光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:设计和优化示例
 HcQ{ok9u   
{v]A`u)  参数为:500-600nm AR  QWM@500,   12L     基底:GLASS(1.52) 
 :fpYraBM   AytHnp\H  层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
 I#S6k%-'   p#J}@a  设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜:
 xp>ra2A    2lHJ&fck<   N9:xtrJ]_J
  2lHJ&fck<   N9:xtrJ]_J  单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口:
 tq>QZEg    aCFO]   3=5+NJ'8
  aCFO]   3=5+NJ'8  图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。
 't^OIil    P7"g/j" "    >	-Jd@7-
 P7"g/j" "    >	-Jd@7-  单击Next_Apply即可。
 
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 |' mgo   /o![%&-l  于上表中单击
波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现
 ] X4A)%i    ,p>=WX   OES+BXGX
  ,p>=WX   OES+BXGX  网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可)
 nvsuF)%9hZ    G4MNcy   Ck(D:
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  G4MNcy   Ck(D:
%	~s  单击OK.再Load新建的目标,
 Gv6EJV1i    -~v;'zOO   ;l5F
il,3
  -~v;'zOO   ;l5F
il,3  其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
 ^B>
4:+^    +`_%U7p(   =f{V<i~q
  +`_%U7p(   =f{V<i~q  优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。
 =R?NOWrDY    ;wgm
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