微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 rYl37.QE  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 >qCT#TY  
[>E0(S]  
?4_;9MkN  
定价：￥ 66.00 8'y|cF%U  
优惠价格：￥ 49.50 可以享受免费送货，货到付款。 :.<&Y=^  
L<:ya  
dn Xc- <  
aozk,{9-  
本帖为实体书购买信息推荐，暂无电子文档！ (&S v$L@  
jVDNThm+  
目录 =GF+hM/~  
译者序 Vr'Z5F*@  
前言 N|DY)W  
第1章面浮雕衍射光学元件 ;$Y?j8g  
1.1制造方法 (H$eXW7  
1.2周期和波长比 )~6974  
1.3光栅形状 NoMC*",b>  
1.4深度优化 3]'3{@{}H  
1.5错位失对准 SNQ+ XtoO  
1.6边缘圆形化 %UmE=V  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 zMa`olTZ  
1.8表面纹理结构 o}T]f(>}  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 m2;%|QE(  
1.10太阳电池的表面纹理结构 @:Ns`+ W*  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 er53?z7zP.  
1.12成形金属基准层的制造工艺 zVIzrz0  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 \sk,3b
-&'  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 ;j$84o{  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 f:
TW<  
致谢 m>iuy:ti  
参考文献 R{T4AZ@,'  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 _7Z$"  
2.1概述和回顾 * 08LW|:,  
2.2基本的刻蚀处理技术 g$A1*<+  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 KT3[{lr  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 0xC!d-VIJ  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 b`^$2RM&  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 ,yB-jk?  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 2uB.0  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 @-hy:th#  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 LcF0:h'  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 })J]D~!p  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 U*-%V$3+w5  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 9qw~]W~Nm  
致谢 zRe0z2  
参考文献 KmMt:^9  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 6:e0?R^aD"  
3.1概述 _8bqk\m+  
3.2相位掩模技术 ~sM334sQ  
3.3光学元件的设计和制造 lY6U$*9c  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 5~\W!|j/  
3.3.2相位掩模的设计 =~R0
U  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 ;N)qNiJY  
3.4轴对称元件的设计和制造 0hPm,H*Y]  
3.5结论 $Q?UyEi  
参考文献 (j2]:BVu  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 @.%ll n  
4.1概述 }@x0@sI9  
4.2电子束光刻术 3iY`kf  
4.2.1电子束光刻术发展史 _mcD*V  
4.2.2电子束光刻系统 ]+J]}C]\d  
4.2.3电子束光刻技术 l!GAMK 6o  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 0n5N-b?G-@  
4.3.1回顾 hGPjH=^EM  
4.3.2硅 ](^xA`  
4.3.3砷化镓 r| YuHm  
4.3.4熔凝石英 f}o`3v*z  
4.4光学器件加工实例 k+_pj k  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 T;I a;<mfE  
4.4.2熔凝石英微偏振器 uYV#'%  
4.4.3砷化镓双折射波片 3Y>!e#  
4.5结论 `2GHB@S"k  
致谢 N8:vn0ww  
参考文献 `?~pk)<C].  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用  ~UXW  
5.1概述 kGCd!$fsk  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 \vKMNk;kz  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 C]{43  
5.3.1纳米压印组件和工艺 g&v2=&aj  
5.3.2纳米压印设备 92XzbbLp  
5.4商业化器件的应用 yY8q{\
G  
5.4.1通信用近红外偏振器 E{h  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 z~Gi/L
n  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） Fz-Bd*uS  
5.4.4高亮度发光二极管 !MoGdI-<r[  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 ]>&au8  
5.4.6多层集成光学元件 `ez_ {  
5.4.7分子电子学存储器 I9H+$Wjd  
5.4.8光学和磁数据存储 2}t2k
>  
5.5结论 |_Z(}% <o  
致谢 i{xgygp6f  
参考文献 |6$6Za]:  
第6章平面光子晶体的设计和制造 *uNa(yd  
6.1概述 nT9B?P>  
6.2光子晶体学基础知识 ShFSBD\M#  
6.2.1晶体学术语 sFMSH:5z  
6.2.2晶格类型 a3JG&6-  
6.2.3计算方法 :4/RB%)"  
6.3原型平面光子晶体 rD fUTfv|Q  
6.3.1电子束光刻工艺 9tWu>keu  
6.3.2普通硅刻蚀技术 "\Z.YZUa\  
6.3.3时间复用刻蚀 e%SQ~n=H 9  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 eA4@)6WP(  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 u05Zg*.[  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 3 rV)
JA  
6.4.2负折射 Fep#Pw1  
6.5未来应用前景 wm!Y5  
参考文献 
_5y3<H<?  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 hgLwxJu  
7.1对称性、拓扑性和PBG {+!m]-s  
7.2金属光子晶体 w>J|416  
7.3金属结构的可加工性 #zyEN+  
7.4三维光子晶体的制造 `~
F=  
7.5胶体模板法 +g>)Bur  
7.6微光刻工艺 a)/!ifJ;  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 0ERA(=w5  
7.8膜层应力 =E,^ +`M  
7.9对准 5L'X3g  
7.10表面粗糙度 Z`Rrv$M!  
7.11侧壁轮廓 *shE-w;C  
7.12释放刻蚀 xp.~i*!`  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 fczId"   
7.14结论 ~*@UQ9*p#  
致谢 |9Q4VY'";  
参考文献