光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：设计和优化示例
&Ev]x2YC e.}3OK 参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
CS;W) F ^KZAYB9C 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
dx13vZ 3[U <Sprp]n
7 设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜：
F/h :&B:; 
qsft*& =tf@4 _ 单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口：
M8?#%x6;N 
4VmCW"b7h xV,4U/ T 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。
*H%0Gsk 
DYAwQ"i;6 vz yN c' 单击Next_Apply即可。
Zc4(tf9 
z^ P * : T3G/v)ufd 于上表中单击
波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现
Th~3mf
# 
?v"K1C1. *X=@yB*aK 网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可）
}
T/}0W]0 
IYfV~+P Ko$ $dkSE 单击OK.再Load新建的目标，
k+WO &g*| 
+Mk*{ A t -[zdX}x.: 其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
5w,lw 
b:F Ep'ZS ;!l*7}5X= 优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。
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