光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 L=C#E0{i
cc}#-HKR[
参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) aXZ i 2
OTJMS_IT
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). P7/Xh3
ORWi+H|
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： -Xw S?* O
g: G5'pZf
g4 + Hq *
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口：
+`ov1h
Bm%|WQK
c o^h2b
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 8?: 2<
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单击Next_Apply即可。 ) vVf- zU
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于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 hJir_=
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网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） elp Tak@
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单击OK.再Load新建的目标， `P*BW,P'T
=20
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C=cn .CX
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 y}|E)
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优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 CQrP%}`r
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