光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 shy-Gu&
?4#Li~q
参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) .=7vI$ujd
^+>laOzC`8
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). ok"k*?Ov
-n~1C {<
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： T "}5}6rSG
O_ muD\
1Kw+,.@ d
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： c ( f
bivuqKA
Drgv`z
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 { =9,n\85#
,GhS[VJjR
iJ)_RSFK
单击Next_Apply即可。 PFlNo` iO
CAig ]=2'
Wa>} wA=v
于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 "rALt~AX
'5#^i:
`!3SF|x&
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） F br;{T
.
h9&0Z +zs
U/66L+1
单击OK.再Load新建的目标， 64
wv<r]5j
@ p 9i
h lvK5Z
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 )
yi
E@
X
a_^\=&?'
n:I,PS0H<
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 z> 1Pz(
]`!> 6/[
