微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 dQ;rO$co  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 xo^_;(;  
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目录 3z~zcQ^\  
译者序 /V&$SRdL*  
前言 vcV=9q8P1  
第1章面浮雕衍射光学元件 1*>a  
1.1制造方法 nSd?P'PFg  
1.2周期和波长比 To=1B`@-  
1.3光栅形状 Zu~ #d)l3N  
1.4深度优化 /xf%Rp4}  
1.5错位失对准 v,p/r)E  
1.6边缘圆形化 (sr_&7A  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 Q v{q:=k  
1.8表面纹理结构 <=19KSGFt  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 gI\J sN  
1.10太阳电池的表面纹理结构 IybMO5Mwn  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 n:k~\-&WJ  
1.12成形金属基准层的制造工艺 OmKT}D~ 4  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 ~!)_3o  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 RQ/X{<lQ)  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 Q&n
  
致谢 /i^b;?/1  
参考文献 ??1V__w  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 #kma)_X  
2.1概述和回顾 ;[dcbyu@  
2.2基本的刻蚀处理技术 4fpz;2%  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺
E;-R<X5n  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 UXIq>[2Z1  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 _CI!7%  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 oSy[/Y44a  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 0YIvE\-  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 U_M> Q_r(  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 xj%
h-@o6  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 a*%>H(x  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 $ n 7dIE  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 ;QgJw2G  
致谢 Is?0q@  
参考文献 i~l0XjQbs  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 WW==  
3.1概述 LD^V="d  
3.2相位掩模技术 jF-z?  
3.3光学元件的设计和制造 M;3uG/E\  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 bU_9GGG|  
3.3.2相位掩模的设计 {!6
!z,  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 u49/LtB\  
3.4轴对称元件的设计和制造 hQl3F6-ud  
3.5结论 9\Yj`,i
5  
参考文献 6,s@>8n  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 2r[Q$GPM<  
4.1概述 H={fY:%  
4.2电子束光刻术 W%~ S~wx  
4.2.1电子束光刻术发展史 ~?[@
KK  
4.2.2电子束光刻系统 e2/&X;2  
4.2.3电子束光刻技术 ::adT=  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 -+ $u  
4.3.1回顾 wIi(p5*  
4.3.2硅 (lEWnf=2h  
4.3.3砷化镓 <\Y>y+$3  
4.3.4熔凝石英 eMWY[f3  
4.4光学器件加工实例 bQ  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 _!w# {5~  
4.4.2熔凝石英微偏振器 4*m\Zoq>  
4.4.3砷化镓双折射波片 "kf7??Z  
4.5结论 rmWG9&coW  
致谢 8+gSn  
参考文献 mL3'/3-7:V  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 1N:eM/a  
5.1概述 ab3" ?.3m  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 %&e5i  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 gKS^
-X{x  
5.3.1纳米压印组件和工艺 )`;?%
N\  
5.3.2纳米压印设备 x?Q;o+2v  
5.4商业化器件的应用 gEPCXf  
5.4.1通信用近红外偏振器 5l{_E:.1  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 ^@L  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） qYbod+U
X  
5.4.4高亮度发光二极管 .Jou09+  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 #4~Ivj  
5.4.6多层集成光学元件 4my8 p Fk  
5.4.7分子电子学存储器 Sy8
o/-  
5.4.8光学和磁数据存储 q]'VVlP)  
5.5结论 pMs%`j#T  
致谢 P
ksHq77  
参考文献 @8V8gV?zm  
第6章平面光子晶体的设计和制造 @R`OAdy  
6.1概述 9J l9\y9  
6.2光子晶体学基础知识 )RA7Y}e|m  
6.2.1晶体学术语 ?i9LqHL  
6.2.2晶格类型 {Ivu"<`L3  
6.2.3计算方法 ^H&6'A`  
6.3原型平面光子晶体 nA%-<  
6.3.1电子束光刻工艺 5r`g6@  
6.3.2普通硅刻蚀技术 p?6
w/n  
6.3.3时间复用刻蚀 gqGl>=.m  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 Z\LW<**b  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 _(oJ8h(  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 ZTHrjW1  
6.4.2负折射 'nW:2(J  
6.5未来应用前景 Pu}r` E_  
参考文献 ~e'FPVDn  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 +O\6p  
7.1对称性、拓扑性和PBG LTFA2X&E=  
7.2金属光子晶体 ^\Jg {9a  
7.3金属结构的可加工性 b\6w[52m  
7.4三维光子晶体的制造 3osAWSCEL  
7.5胶体模板法 C2DNyMu  
7.6微光刻工艺 MPNBA1s  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 se7_:0+w  
7.8膜层应力 \s+<
w3  
7.9对准 %Z.>)R4  
7.10表面粗糙度 <R_3;5J%  
7.11侧壁轮廓 Etn]e;z4  
7.12释放刻蚀 RwY) O5  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 [+ 1([#  
7.14结论 W\FKAvS  
致谢 /I".n]  
参考文献