未来应用前景 _U"9#<  
参考文献 !4(X9}a  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 /@<&{_sybp  
7.1对称性、拓扑性和PBG /8(\AuDT  
7.2金属光子晶体 5)rMoYn25  
7.3金属结构的可加工性 12yr_   
7.4三维光子晶体的制造 H40~i=.  
7.5胶体模板法 B
P6|^Q  
7.6微光刻工艺 mP@<UjxI  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 \C )S3!h  
7.8膜层应力 cF[L6{Oe  
7.9对准 TA.ugF)h  
7.10表面粗糙度 NT^m.o~4  
7.11侧壁轮廓 7ktSj}7W]  
7.12释放刻蚀 6,707h  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 _dgS@n;6  
7.14结论 JFyw,p&xB  
致谢 %q~
YJ*\  
参考文献