微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 k>.n[`>$6|  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 EP'I  
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目录 ]jRaR~[UN  
译者序 7=@3cw H  
前言 o+0x1Ct3P  
第1章面浮雕衍射光学元件 I.>SC  
1.1制造方法 V48o+O  
1.2周期和波长比 o6ag{Yp  
1.3光栅形状 #I9hKS{  
1.4深度优化 s&)>gE\  
1.5错位失对准 ;&} rO.0  
1.6边缘圆形化 @b3jO  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 NpAZuISD!  
1.8表面纹理结构 L ]Y6/Q   
1.9熔凝石英表面的纹理结构 SL$
bV2T  
1.10太阳电池的表面纹理结构 :vXlni7N[M  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 +t7n6  
1.12成形金属基准层的制造工艺 p0sq{d~  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 h%PbM`:}6  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 p*C|kEqk  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 "CY#_)  
致谢 `
G_k~ %  
参考文献 5H79-QLd  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 =im7RgIBo  
2.1概述和回顾 x_oiPu.V  
2.2基本的刻蚀处理技术 ] ^s,  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 PBOZ^%k  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 U-ADdOh"q  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 ~\khwNA  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 E(-@F%Q  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 c`O(||UZT  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 UlQS]
f~  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 BI|YaZa+p  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺
k];NTALOG  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 FNR<=M  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 TjY-C m  
致谢 k0@*Up3{7  
参考文献 LQz6o
p}R  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 k1E(SXcW9  
3.1概述 M]7>Ar'zsG  
3.2相位掩模技术 %DhM}f
 
3.3光学元件的设计和制造 <5E: ,<  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 [ f;o3  
3.3.2相位掩模的设计 73kU\ux  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 O48*"Z1  
3.4轴对称元件的设计和制造 bmQ-5SE  
3.5结论 b <z)4  
参考文献 O6"S=o&  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 d
:
8c}t2X  
4.1概述 `'G1"CX  
4.2电子束光刻术 yvIzgwN%s!  
4.2.1电子束光刻术发展史 %EEQ^lm  
4.2.2电子束光刻系统 W)jtTC7  
4.2.3电子束光刻技术 lPZYd8  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 b Od<x >@  
4.3.1回顾 Xrr3KQaK&  
4.3.2硅 Pr'Ij  
4.3.3砷化镓 ~UNK[  
4.3.4熔凝石英 ;Q>+#5H6F8  
4.4光学器件加工实例 9A,ok[J  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 YR-G
e  
4.4.2熔凝石英微偏振器 :^rt8>~  
4.4.3砷化镓双折射波片 :r4o:@N'  
4.5结论 {1;R&  
致谢 c^1tXu|&  
参考文献 4l'`q+^-  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 "[dfb#0z`  
5.1概述 BcxALRWE  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 3=-V!E  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 !2F X l;  
5.3.1纳米压印组件和工艺 ZxB7H{  
5.3.2纳米压印设备 {Jc.49  
5.4商业化器件的应用 I=2b)"t0  
5.4.1通信用近红外偏振器 F1u2SltR
 
5.4.2投影显示用可见光偏振器 xi[\2g+  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） ):
lH  
5.4.4高亮度发光二极管 ~@$RX:p  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 .$]-::&  
5.4.6多层集成光学元件 F R(k==pZ  
5.4.7分子电子学存储器 |8?DQhd}  
5.4.8光学和磁数据存储 <DZ$"t  
5.5结论 &embAqW:  
致谢 a4&Aw7"X  
参考文献  k`w/  
第6章平面光子晶体的设计和制造 C`=YGyj=TL  
6.1概述 iAo/Dnp2J  
6.2光子晶体学基础知识 Y?ZzFd,i&  
6.2.1晶体学术语 g#:P cl  
6.2.2晶格类型 3X%h?DC  
6.2.3计算方法 C}qHvwFm  
6.3原型平面光子晶体 VWK%6Ye0  
6.3.1电子束光刻工艺 ^[6el_mj  
6.3.2普通硅刻蚀技术 UM<!bNz`  
6.3.3时间复用刻蚀 nJ}@9v F/  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 =O
3)tm;  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 -B& Nou
 
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 +c$:#9$ |  
6.4.2负折射 Wv||9[Rd  
6.5未来应用前景 b|-S;cw  
参考文献 Eh*(N(`  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 `|2g&Vn  
7.1对称性、拓扑性和PBG :(iBLO<x  
7.2金属光子晶体 x~Dj2F]  
7.3金属结构的可加工性 Ab6R?mUM  
7.4三维光子晶体的制造 jyB Ys& v  
7.5胶体模板法 @`qB[<t8:<  
7.6微光刻工艺 GOOm] ]I  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 E=Vp%08(  
7.8膜层应力 waU2C2!w
 
7.9对准 ~@DdN5  
7.10表面粗糙度 <eZ*LK?  
7.11侧壁轮廓 6AdC  
7.12释放刻蚀 wYr*('uT  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 '<s54 Cb  
7.14结论 U;j\FE^+>  
致谢 @nAl*#M*D  
参考文献