2011/5/13-TracePro技术应用研讨会<深圳>

上海爱尔发科技有限公司于2011年5月13日，免费举办一场光学设计软件TracePro技术应用研讨会，为丰富此次研讨会的专业性，我们诚邀Lambda Research (Taiwan) 总经理曹兆玺先生为所有来宾带来TracePro 最新版功能及LED 与LCD 相关产业的应用与介绍，并现场为您解惑答疑。欢迎您莅临会场，共襄盛举！ iH;IXv,b3  
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如欲报名者,请填好报名表FAX to:021-64052327或mailto: candy@apic.com.cn 即可, 座位有限,请尽早报名,谢谢! 4\rwJD<  
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內容: http://www.apic.com.cn/shownews.asp?id=92 uB*Y}"Fn  
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l   议程表(2011年05月13日,星期五) [(d))(M$|  

*y@Xm~ld   时间	主题
08:30	报到,领取资料与精美赠品
09:00(40分钟) O)EA2`)E	TracePro的演变与7.0功能介绍 \[CPI`yQe   1.       TracePro的功能演变 ]A]EED.ZH   l   4.x – 网点与荧光粉模拟, 亮度分析 (Texture and fluorescence simulations and radiance analysis) 'U|Tye i?   l   5.x – 增强型光源 (Enhanced source management) i p"LoCE   l   6.x – 原生 x64 程序支持 (x64 support) kaUEv\T    l   7.x – 多进程 (multi-core support) ?V9Da;cj   2.       V7的功能 PQJI~u9te}   l   Grouping in model view aZBS!X   l   Multi-core demonstration
09:40(30分钟) ))xyaYIZkk	TracePro在背光系统的设计与优化 -&UP[Mq   Outline: {OBV+}#   1.       背光模块的构成与仿真 wiE'6CM   2.       光源的建立 +/|;<K5_LI   3.       TracePro的鳞甲与网点功能 )B1gX>J\8   4.       网点的设计与优化
10:10 NAnccB D!{	茶叙交流 coffee break *l9Wj$vja
10:30(30分钟) M&q3xo"w	荧光粉模拟与LED设计与优化 (h$[g"8   Outline: X 8#Uk}/   1.       TracePro的荧光粉模拟介绍 xJemc3]2   2.       快速的建立荧光粉材质与分析 K| Kc.    3.       白光LED的设计 ("!P_Q#   4.       使用Interactive Optimizer进行LED的设计与优化
11:00~ ?mME^?x Mu	Q&A {%! >0@7

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1.    欢迎参观5/10~5/12Strategies in Light China(香港九龙香格里拉酒店),爱尔发公司TracePro摊位8 OMM5p=2Q  
2.    欢迎参加5/13(五) TracePro应用研讨会-深圳场