光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 `W@jo~ y<
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参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) ^&mrY [;S
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层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). B=n90XO |
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设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： BH~zeJ*Pr
6S n&; ap
A g+B*
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： CYE[$*g6y
$MQ<QP
=8`KGeP$
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 _oG%bNM
GT] >
Ut'T!RD
单击Next_Apply即可。 { ?jXPf
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V3cKdlu Na
于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 BxV>s+o&]
]9w8[ T:O
hO3
q|SL
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） Hb B8A#u
(G./P@/[
~4Fz A,,
单击OK.再Load新建的目标， 2BF455e
yevJA?C4 v
t, /8U
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 2!W[ff@~7
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Ths~8{dMb
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 S!$S'{f<
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