光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:设计和优化示例 J.*XXM- V
<dA8
'7^
参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) k>4qkigjc
<Pqv;WI|R
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). u'Q?T7
~KjJ\b)R
设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜: 3K/Df#
=1/NFlt8
-ML6d&cm
单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口: 4z7G2
#~:P}<h
wyc D>hc
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。 Df07y<>7Q
/k\01hc`
.r|*Ch#;P
单击Next_Apply即可。 ]rd/;kg.S
V+MK'<#B
\L!uHAE2a
于上表中单击波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现 9>m%`DG*
m/&i9A
`ue[q!Qq
网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可) 1V&PtI3!!
-xmf'c9P
`hh9"Ws%
单击OK.再Load新建的目标, Gu(lI ~
AG"l1wz
W+>wu%[L
其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 j28 _HhT
OTvROJP
( `' 8Ww
优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。 V%L/8Q~
#~Q=h`9