光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：设计和优化示例
DqQ+8 w *!W <yNrR 参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
hU]Gv)B MT?;9ZV} 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
}}cS-p 3%J7_e' 设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜：
Gv$}>YJ 
@C=Dk p T=YV
k 单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口：
vT&xM 
N8-!}\, jcY:a0 [{D 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。
bV bh| AA 
n>5/y
c"/q *p OdM0A E 单击Next_Apply即可。
en1NFP 
FK:Tni !K0:0: 于上表中单击
波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现
9pPohR*#V 
%YhM?jMW 2rG;j52))a 网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可）
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7YLG<G!v)] 55<f 单击OK.再Load新建的目标，
FVw4BUOmi 
bt2`elH| ZB|y 其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
VuiK5?m 
VD).UdUn m%[Ul@!V 优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。
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