光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:设计和优化示例
TsfOod ,*bI0mFZ 参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
&t+03c8g! \2L%%M 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
_^0yE_ili zY bSv~) 设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜:
!FA^~
OzA"i y ,fT5I6l 单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口:
H9xxId?3u
M9fAv _$9<N5F.,o 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。
9V0iV5?( P
U*(m'Ea gk>A 单击Next_Apply即可。
kC!7<%(
]O,!B''8k T]Vh]|_s 于上表中单击
波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现
15)=>=1mR.
+s
V$s]U V2^(qpM! 网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可)
d-#MRl$rtK
s~6?p%
2] \(cu<{=rU 单击OK.再Load新建的目标,
zEl@jK,{$
sG%Q?&- ']Nw{}eS` 其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
";J1$a
Q6`oo/ S@k4k^Vg 优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。
|z<E%`u%
>Yl?i&3n