TracePro 照明设计培训课程 光科2012年最新计划

发布:optotek_gk 2012-01-10 15:58 阅读:5789
南京光科信息技术有限公司  TracePro 照明设计标准培训 CdN,R"V0$@  
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2012年举办城市 深圳、南京、北京 K{)YnY_E;  
K&WNtk3hT  
照明课程费用 ¥3000元 J0hY~B~X  
H8}}R~ZO  
南京总部报名电话: 025-84305866 陈小姐 ,^_aqH  
深圳公司报名电话:0755-23116599 郑小姐 ) !!xvyc  
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科学合理的授课过程,TracePro 照明设计标准培训 2012年全面升级 Gu3'<hTlxd  
Tmo+I4qoL  
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课程名称
f;(]P  
课程编号
]c8O"4n n  
课程日期
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课程地点
b7:B[7yK.x  
授课软件
kS$HIOt823  
TracePro 照明设计培训课程
(]yOd/ru/C  
TP
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2月18日-2月19日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
K_J o^BZ  
TP
S|8O$9{x9q  
3月22日-3月23日
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南京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
eKL)jzC:  
TP
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4月21日-4月22日
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深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
z^/aJ@gQ  
7月7日-7月8日
MK]S205{  
南京
S-8O9  
TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
=s P6  
9月10日-9月11日
:B=p%C  
深圳
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
6 m5\f  
TP
<!\J([NM8  
10月20日-10月21日
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北京
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TracePro
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TracePro 照明设计培训课程
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TP
&Jj^)GBU  
12月8日-12月9日
x C'>W"pY  
深圳
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TracePro
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本课程特色: " [=Ee[/  
cI3uH1;#  
从基础到高级的应用,结合实际工程案例进行讲解 yZaQ{]"  
LED二次光学设计:手电筒非球面镜头,光斑形状调节 GYiUne $  
LED路灯二次光学设计,LED阵列设计。照度等多种分析方法。 S:] w@$  
全程操作,全程练习。LED微型投影机设计案例。 l_LfVON  
LED 原厂光源使用 CREE OSRAM,光源近场及原厂分析及封装特性 #(@dN+  
RIUJ20PfYQ  
本课程遵循TracePro 中文站 LED照明设计培训课程 (jkjj7a  
P%smX`v  
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TracePro 照明设计培训课程表 0Bn$C, -  
]?U:8%  
上课时间
H BmjB=  
第一天
\O?#gW\tR  
第二天
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9:00-10:30 #]I:}Q51  
.N] ^g#  
简单的照明系统实例光通量计算 }rVnuRq  
色度学与应用CIE色坐标
8 k+Ctk  
TracePro光线追迹算法总览实例:导光管设计案例 nF}]W14x  
TracePro的光线追迹选项TracePro的光线优化参数
c0Jf  
10:30-10:45
>k^=+  
课间休息
udg;jR-^  
课间休息
c*!bT$]~\  
10:45-12:00
<?Fgm1=o  
LED色度学实例快速导览TracePro   <4*7HY[  
TracePro的建模和窗口窗口的控制 =#1iio&  
TracePro的系统树
ms3Ec`i9  
LED照明透镜及系统优化原理照明系统优化技巧: Y&k'4Y%  
1 系统效率优化2 照明准直透镜优化 z]\0]i  
3 照明透镜均匀化设计优化
+(r8SnRX  
12:00-14:00
CN: 36  
午餐
&nj@t>5Bs$  
午餐
&cDnZ3Q;  
14:00-15:30
RKIqg4>E  
TracePro中的固体模型建立固体几何模型 <H)h+?&~d  
TracePro光源定义网格、面光源、文件光源的定义 $K\\ 8$Z  
LED光源的建立CREEOSRAM光源 Qd]-i3^0  
导入原厂IES光源
tA@#SIw  
TracePro高级案例:LED手电筒透镜设计优化 \I#2Mq?  
