光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:设计和优化示例 4{0vdpo3F
&3itBQF
参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) a%QgL&_5
L^2wEF
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). l-SVI9|<0
di<g"8
设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜: 6t'.4SR
qV-1aaA
bzZ7L-yD
单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口: n>)h9q S
o?aF
?Iag-g9#=m
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。 pezfB{x?
t&IWKu#
l vBcEg
单击Next_Apply即可。 ?q y*`
_<?z-K_;I
/sqfw,h@
于上表中单击波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现 OJ.oHf=K!
V8Z@y&ny
h|<;:o?yh
网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可) :J+ANIRI
^__P;Gr`
-.-@|*5
单击OK.再Load新建的目标, L\"eE'A
;)ERxMun
FR\r/+n:t0
其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 @[Wf!8_
c57`mOe/b
%Siw>
优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。 <Rz[G+0S=
X@7:FzU9