光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：设计和优化示例
3xc:Y>
*` S^*(ALFPj 参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
4KN0i /^nP_ID 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
0%v ixR52 [R roHXdk+ 设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜：
=f/avGX 
C6Um6 X9/i rj q -ZrC% 单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口：
Y;~EcM 
E;ndw/GZjR A0'tCq]?0 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。
'5&B~ 1& 
{' cs
EfMG(oI T#ecLD# 于上表中单击
波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现
cx,u2~43A& 
c~Q`{2%+ pZNlcB[Qn- 网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可）
Ip 1QVND 
0O@[on;Bd f?oI'5R41 单击OK.再Load新建的目标，
+ xkMW%e< 
@pyA;>U cHfK- R 其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
?Vb=4B{~ 
>-o?S O(M, X F0*d~4 优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。
)[a?J, 
Y D1g]p 
