光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:设计和优化示例 SRL-Z&M
;6m;M63 z
参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) jN/ j\x'
8_xLl2
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). #3MKH8k&~
qn"K9k
设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜: % fhNxR
AhxGj+
3nFt1E
单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口: n?E}b$6
fz}?*vPW
Q$a
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。 Q2s&L]L=
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单击Next_Apply即可。 Eg8i _s~:
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eVt1d2.O
于上表中单击波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现 !wh&>3~
n%$ &=-Fk
lS9n@
网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可) #I%s3
z~Na-N
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单击OK.再Load新建的目标, !LIlt`ag9
4%_M27bu[
r:9gf?(&
其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 $j*Qo/xd
g1|w? pI1
%Kto.Xq
优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。 DWf$X1M
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