LED聚焦及准直照明系统优化LED照明高斯匀化设计 [ OMcSd|nf  
反光杯面型设计优化
sBF}j.b  
15:30-15:45
p%J,af  
课间休息
)y.J2_lI8  
课间休息
a+zE`uY  
15:45-17:00
u&bo32fc  
TracePro的分析和模拟模组TracePro的入口和限制 Qo)>i0  
TracePro的辐照度和照度图TracePro坎德拉光强图形
x1+8f2[  
传统光源投影机光学系统设计克拉照明投影系统设计 w{K_+}fAC  
花生粒LED路灯二次透镜设计LED单颗微型投影系统设计
Vjj30f  
v"_hWJ)  
第一天课程内容 lpve Yz  
l[Ng8[R  
#(bMZ!/(  
光度学与色度学 dB_\0?jJ-  
OSRAM LED -LUW W5AM 实例 1>57rx"l  
T -C2V$1  
光源建模 光线追迹 ]_|qv1K6  
照度分析 nd_d tsp#  
光强分析 J9I!d.U  
 uGc}^a2  
物体建模练习 SMqJMirR  
3D模型文件导入导出 kP6g0,\|a|  
J h M.P9  
398}a!XM  
IES文件导入 hXbb+j  
光科IES文件生成器的使用 rt!5Tl+v  
a,M7Bb x  
方光手电筒设计 Jan73AOX  
球差调节,根据实际的光线情况,来调节或选择非球面形 - CONIC f]%$HfF @  
M*8Ef^-U`t  
光源数据图形识别 QF'N8Kla  
表面光源特性生成器 U $X"W'  
~naL1o_FZ  
0j7\.aaK  
光线追迹保存光源数据文件 l>7`D3  
手动建立SIEMENS LED *hAq]VC})  
#r#UO  
散射ABg模型 反射 透射 a0CmCv2#  
人眼观察效果-亮度计算 5Ee%!Pk  
e6QUe.S  
CREE Xlamp 系列光源 t_x \&+W  
手电筒透镜设计实例 4mQ:i7~  
g"hm"m}i  
第二天课程内容 _CciU.1k&,  
_rY,=h{+  
LED反光杯矿灯设计实例 HPg@yx"U  
+P6q wh\v  
练习:1 HKb8z@;%@  
k^S=i_ U  
XR-E 或XP-G 700mm 200mm 光斑均匀 2^E.sf$f  
NK$k9,  
PMMA 直径 < 23MM a5:YP  
%mt|Dl  
练习:2 U<KvKg  
iaLsIy#h  
XR-E 或XP-G 反光杯 700mm 100mm 均匀 中间无空洞 y5RcJM  
L#M9!  
TracePro的自动优化 + ( `  
光源坐标优化光效 1<\@i{;xsU  
反光杯准直优化 -s,^_p{H  
吸顶灯均匀光斑自动优化 B'lWs;  
SZzS$6 t  
LED透镜均匀光斑自动优化 C*,-lk0b@  
反光杯均匀光斑自动优化  .]k+hc`  
B ;9^  
自动优化练习:LED 二次透镜设计 '0p 5|[ZD  
YRfs8I^rg  
XR-E 或XP-G 距离1000mm 400mm 光斑均匀 0 j:8 Ve  
ZXY5Xvt:v  
设计过程: g>1yQ  
第一步:打开初始文件 z+@aQ@75  
光源Source 调节光线数量 | Z0?  
目标Target-圆盘 距离 主半径-光斑尺寸 SWN i@  
F@& R"-  
第二步:执行Macro 了解主要参数 \|F4@  
透镜 中心厚度 外径 (Ub=sC  
(demo r1 r2 rstep c1 c2 cstep) S1E =E5  
[V|,O'X ~  
第三步:根据第二步最佳结果,来调节优化参数 +\fr3@Yc  
反复执行这个过程(执行前删除原来的透镜) 9gZMfP  
E3X:{h/  
第四步:手动微调参数让光斑完全符合要求 0~iC#lHO  
增加光线数量,看最终效果 iKnH6} `?U  
r/$+'~apTk  
设计过程参数: 9TIyY`2!  
6iV jAxR  
(optimization -8 -15 5 -0.8 -1.2 6) .{1G"(z  
(optimization -8 -15 5 -0.5 -0.8 6) :2pd2S  
(optimization -9 -11 10 -0.4 -0.6 10) &=Gz[1 L  
WS/^WxRY  
根据设计过程发现Conic = -0.42 光斑比较均匀,但尺寸小,于是终止优化,手动调节R 让光斑符合尺寸要求。 2?u>A3^R  
AON";&dLq-  
CONIC主要决定着光斑均匀度。调节R=-10.5,满足光斑要求,设计结束。 J*o :RnB  
cv=nGFx6  
CPC TIR透镜设计 %0fF_OU  
1P. W 34  
阵列Macro的使用 MUhC6s\F  
双向非球面Macro d rnqX-E;  
X^r5su?  
花生粒LED路灯透镜设计  }fpK{db  
LED投影机的整体设计 jV]'/X<  
zl F*F8>m  
<W~5;m  
1P#bR`I >  
[ 此帖被optotek_gk在2012-01-17 10:48重新编辑 ]
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最新评论

optotek_gk 2012-03-24 10:29
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-04月20日 深圳 正在报名 (f#QETiV  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名
optotek_gk 2012-04-06 09:59
TracePro 照明设计培训课程   2012年04月18日-20日  深圳 正在报名 W7>4-gk  
为保证课程质量,每次课程设定学员上限,请从速报名 &sR=N60n  
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