微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 vCej( ))  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 ?7pn%_S  
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目录 LmyaC2  
译者序 }|/A &c  
前言 Y=|20Y\K  
第1章面浮雕衍射光学元件 \:@7)(p\;  
1.1制造方法 I9L3Y@(f6m  
1.2周期和波长比 $DfK}CT  
1.3光栅形状 FZ%h7Oe  
1.4深度优化 &Jb$YKt  
1.5错位失对准 g]JJ!$*1  
1.6边缘圆形化 j;48Yya'  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 &b^_~hB:q  
1.8表面纹理结构 u0<yGsEGD  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 huA?*fat   
1.10太阳电池的表面纹理结构 &/Gn
!J;1  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 qLX<[UL  
1.12成形金属基准层的制造工艺 R}w}G6"\  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 Fab]'#1q4  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 yogL8V-^4  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 '_7rooU9  
致谢 ceJ#>Rj  
参考文献 q9_AL8_  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 <z%**gP~G  
2.1概述和回顾 'bLP#TAzf  
2.2基本的刻蚀处理技术 ID`C  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 |*w)]2Bl  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 >&e=0@?+G  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 PfU\.[l$  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 KwMt@1Z  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 XM+.Hel  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 fsK=]~<g  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 Hmm0H6&u  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 4x-,l1NMR  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 Oq% TW|a#  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 ^/}4M'[w  
致谢 Qp[
Jw?a  
参考文献 qov<@FvE0  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 zd8A8]&-  
3.1概述 wXp:XZ:]T  
3.2相位掩模技术 ny+r>>3Td  
3.3光学元件的设计和制造 ox<&T|  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 kl~/tbf
 
3.3.2相位掩模的设计 h#}w18l  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 Jb$G  
3.4轴对称元件的设计和制造 {*n<A{$[ m  
3.5结论 @8`I!fZ  
参考文献 \reVA$M[  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 zOMxg00  
4.1概述 _IOUhMo  
4.2电子束光刻术 G Wa6F
X:/  
4.2.1电子束光刻术发展史 ;CS[Ja>e  
4.2.2电子束光刻系统 ~vpF|4Zn5  
4.2.3电子束光刻技术 6Hb a@Q1`  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 6~
y'  
4.3.1回顾 \WnTpl>B  
4.3.2硅 S]%,g%6i  
4.3.3砷化镓 SX'NFdY  
4.3.4熔凝石英 f^QC4hf0  
4.4光学器件加工实例 *re?V9  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 d>I)_05t  
4.4.2熔凝石英微偏振器
aynaV  
4.4.3砷化镓双折射波片 WzR)R
9x]  
4.5结论 v4E=)?  
致谢 'xai5X  
参考文献 n2-+.9cY  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 8;"%x|iBoL  
5.1概述 ]smu~t0\  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 5CcX'*P  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 z}-R^"40  
5.3.1纳米压印组件和工艺 (t&`m[>K  
5.3.2纳米压印设备 ?-Of\fNu  
5.4商业化器件的应用 W\Scak>  
5.4.1通信用近红外偏振器 ,vvfk=-  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 :epB:r  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） e~)4v  
5.4.4高亮度发光二极管 }y
rs6pQ  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 r9bAbE bI  
5.4.6多层集成光学元件 I*o6Bn |D  
5.4.7分子电子学存储器 ]Z\W%'q+  
5.4.8光学和磁数据存储 ZBY}Mz$  
5.5结论 UJp'v_hN  
致谢 OOI
p)=4  
参考文献 A_ &IK;-go  
第6章平面光子晶体的设计和制造 Uv.Xw}q  
6.1概述 &-^*D%9  
6.2光子晶体学基础知识 WhH60/`  
6.2.1晶体学术语 x4g6Qze  
6.2.2晶格类型 OA9P"*  
6.2.3计算方法 BHgs,  
6.3原型平面光子晶体 =Oh$pZRymu  
6.3.1电子束光刻工艺 P%yL{  
6.3.2普通硅刻蚀技术 Z|UVH  
6.3.3时间复用刻蚀 #k>n5cR@0  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 ("}Hs[  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 NW0se DL  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 ?Q=(?yR0]  
6.4.2负折射 X1oR  
6.5未来应用前景 j?$B@Zk  
参考文献 +RpCh!KP  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 U)-aecB!  
7.1对称性、拓扑性和PBG <
=%[.. (S  
7.2金属光子晶体 cC$YD]XdIA  
7.3金属结构的可加工性 q
0>9T  
7.4三维光子晶体的制造 ,mCf{V]#  
7.5胶体模板法 /#:
*hn  
7.6微光刻工艺 B3[X{n$px  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 $$4flfx  
7.8膜层应力 !U(S?:hvW  
7.9对准 Z \ @9*  
7.10表面粗糙度 'CqAjlj  
7.11侧壁轮廓 yCkWuU9  
7.12释放刻蚀 \J?&XaO=  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 q\!"FDOl4  
7.14结论 Dqwd=$2%  
致谢 ]!P6Z?  
参考文献