微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 O{]9hm(tN  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 h<x4YB5Mj  
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目录 t ls60h  
译者序 X.FGBR7=q  
前言 BVpO#c~I  
第1章面浮雕衍射光学元件 ,[!LCXp  
1.1制造方法 ,S&z<S_  
1.2周期和波长比 KbW9s,:p  
1.3光栅形状 )rtomp:X  
1.4深度优化 0-d>I@j  
1.5错位失对准 !{%&=tIZ  
1.6边缘圆形化 cg{AMeW  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 _$s> c!t,#  
1.8表面纹理结构 PXk?aJ  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 F]+~x/!  
1.10太阳电池的表面纹理结构 y2|R.EU\m<  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 R 94
^4I  
1.12成形金属基准层的制造工艺 ?cy4&]s  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 `{Tk@A_yd  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 K8I$]M  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 `[fxyg:u  
致谢 fV\]L4%  
参考文献 rS8 w\`_  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 y1f:?L-z  
2.1概述和回顾 d+fSoSjX8  
2.2基本的刻蚀处理技术 ~d >W?A  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 n/4i|-^  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 2kh"8oQ  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 CH#k(sy  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 0<p{BL8  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 (eWPis[  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 f!_ ctp  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 PkuTg";  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 60>.ul2  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 /j2H A^GT  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 2f~($}+*  
致谢 3G}AH E4  
参考文献 @.C{OSHE  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 \wvg,j=  
3.1概述 `
Ityi}  
3.2相位掩模技术 }hpmO-  
3.3光学元件的设计和制造 u9qMqeF  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 ~ 5"JzT  
3.3.2相位掩模的设计 2{|$T2?e  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 zg)sd1@  
3.4轴对称元件的设计和制造 %3r:s`{  
3.5结论 zCaT tb|@  
参考文献 qQ]]~F  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 )?! [}t  
4.1概述 PJ4(}a  
4.2电子束光刻术 xg@NQI@7   
4.2.1电子束光刻术发展史 [^YA=Khu  
4.2.2电子束光刻系统 ne}+E  
4.2.3电子束光刻技术 #dxgB:l)%l  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 NQHz<3S[  
4.3.1回顾 iUk-'   
4.3.2硅 i
yesD  
4.3.3砷化镓 /b#l^x:j  
4.3.4熔凝石英 I^\&y(LJF  
4.4光学器件加工实例 =@x`?oev  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 ),:c+~@@kT  
4.4.2熔凝石英微偏振器 V N{NA+I  
4.4.3砷化镓双折射波片
WiL2  
4.5结论 
`_ %S  
致谢 cf_|nL#9  
参考文献 U&Wwyu:4i  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 CTa#Q,  
5.1概述 B5%n(,Lx  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 jhgX{xc  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 T4/fdORS  
5.3.1纳米压印组件和工艺 T=f|,sK +7  
5.3.2纳米压印设备 Ga>uFb}W~  
5.4商业化器件的应用 =<@2#E)  
5.4.1通信用近红外偏振器 {=2DqkTD  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 ;h=*!7:  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） <yA}i"-1W  
5.4.4高亮度发光二极管 ~+X9g  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 zdl%iop3
e  
5.4.6多层集成光学元件 IA zZ1#/3  
5.4.7分子电子学存储器 2|iV,uJ&  
5.4.8光学和磁数据存储 {]*x*aa\  
5.5结论 g6t"mkMY L  
致谢 inb^$v  
参考文献 POI.]1i  
第6章平面光子晶体的设计和制造 Wm~` ~P  
6.1概述 %VJ85^B3  
6.2光子晶体学基础知识 [&[^G25  
6.2.1晶体学术语 85:NFa@J  
6.2.2晶格类型 :#E*Y8-  
6.2.3计算方法 <:>SGSE9  
6.3原型平面光子晶体 j1
q[2'  
6.3.1电子束光刻工艺 2aZw[7s  
6.3.2普通硅刻蚀技术 Qhi '')Q  
6.3.3时间复用刻蚀 7tM9u5FF  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 gF=jf2{YX  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 UV 4>N  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 gJiK+&8I  
6.4.2负折射 8(g:HR*;  
6.5未来应用前景 8b.u'r174  
参考文献 kv,%(en]  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 WL,&-*JAW  
7.1对称性、拓扑性和PBG fA%z*\  
7.2金属光子晶体 F;ZSzWq  
7.3金属结构的可加工性 b !@Sn/  
7.4三维光子晶体的制造 ,Y?sfp  
7.5胶体模板法 _-!sBK+F  
7.6微光刻工艺 up
3O|lj4  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 ZoB*0H-  
7.8膜层应力 m"\:o  
7.9对准 1axQ)},o@p  
7.10表面粗糙度 &c(WE RW?-  
7.11侧壁轮廓 OJN2z  
7.12释放刻蚀 mME4 l  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 v[@c*wo  
7.14结论 N..j{FE  
致谢 Md6]R-l@  
参考文献