微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 ^VW]Qr!  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 HB`'S7Q  
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目录 ?PqkC&o[q  
译者序 QT zN  
前言 RyU8{-q  
第1章面浮雕衍射光学元件 :J_UXtx  
1.1制造方法 J9OL>!J  
1.2周期和波长比 d
3 i(UN]  
1.3光栅形状 Wp+lI1t  
1.4深度优化 %hN(79:g  
1.5错位失对准 DaJ,(DJY  
1.6边缘圆形化 x2a ?ugQ  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 vq.o;q /  
1.8表面纹理结构 cvo+{u$s  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 Pksr9"Ah  
1.10太阳电池的表面纹理结构 GyMN;|  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 M$.bC0}T  
1.12成形金属基准层的制造工艺 ](v,2(}=  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 ju3@F8AI  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 4`mf^Kf  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 +H?g9v40  
致谢 Z,SV9 ~M  
参考文献 [[]yQ "  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 j`q>YPp  
2.1概述和回顾 ms;zC/  
2.2基本的刻蚀处理技术 r]&sXKDc  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 ^;h\#S[%  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 8_w6% md  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 4H;7GNu  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 f3qR7%X?
 
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 /4O
Qx0Xmm  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 `xHpL8i$5  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 Mpyza%zj  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 gK;dfrU.8Y  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 r7>FH!=:  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 |bSAn*6b  
致谢 .a :7|L#a  
参考文献 rqiH!R  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 5Za<]qxr  
3.1概述 <}A6 )=T  
3.2相位掩模技术 E2d
S@!]V  
3.3光学元件的设计和制造 pfIK9>i  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 ks("( nU  
3.3.2相位掩模的设计 )m3emMO2  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 {fDRVnI?  
3.4轴对称元件的设计和制造 QxaMe
8(  
3.5结论 &Ep$<kx8  
参考文献 xzA!,75@U  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 H7P}=YW".  
4.1概述 "PElQBLP:  
4.2电子束光刻术 r}e(MT:R'  
4.2.1电子束光刻术发展史 m<z?6VC  
4.2.2电子束光刻系统 H1%o)'Kut4  
4.2.3电子束光刻技术 +mD;\iW]  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 ROfV Y:,M  
4.3.1回顾 D4(73  
4.3.2硅 [.
Md_  
4.3.3砷化镓 ujE~#b}X  
4.3.4熔凝石英 YU0pWM  
4.4光学器件加工实例 '_Pb\ jK  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 e 2NF.  
4.4.2熔凝石英微偏振器 fV7 k{dR  
4.4.3砷化镓双折射波片 F=5vAv1  
4.5结论 tj00xYY  
致谢 ;
nbEV2Y<  
参考文献 GHLnwym  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 B/K=\qmm  
5.1概述 tC$+;_=+F  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 s/~pr.>-l  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 `|"o\Bg<  
5.3.1纳米压印组件和工艺 .Wp(@l'Hd  
5.3.2纳米压印设备 }*%=C!m4R!  
5.4商业化器件的应用 C"`\[F`.k  
5.4.1通信用近红外偏振器 ^t<L  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 g0a!auWM  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） k5bv57@  
5.4.4高亮度发光二极管 E=S_1  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 f>mEX='w  
5.4.6多层集成光学元件 $^ir3f+  
5.4.7分子电子学存储器 w^HI lA  
5.4.8光学和磁数据存储 1 YtY=  
5.5结论 :4X,5X7tW=  
致谢 JUDZ_cGr  
参考文献 @q]!C5  
第6章平面光子晶体的设计和制造 uQW[2f  
6.1概述 .3Smqwm=Y  
6.2光子晶体学基础知识 :mCGY9d4L  
6.2.1晶体学术语 \!uf*=d  
6.2.2晶格类型 -~\7ZRP8  
6.2.3计算方法 :18}$  
6.3原型平面光子晶体 X3gY
e-2  
6.3.1电子束光刻工艺 FU}- .Ki  
6.3.2普通硅刻蚀技术 hhylsm  
6.3.3时间复用刻蚀 Ebi~gGo  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 1uA-!T*e>  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 CnY dj~  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 6OPNP0@r  
6.4.2负折射 Kb5}M/8  
6.5未来应用前景 Y%]g,mG  
参考文献 S*3$1BTl  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 2%fkXH<  
7.1对称性、拓扑性和PBG l{ fL
~O  
7.2金属光子晶体 >/@Q7V99{  
7.3金属结构的可加工性 ao2o!-?!t  
7.4三维光子晶体的制造 YWi Y[  
7.5胶体模板法 #vBSg  
7.6微光刻工艺 }gX4dv B  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 Xe/7rhov  
7.8膜层应力 c No)LF  
7.9对准 {Y]3t9!\  
7.10表面粗糙度 l~kxK.Ru  
7.11侧壁轮廓 m]=G73jzO  
7.12释放刻蚀 T[0C
D'|E  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 ]Qx-f* D6  
7.14结论 F>@z&a}(  
致谢 X)9|ZF2`  
参考文献