2011/5/13-TracePro技术应用研讨会<深圳>

上海爱尔发科技有限公司于2011年5月13日，免费举办一场光学设计软件TracePro技术应用研讨会，为丰富此次研讨会的专业性，我们诚邀Lambda Research (Taiwan) 总经理曹兆玺先生为所有来宾带来TracePro 最新版功能及LED 与LCD 相关产业的应用与介绍，并现场为您解惑答疑。欢迎您莅临会场，共襄盛举！ *}!MOqP  
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如欲报名者,请填好报名表FAX to:021-64052327或mailto: candy@apic.com.cn 即可, 座位有限,请尽早报名,谢谢! x?yD=Mq_  
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內容: http://www.apic.com.cn/shownews.asp?id=92 ^TFs;|..  
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l   议程表(2011年05月13日,星期五) HOi C  

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08:30	报到,领取资料与精美赠品
09:00(40分钟) V H^AcO	TracePro的演变与7.0功能介绍 xN"Z1n7t   1.       TracePro的功能演变 C+V* Fh3   l   4.x – 网点与荧光粉模拟, 亮度分析 (Texture and fluorescence simulations and radiance analysis) !<\Br   l   5.x – 增强型光源 (Enhanced source management) Rf"Mr:^   l   6.x – 原生 x64 程序支持 (x64 support) 4)1;0,tlG   l   7.x – 多进程 (multi-core support) .[s2zI   2.       V7的功能 ]MTbW=*}ED   l   Grouping in model view H-5<S@8   l   Multi-core demonstration
09:40(30分钟) oFC)	TracePro在背光系统的设计与优化 y'M#z_.z   Outline: >cR)?P/o   1.       背光模块的构成与仿真 YJF#)TkF   2.       光源的建立 %y`7);.q   3.       TracePro的鳞甲与网点功能 nCxAQ|P?   4.       网点的设计与优化
10:10 ;N=G=X|}	茶叙交流 coffee break ,LYFEq_
10:30(30分钟) <,1fkq>,	荧光粉模拟与LED设计与优化 P=8>c'Q   Outline: XhW %,/<   1.       TracePro的荧光粉模拟介绍 u<tk G B   2.       快速的建立荧光粉材质与分析 RDQ^dui    3.       白光LED的设计 s d 0r'jb   4.       使用Interactive Optimizer进行LED的设计与优化
11:00~ }nx=e#[g%2	Q&A EeQ5vqU

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1.    欢迎参观5/10~5/12Strategies in Light China(香港九龙香格里拉酒店),爱尔发公司TracePro摊位8 +8P,s[0<R_  
2.    欢迎参加5/13(五) TracePro应用研讨会-深圳场