光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:设计和优化示例 L@.Trso
w|f@sB>j
参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) iUq_vQ@}}
=R*IOJ
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). wb ^>/
ZEs^b
设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜: +mN8uU~(kx
9<.8mW^68
~( :$c3\
单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口: @(IA:6GN
5t|$Yt[
\+Y5b}
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。 m[v%Qe|~
! LCy:>i!d
@6*eS+t\
单击Next_Apply即可。 G 2uM 6
f|Nkk*9$
,6ae='=d
于上表中单击波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现 BwAmNW&i
9'p*7o
:s1.TQ;Y(
网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可) &%tW
JsEnhE}]
w$j6 !z
单击OK.再Load新建的目标, -`$J& YU
&yI>A1
:;\xyy}A
其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 8( Q[A
9%2he)Yqc
(a"/cH
优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。 %vbov}R
]2{]TJ@B