光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:设计和优化示例
#<3\}*/ 5E|2S_)G 参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
y~ LVK8 U\6DEnII?! 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
|sAg@kM UGgi) 设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜:
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v[GHqZ 2F{IDcJI\ 单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口:
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1 |XZf:}q5: 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。
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I78pul8! ?Fv(4g 单击Next_Apply即可。
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W7v u>#'Y+7 于上表中单击
波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现
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sJ=B:3jS0 AR^Di`n! 网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可)
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Bw[V K7 +=4b5*+qG 单击OK.再Load新建的目标,
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RPwSo.c4 {lJpcS 其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
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^lj>v}4fkW cB^lSmu5 优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。
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