光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 & A9A#It
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参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) t3#H @0<
ZYA.1VrM
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). FH`'1iVH
Q(;B)
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： Neo^C_[vN
;4/dk_~p]
+/!=Ub[:U
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： PZ!dn%4jy
>xZhK63C/
@X|i@{<';
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 u_6 BHsU
!,6v=n[Nz
v<7Gln
单击Next_Apply即可。 B/sBYVU
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Mi/ &$" =
于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 $ nfBv f
J%\~<_2ny
g<rKV+$6
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可）
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8G5) o`
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单击OK.再Load新建的目标， ;la#Vf:]
e\A(#l@g
N7~)qqb
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 2i7i\?<.
i (%tHa37
F[7Kw"~J
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 Yt/SnF
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