微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 \s[Uq  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 1'M<{h<sP  
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目录 H+F'K XP*K  
译者序 \S3C"
P%w  
前言 $KKrl  
第1章面浮雕衍射光学元件 &%rXRP  
1.1制造方法 +\SbrB P  
1.2周期和波长比 Z{&PKS  
1.3光栅形状 wC;N*0Th  
1.4深度优化 R|Y)ow51  
1.5错位失对准 Es1Yx\/:  
1.6边缘圆形化 .BuY[,I+  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 C^]bXIb  
1.8表面纹理结构 ,0;E_i7  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 $}N'm  
1.10太阳电池的表面纹理结构 @:X~^K.  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 F(:+[$)  
1.12成形金属基准层的制造工艺 Gb\}e}TB[  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 Q lql(*  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 S-g`rTx  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 Fod2KS;g  
致谢  ]Ocf %(  
参考文献 CZt)Q4  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 j?#S M!f  
2.1概述和回顾 &$|k<{j[<f  
2.2基本的刻蚀处理技术 yD$rls:v<  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 0O|T\E8e  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 Z'hW;^e%_z  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 ^7V9\Q9  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 hBOI:4u[  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 h{VCx#!]  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 ~"iCx+pr  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 kL{2az3"c  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 8tY],  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺  jI[:`  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 C 3b  
致谢 ^;!A`t  
参考文献 vH9/}w2  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 >n{(2bcFs  
3.1概述 /m(vIl  
3.2相位掩模技术 iO(9#rV  
3.3光学元件的设计和制造 7JQ5OC3  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 LEKN%2  
3.3.2相位掩模的设计 P] ouLjyq  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 =AUR]&_B  
3.4轴对称元件的设计和制造 <{JHFU`^  
3.5结论 J#!:Z8b  
参考文献 fYl$$.  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 W:ih#YW_F  
4.1概述 It!PP1$   
4.2电子束光刻术 j"7 z  
4.2.1电子束光刻术发展史 ZOi8)Y~  
4.2.2电子束光刻系统
Ul)2A  
4.2.3电子束光刻技术 oOnk,U  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 h1:uTrtA  
4.3.1回顾 p9y "0A|  
4.3.2硅 HBXp#
$dPc  
4.3.3砷化镓 }b\e2ZK  
4.3.4熔凝石英 Y, )'0O  
4.4光学器件加工实例 y9?BvPp+  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 >t20GmmN  
4.4.2熔凝石英微偏振器 'RC(ss1G  
4.4.3砷化镓双折射波片 t:9}~
%~  
4.5结论 -:h5Ky"  
致谢 2kp.Ljt@  
参考文献 tK`sVsm>  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 &gw. &/t  
5.1概述 z AacX@  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 (dLt$<F  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 BOQ2;@:3  
5.3.1纳米压印组件和工艺 {+0]diD  
5.3.2纳米压印设备 'p80X^g  
5.4商业化器件的应用 +^iUY%pm  
5.4.1通信用近红外偏振器 !;x  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 wWKC.N  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） Nq/,41  
5.4.4高亮度发光二极管 k"uqso/  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 nw+L _b  
5.4.6多层集成光学元件 U}x2,`PI  
5.4.7分子电子学存储器 Ia=wf"JS)  
5.4.8光学和磁数据存储 hWfJh0I
 
5.5结论 YR@@:n'TP  
致谢 z| Hl*T  
参考文献 #I'W[\l~+  
第6章平面光子晶体的设计和制造 H[wJ; l  
6.1概述 Py^F},?J  
6.2光子晶体学基础知识 $W<H[k&(B  
6.2.1晶体学术语 FVW<F(g`  
6.2.2晶格类型 Ol`/r@s  
6.2.3计算方法 3k`"%R.H  
6.3原型平面光子晶体 )l[<3<@s  
6.3.1电子束光刻工艺 3ZGU?Z;R  
6.3.2普通硅刻蚀技术 cKEf- &~  
6.3.3时间复用刻蚀 E3<jH  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 22"M#:r$  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 \rY|l  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 *]nha1!S  
6.4.2负折射 0(VH8@h`O  
6.5未来应用前景 `C%,Nj  
参考文献 %<6oKE  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 8xJdK'  
7.1对称性、拓扑性和PBG *91iFeKj=  
7.2金属光子晶体 j0B, \A  
7.3金属结构的可加工性 d8`^;T ;}d  
7.4三维光子晶体的制造 BG_m}3j  
7.5胶体模板法 z6#N f,  
7.6微光刻工艺 uc<XdFcu  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 6Xb\a^q  
7.8膜层应力
=G]} L<  
7.9对准 gdT3,8`#[  
7.10表面粗糙度 Ir|Q2$W2^c  
7.11侧壁轮廓 :~3sW< PR  
7.12释放刻蚀 <mjH#aSy  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 []/=!?5B  
7.14结论 R/R[r> 1)6  
致谢 S}gUz9ks  
参考文献