2011/5/13-TracePro技术应用研讨会<深圳>

上海爱尔发科技有限公司于2011年5月13日，免费举办一场光学设计软件TracePro技术应用研讨会，为丰富此次研讨会的专业性，我们诚邀Lambda Research (Taiwan) 总经理曹兆玺先生为所有来宾带来TracePro 最新版功能及LED 与LCD 相关产业的应用与介绍，并现场为您解惑答疑。欢迎您莅临会场，共襄盛举！ sS, z
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如欲报名者,请填好报名表FAX to:021-64052327或mailto: candy@apic.com.cn 即可, 座位有限,请尽早报名,谢谢! Bu7A{DRf  
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內容: http://www.apic.com.cn/shownews.asp?id=92
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l   议程表(2011年05月13日,星期五) sf Dg/ a  

C@%iQ]=   时间	主题
08:30	报到,领取资料与精美赠品
09:00(40分钟) \).Nag+	TracePro的演变与7.0功能介绍 eh$G.-2N   1.       TracePro的功能演变 z>6.[Z(T   l   4.x – 网点与荧光粉模拟, 亮度分析 (Texture and fluorescence simulations and radiance analysis) 5pO]vBT   l   5.x – 增强型光源 (Enhanced source management) gf+o1\5t@   l   6.x – 原生 x64 程序支持 (x64 support) RNGO~:k?r   l   7.x – 多进程 (multi-core support) Js/N()X   2.       V7的功能 +Dv7:x7   l   Grouping in model view mHKJ   l   Multi-core demonstration
09:40(30分钟) X$/E>I	TracePro在背光系统的设计与优化 sNL+ F   Outline: I$n+DwKcN   1.       背光模块的构成与仿真 qtO1hZ   2.       光源的建立 nt7|f,_J   3.       TracePro的鳞甲与网点功能 {`a(Tl8V   4.       网点的设计与优化
10:10 /K f L+"^|	茶叙交流 coffee break !6lOIgn
10:30(30分钟) {Jrf/p9w	荧光粉模拟与LED设计与优化 > 84e`aGE   Outline: +6 ho)YL   1.       TracePro的荧光粉模拟介绍 oWI!u 5   2.       快速的建立荧光粉材质与分析 \UOm]z   3.       白光LED的设计 mIvnz{_d   4.       使用Interactive Optimizer进行LED的设计与优化
11:00~ &1P(O\d	Q&A 8+ov(B;(

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1.    欢迎参观5/10~5/12Strategies in Light China(香港九龙香格里拉酒店),爱尔发公司TracePro摊位8 kL|\wci  
2.    欢迎参加5/13(五) TracePro应用研讨会-深圳场