光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:设计和优化示例
FpoHm%+ gI+8J.AG= 参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
Z\&f"z?L Nw;qJ58@ 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
h2l;xt X{9^$/XsJ 设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜:
{#,<)wFV\
2RiJ m" i"{O~[ 单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口:
h`[$
Bp
/y$Omc^ Epzg|L1) 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。
"wUIsuG/p
GES}o9?# z;OYPGvkw 单击Next_Apply即可。
tgRj8
@
o%d
TcoCN B(Sy.n 于上表中单击
波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现
Fs+tcr/\[
ou,[0B3n0 exRw, Nk4 网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可)
% rBzA<
b@CB +8$ /dnwN7Gf 单击OK.再Load新建的目标,
`L1,JE`
q
n<?U6~F&~ $vn6%M[ 其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
pR0[qsQM
(vXr2Z<l uvys>]+ 优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。
UG| /Px ]
WQ|:TLQ