光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：设计和优化示例
lw{| ~m5` a6OT2B 参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
a;sZN USn h9mR+ng*oD 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
Z^ 3Risi 6=k^gH[g 设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜：
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@AFLF X] Z^'; xn 单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口：
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"Y+` U
ObUQ B+ 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。
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p%_TbH3j` X"]ZV]7(]s 单击Next_Apply即可。
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@{G(. S 53c6 dl 于上表中单击
波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现
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xnTky1zq s] q fLC 网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可）
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n9%r jS$ r BL)ct 单击OK.再Load新建的目标，
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? M0@Z u|C 9[( 其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
MD,-<X)Qy 
K(?7E6\vO 711 z- 优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。
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