光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:设计和优化示例 {r?Ly1 5
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参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) @Y&(1Wl
P"+K'B7K3
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). z}P1+Pm
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设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜: }/%^;@q ;
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单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口: M/8EaQs}
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图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。 {gS7pY%_W
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(V8lmp-F
单击Next_Apply即可。 hKQg:30<
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于上表中单击波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现 |-vn,zpe
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网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可) C;eM:v0A[
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单击OK.再Load新建的目标, ?_G?SQ
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其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 1}I%yOi)
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优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。 fGDjX!3-S
:g"UG0];