微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 m+ #G*  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 ^a!oq~ZSy  
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目录 a<((\c_8G  
译者序 ]a:T]x6'  
前言 hWX4 P  
第1章面浮雕衍射光学元件 5\}QOL  
1.1制造方法 !8RJHMX&  
1.2周期和波长比 !Uhcjfq`e  
1.3光栅形状 7a.iT-*  
1.4深度优化 V@1,((,l  
1.5错位失对准 ?b]f$ 2  
1.6边缘圆形化 ;BHIss7  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 ZMK1V)ohn  
1.8表面纹理结构 S@4bpnhK  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 bF
+d_t  
1.10太阳电池的表面纹理结构 KT<N ;
[;  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 }j\8|UG  
1.12成形金属基准层的制造工艺 wMM1Q/-#  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 a3He-76  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 W,nn,%  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 =[gFa
B_H  
致谢 $! g~pV  
参考文献 oV~S4|9:  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 Z/;8eb*B7  
2.1概述和回顾 Imo?)dYK  
2.2基本的刻蚀处理技术 Nk9w; z&  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 J]Q-#g'Z  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 u:^9ZQ+  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 @DAaCF
8  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 4%u\dTg/B  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 ,JJ1sf2A  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 i \.&8  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 of`WP  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 ,awkL :  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 2d&HSW  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 g{m~TVm'  
致谢 m`@~ZIa?>B  
参考文献 C{V,=Fo^  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 A5G@u}YS5  
3.1概述 #}
UI  
3.2相位掩模技术 `3dGn.M  
3.3光学元件的设计和制造 os+]ct  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 krXU*64  
3.3.2相位掩模的设计 GGGz7_s ?  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 " _TAo  
3.4轴对称元件的设计和制造 2o0WS~}5  
3.5结论 ?A 5;"  
参考文献 4&B|rf  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 M7(]NQ\TQ  
4.1概述 -TyBb]  
4.2电子束光刻术 F Zk[w>{  
4.2.1电子束光刻术发展史 z*N%kcw"  
4.2.2电子束光刻系统 h-*h;Uyc  
4.2.3电子束光刻技术 <I2~>x5db  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 Ga;Lm?6-  
4.3.1回顾 >i2WYT  
4.3.2硅 DM{Z#b]  
4.3.3砷化镓 (i]0IYMXy*  
4.3.4熔凝石英 :)k|O
nz  
4.4光学器件加工实例 Qgl5Jr.  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 _2<d6@}
 
4.4.2熔凝石英微偏振器 ban;HGGNG{  
4.4.3砷化镓双折射波片 N9
O}6  
4.5结论 9]a!1  
致谢 HU-#xK  
参考文献 %D+NrL(  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 MAgoxq~;V  
5.1概述 OUm,;WNLf  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 sfCU"O2G  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 4?aNJyV%&  
5.3.1纳米压印组件和工艺 snny! 0E\m  
5.3.2纳米压印设备 EB5^eNdL  
5.4商业化器件的应用 12bztlv  
5.4.1通信用近红外偏振器 ],f%: ?%50  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 L^jhr>-";  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） 
-$(2Z[  
5.4.4高亮度发光二极管 B|-W  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 y~rtYI  
5.4.6多层集成光学元件 V}q=!zz  
5.4.7分子电子学存储器 ^FK-e;J  
5.4.8光学和磁数据存储 W_|7hwr  
5.5结论 >]?!9@#IH  
致谢 OJ)XJL  
参考文献 x
)e(g}n  
第6章平面光子晶体的设计和制造 /#e-x|L  
6.1概述 !l1jQq_mK  
6.2光子晶体学基础知识 OH vV_  
6.2.1晶体学术语 h%U,g 9_  
6.2.2晶格类型 c.;<+dYsm*  
6.2.3计算方法 ++d[YhO  
6.3原型平面光子晶体 5Fa/Q>N  
6.3.1电子束光刻工艺 X"v)9p  
6.3.2普通硅刻蚀技术 7iH%1f  
6.3.3时间复用刻蚀 I<$m%  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 w;V
+)r?w  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 UAtdRVi]M  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 G8OnNI  
6.4.2负折射 p~Mw^SN'  
6.5未来应用前景 4tFnZ2x  
参考文献 Wvwjj~HP2}  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 wZ~eE'zx+  
7.1对称性、拓扑性和PBG qUG)+~g`  
7.2金属光子晶体 6G?7>M  
7.3金属结构的可加工性 !FbW3p f  
7.4三维光子晶体的制造 3qrjb]E%}  
7.5胶体模板法 rA1;DSw6E[  
7.6微光刻工艺 ~{npG  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 604^~6  
7.8膜层应力 J"yq)0  
7.9对准 p`oHF 5  
7.10表面粗糙度 9lSs;
zm{Q  
7.11侧壁轮廓 }wV/)Oy[  
7.12释放刻蚀 @i@f@.t  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 Y j*Y*LB~  
7.14结论 xU$15|ny  
致谢 j79$/ Ol  
参考文献