微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 Y9ce"*b  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 /;$ew~}  
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目录 3AL=*qq  
译者序 Y }d>%i+  
前言 /7)G"qG~F~  
第1章面浮雕衍射光学元件 J(VZa_  
1.1制造方法 /VZU3p<~  
1.2周期和波长比 sgsMlZ3/  
1.3光栅形状 ]F-6KeBc  
1.4深度优化 <Y
6>L};  
1.5错位失对准 8+|Lph`/?  
1.6边缘圆形化 Z|wDM^Lf  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 =#fvdj  
1.8表面纹理结构 MT gEq  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 %LW~oI.  
1.10太阳电池的表面纹理结构 rt;>pQ9,  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 `<Nc Y*  
1.12成形金属基准层的制造工艺 &!MKqJ@t  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 39eoL;O_  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 4"=pcHNV  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 B ~GyS"  
致谢 4D
$E  
参考文献 Vi-@z;k  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 8Qy |;T}  
2.1概述和回顾 w]XBq~KO  
2.2基本的刻蚀处理技术 <O&s 'A[  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 {,srj['RS  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 zg"ZXZ  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 Rznr9L  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 [%q":I
g  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 a$A S?`L  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 XA%?35v~  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 "0mR*{nF  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 b,`N;*  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 eU*hqy?0  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 J],BO\ECH  
致谢 ~8E rl3=5{  
参考文献 ]~,'[gWb  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 dksnW!  
3.1概述 tzPe*|m<  
3.2相位掩模技术 Yr@@ty  
3.3光学元件的设计和制造 g5`YUr+3?h  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 0't)fnI#  
3.3.2相位掩模的设计 2Hj]QN7"   
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 d7Z\  
3.4轴对称元件的设计和制造 :-n4!z"k  
3.5结论 +bU(-yRy5o  
参考文献 T8k oP  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 6A<aelE*i  
4.1概述 :}cAq/  
4.2电子束光刻术 S7]cF5N  
4.2.1电子束光刻术发展史 >EG;2]M&  
4.2.2电子束光刻系统 n"vI>_|G  
4.2.3电子束光刻技术 aQuENsB  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 _1QNO#X  
4.3.1回顾 PT=%]o]  
4.3.2硅 kQtl&{;k?  
4.3.3砷化镓 IAQ=d4V&  
4.3.4熔凝石英 ,;;~dfHm  
4.4光学器件加工实例 pK%'S  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 [a2/`ywdV  
4.4.2熔凝石英微偏振器 H>?@nYP  
4.4.3砷化镓双折射波片 YjT #^AH  
4.5结论 v?J2cL  
致谢 e%#f9i  
参考文献 [ q}WS5Cp  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 7}MWmS^8j  
5.1概述 =W?c1EPLCx  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 l\)Q3.w  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 l1msXBC  
5.3.1纳米压印组件和工艺 @g{ " E6  
5.3.2纳米压印设备 ?0F#\0  
5.4商业化器件的应用 `1dr$U  
5.4.1通信用近红外偏振器 *niQ*A  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 l}{O  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） ]d0Dd")n  
5.4.4高亮度发光二极管 lB3X1e9  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 49yN|h;c!  
5.4.6多层集成光学元件 >ObpOFb%  
5.4.7分子电子学存储器 7u;B[qH  
5.4.8光学和磁数据存储 pc #^{-  
5.5结论 $kdfY'u  
致谢 K4~dEZ   
参考文献 LcXrD+ 1  
第6章平面光子晶体的设计和制造 =0A{z#6  
6.1概述 }[|"db  
6.2光子晶体学基础知识 p<YO3@B+  
6.2.1晶体学术语 )+J?(&6  
6.2.2晶格类型 YV9%^ZaN7  
6.2.3计算方法 >2ct1
_  
6.3原型平面光子晶体 G:UdU{  
6.3.1电子束光刻工艺 rW6LMkt72  
6.3.2普通硅刻蚀技术 W'[!4RQL  
6.3.3时间复用刻蚀 /*[a>B4-q  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 m&2m' =(  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 3WhJ,~o-y  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 jU=)4nx  
6.4.2负折射 XHV+Y+VG  
6.5未来应用前景 WH!<Z=#c}  
参考文献 @Q'5/q+  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 3|C"F-'<  
7.1对称性、拓扑性和PBG IQ\`n|  
7.2金属光子晶体 p47~vgJN  
7.3金属结构的可加工性 XHW{EVcF  
7.4三维光子晶体的制造 yy9Bd>  
7.5胶体模板法 `g#\ Ws  
7.6微光刻工艺 N24+P5  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 i''dY!2  
7.8膜层应力 4h|D[Cb]  
7.9对准 hPl;2r  
7.10表面粗糙度 dX<UruPA  
7.11侧壁轮廓 b{sFN!  
7.12释放刻蚀 ='s2S5#1  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 CNzK-,   
7.14结论 ,5q^/h  
致谢 x9uA@$l^|
 
参考文献