光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 $4C siZ6
#@uF?8u
参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) F
B&l|#e
Pz' Z n
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). E o <N
6bpO#&T
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： 4Z{ r
+\B.3%\-
A LR`z~ 1
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： `=W#owAF
d6e]aO=g
GmN~e*x>p
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 BMbZ34^e
HO8x: 2m
Z9I
?j1K|!
单击Next_Apply即可。 YksJ$yH^
Jy#2 1
0\Myhh~DLE
于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 {F$MZ2 E
\8 -PCD
R%% h=]
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） l$!g# ?w
wArtg'=X
BxXP]od
单击OK.再Load新建的目标， v0~*?m4
_dw6 C2]P
[Y Q` `
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 'ul~f$
V
@I0[B<,:G
h<f]hJ`ep
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 %-, -:e
T#G
(&0J5
