微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 J)Yz@0#T(;  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 9s5s;ntz"  
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目录 mvpcRe <  
译者序 )Az0.}  
前言 eVMnI yr  
第1章面浮雕衍射光学元件 :&&s*_  
1.1制造方法 Q$p3cepsK  
1.2周期和波长比 bydI+pVMo  
1.3光栅形状 *\:sHVyG(  
1.4深度优化 /z!y[ri+J  
1.5错位失对准 s^PsA9EAn  
1.6边缘圆形化 ,tZL"  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 8H};p
u2  
1.8表面纹理结构 I+Yq",{%  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 _Ad63.Uq))  
1.10太阳电池的表面纹理结构 FU*q9s`  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 45-x$o  
1.12成形金属基准层的制造工艺 &QQ6F>'T  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 @`B_Q v@  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 >f&
L7@  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 TT;ls<(Lg  
致谢 { **W7\h  
参考文献 &%(Dd  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 I4
qS8~+#  
2.1概述和回顾 PpLhj  
2.2基本的刻蚀处理技术 mIrN~)C4\  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 Rc9>^>w  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 ,qB@agjvo<  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 <i
r]bQT  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 op-\|<i  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 ql5&&e=-  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 b O}&i3.L;  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 hD
g"?{  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 'bH~KK5  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 Y0Tw:1a  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 _ A{F2M  
致谢 z&#^9rM"  
参考文献 #Ddo` >`&  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 k=p[Mlic/  
3.1概述 b ~]v'|5[  
3.2相位掩模技术 
D\J.6W  
3.3光学元件的设计和制造 D8*6h)~  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 vqoK9  
3.3.2相位掩模的设计 h{\S'8  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 aS>cXJ;=  
3.4轴对称元件的设计和制造 >bmdu\j5R  
3.5结论 i;qij[W.z  
参考文献 1x##b[LC  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 KT(v'KE 1  
4.1概述 dqgr98  
4.2电子束光刻术 b ettOg  
4.2.1电子束光刻术发展史 c%wztP;L  
4.2.2电子束光刻系统 G|t0no\f  
4.2.3电子束光刻技术 ;5T}@4m|r  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 x{G 'IEf  
4.3.1回顾 ]TtID4qL  
4.3.2硅 {{p
N7Z  
4.3.3砷化镓 Fwvc+ a  
4.3.4熔凝石英 5V/]7>b1  
4.4光学器件加工实例 e:N;Jx#  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 m9c`"!  
4.4.2熔凝石英微偏振器 ;jPiD`Kyv  
4.4.3砷化镓双折射波片 ]w4?OK(j  
4.5结论 ~(Q#G"t  
致谢 K2v[_a~@  
参考文献 F]<2nb7  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 -i91nMi]  
5.1概述 ,E%O_:}R  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 MU '-  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 k1P'Q&Na  
5.3.1纳米压印组件和工艺 P_p\OK*l]o  
5.3.2纳米压印设备 Ll#W:~  
5.4商业化器件的应用 4}*.0'Hz  
5.4.1通信用近红外偏振器 +.rOqkxJ  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 L0{[L  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） &?xtmg<d  
5.4.4高亮度发光二极管 0
#m=76[b  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 X -=M>H^  
5.4.6多层集成光学元件 Gv#bd05X  
5.4.7分子电子学存储器 m9DTz$S.  
5.4.8光学和磁数据存储 ]vV)$xMX  
5.5结论 $n47DW&  
致谢 #2Vq"Zn  
参考文献 w7q6v>  
第6章平面光子晶体的设计和制造 zyP/'X_~:  
6.1概述 *L Y6hph"  
6.2光子晶体学基础知识 DH i@ujr  
6.2.1晶体学术语 G-:7,9  
6.2.2晶格类型 zITxJx  
6.2.3计算方法 Gfy9YH~  
6.3原型平面光子晶体 cc1M9kVi  
6.3.1电子束光刻工艺 P{J9#.Zq&s  
6.3.2普通硅刻蚀技术 1#fR=*ZM"  
6.3.3时间复用刻蚀 N K@6U_/W  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 =@h
Cc  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 O69TU[Vn  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 }!|$;3t+c  
6.4.2负折射 :v$)Z~  
6.5未来应用前景 */@I$*  
参考文献 Y;E'gP-J  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 t56PzT'M  
7.1对称性、拓扑性和PBG VP~%,=  
7.2金属光子晶体 O@dK^o  
7.3金属结构的可加工性 
}5$le]  
7.4三维光子晶体的制造 ~RBa&Y=Mb  
7.5胶体模板法 w?M"`O(  
7.6微光刻工艺 lh XD9ed  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 @LS%uqs  
7.8膜层应力 B T {cTj0W  
7.9对准 0=40}n&`  
7.10表面粗糙度 kK:Wr&X0H  
7.11侧壁轮廓 gv(MX ;B#  
7.12释放刻蚀 ];=|))ky"  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 DFRgn  
7.14结论 i3$G)W  
致谢 Pj BBXI1i  
参考文献