《现代
光学薄膜技术》第一篇主要介绍光学薄膜特征的理论计算、光学多层膜的设计理论和技术,由唐晋发教授编写。第二篇主人介绍光一膜的制造技术,包括以物理气相淀积技术为代表的成膜技术,涵盖真空设备、薄膜
材料、制备
参数控制技术、薄膜厚度监控技术、膜厚均匀性以及制备参数对薄膜微观
结构影响等。第三篇主要介绍薄膜光学特性与光学常数的检测技术、薄膜机械性能的评价技术等。由于光学薄膜技术又是一门交叉性很强的学科,涉及到光电技术、计算机、真空技术、材料科学、自动控制技术等领域。
)f(.{M 光学薄膜是一门综合性非常强的工程技术科学。它的理论基础是电磁场理论和麦克斯韦方程,涉及光在传播过程中,通过分层介质的反射、透射和偏振特性等。
s6Ox!)& 为了满足部分来自不同领域的光学薄膜工作者学习《现代光学薄膜技术》的需要,增加了一个附录,主要介绍几个数学物理基础理论。
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` QC P{2V@ <} 第一篇光学多层膜设计
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Rg 第1章光学薄膜特性的理论计算
%Ci`OhT 1.1单色平面电磁波
'6U~|d 1.2平面电磁波在单一界布的反射和折射
<-KHy`u 1.3光学薄膜特性的理论计算
h&Thq52R 1.4光学多层膜内的电场强度分布
R'bmE:nL 习题
za{z2#aJ 第2章光学薄膜的设计理论
$B6CLWB 2.1矢量作图法
6f1%5&si 2.2有效界面法
h!# (. P 2.3对称膜系的等效层
O%RkU?ME 2.4导纳图解技术
U^jxKBq^ 习题
Uawf,57v< 第3章光学薄膜
系统的设计
0uX"KL]Elf 3.1减反射膜
.KiJq:$H 3.2分束镜
Q(@/,%EF 3.3高反射膜
01v7_*'R 3.4干涉截止滤光片
K"~Tk`[0Q 3.5带通滤光片
Kjbt1n 3.6特殊膜系
O:02LHE 习题
fBCW/<Z 参考文献
mEi+Tj zp 第二篇薄膜制备技术和微结构特性
e1Kxqw7 第4章薄膜制备技术
;A^0="x& 4.1真空淀积工艺
yKE[," 4.2光学薄膜材料
1,cd[^`. 4.3薄膜厚度监控艺术
%ux%=@% 4.4膜层厚度的均匀性
!e~Yp0gX# 习题
~" \qX+ 参考文献
?v-Y1j 第5章制备条件寺薄膜微观结构和成分的影响
/Mk85C79 5.1薄膜的形成过程
3V")~m 5.2薄膜的微观结构
GA&mM