光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 ,lL0'$k~
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例:评估一四分之一波片的光谱特性: DX4
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参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) ,((5|MbM/
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层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). y$4,r4cmR|
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Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. Q'$aFl' NR
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打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： Fc 5g~T
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单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， N9,n/t
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单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK WlWBYnphZs
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然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 ;rd!kFd#bq
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同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： JMO"(?
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单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： 5hg>2?e9s?
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在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 QFDjsd4
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可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， 7<-D_$SrU
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在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： d~GT w:
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上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 o8Q(, P
f[h=>O
Q$V xm+
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： M7!&gFv8
jf .ikxm
j0:F E
保存：Data_Save Design。
