微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 O9p^P%U"  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 HI)U6.'  
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目录 MpJx>
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译者序 U(:t$SBKy  
前言 #-d-zV*  
第1章面浮雕衍射光学元件 +,9Mufh  
1.1制造方法 A?c?(~9O  
1.2周期和波长比 Z,b^f Vw  
1.3光栅形状 HL!"U(_  
1.4深度优化 R"PO@v  
1.5错位失对准 W8!8/IZbN  
1.6边缘圆形化 8@I.\u)0  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 ,
k/<Nv;  
1.8表面纹理结构 ?Ye%k  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 NMP*q @  
1.10太阳电池的表面纹理结构 *P[N.5{  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 /3~}=b  
1.12成形金属基准层的制造工艺 KhbbGdmfS$  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 zPb"6%1B  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 I~c}&'V  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 *km- pp  
致谢 0 f"M-x  
参考文献 ve= nh]N  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 5{8,+ Z  
2.1概述和回顾 W{;LI WsZ  
2.2基本的刻蚀处理技术 5wMEp" YHE  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 TC'^O0aZ_  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 9M-/{D^+<  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 _n< @Jk~  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 rHgrCMW  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 gH/k}M7tA#  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 UIw6~a3E  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 ,Onu%  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 V{kgDpB  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 rYr.mX  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 *|:]("i  
致谢 = G3A}  
参考文献 p&;,$KDA  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 ' 9  
3.1概述 90)rOD1B  
3.2相位掩模技术 4'# _b  
3.3光学元件的设计和制造 %bUpVyi!(  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 n 6|\  
3.3.2相位掩模的设计 )F35WP~  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 =p';y&  
3.4轴对称元件的设计和制造 *CXVA&?  
3.5结论 (tP^F)}e5  
参考文献 r7p>`>_Q\  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术  /=7[Q  
4.1概述 gG=E2+=uy  
4.2电子束光刻术 $rE_rZ+]="  
4.2.1电子束光刻术发展史 n7Ia8?8-l  
4.2.2电子束光刻系统 c}FZb$q#  
4.2.3电子束光刻技术 :dzamHbX9  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 <$ Ar*<,6  
4.3.1回顾 c^8y/wfok  
4.3.2硅 }' t*BaU  
4.3.3砷化镓 'H,l\i@"  
4.3.4熔凝石英 wA}+E)x/C  
4.4光学器件加工实例 /=qn1  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 `_v|O{DC{  
4.4.2熔凝石英微偏振器 Nm=W?i  
4.4.3砷化镓双折射波片 D}Lx9cL  
4.5结论 89)rss  
致谢 ?Yp: h  
参考文献 }KHdlhD  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 %fz!'C_4  
5.1概述 dGz
Z_Vf  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 6y9#am?  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 p(Q5!3C0q  
5.3.1纳米压印组件和工艺 3J}bI{3  
5.3.2纳米压印设备 j7 D\O  
5.4商业化器件的应用 +d736lLe%  
5.4.1通信用近红外偏振器 YvK8;<k@-?  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 cv["Ps#;`W  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） jM90 gPX>,  
5.4.4高亮度发光二极管 fW4N+2  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 Pw'3ya8  
5.4.6多层集成光学元件 .gWYKZM  
5.4.7分子电子学存储器 Xu:Sh<:R  
5.4.8光学和磁数据存储 ;[@< ,  
5.5结论 ?J~(qaa;  
致谢 3s
ay&|kJ  
参考文献 Y m|zM1qc  
第6章平面光子晶体的设计和制造 Ro?aDrQ  
6.1概述 2@aVoqrq#  
6.2光子晶体学基础知识 9Qb_BNUo  
6.2.1晶体学术语 i4N'[ P}  
6.2.2晶格类型 6nRD:CH)X  
6.2.3计算方法 i1?H*:]  
6.3原型平面光子晶体 ]J C}il_b  
6.3.1电子束光刻工艺 T?c:z?j_9  
6.3.2普通硅刻蚀技术 DxT8;`I%  
6.3.3时间复用刻蚀 MDS;qZx=  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 Kuy,qZv!"  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 =?3D:k7z  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 \0m[Ch}~ey  
6.4.2负折射 -[4Xg!apO  
6.5未来应用前景 ?y7x#_Exc  
参考文献 0p_/eWww-  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 Q%(LMq4UG  
7.1对称性、拓扑性和PBG .3&zP  
7.2金属光子晶体 `|;R}"R;  
7.3金属结构的可加工性 Y`3>i,S6\  
7.4三维光子晶体的制造 0zaE?dA]  
7.5胶体模板法 wg*2mo  
7.6微光刻工艺
0Q=4{*:?  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 l=ZhHON  
7.8膜层应力 ]dc^@}1bN  
7.9对准 k9.2*+vvg  
7.10表面粗糙度 |b52JF ",  
7.11侧壁轮廓 hd.^ZD7  
7.12释放刻蚀 QdL ;|3K9  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 o@r+Y  
7.14结论 |?SK.1pW  
致谢 [MYd15  
参考文献