光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 *Z"cX g^ti
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参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) 0fstEExw
=xkaF)AW&v
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). ' ?$@hqQn
&M5v EPR
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： TAh'u|{u2
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&L0Ii)Ns
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： \
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}s?3
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(.@bT@
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 dlyGgaV*X
PO5,lcBD<
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单击Next_Apply即可。 O: I]v@
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于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 %_n %-Qn
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cL .z{
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） \6GNKeN
hwk] ;6[
U}HSL5v
单击OK.再Load新建的目标， [pms>TQ2
u0) O Fz
uB\UIz)e
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 Gfx !.[Y
LTBH/[q5
F%zMhX'AG
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 P;(@"gD8z5
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