光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：设计和优化示例
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z 参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
Wl- <HR!n x @KZ ] 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
Ul+Mo&y- % $5H!!~o 设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜：
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)B$;Vs] @i {{yZ@>o6 单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口：
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O"G >wv .6f%? oo 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。
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2lVHZ\G YXo|~p;=Y 单击Next_Apply即可。
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({WyDu&= 于上表中单击
波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现
4m )OR 
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0m-/ GL{ 57 网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可）
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7R !5,Js+ 6/V3.UP- 单击OK.再Load新建的目标，
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03E4cYxt5 9d[5{" 2j 其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
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_j?e~w&0b a2Pf/D]n 优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。
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o]:3 H8 
