[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 [-VIojs+u  
+77B656  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: C40o_1
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c-
ql  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) 0CK3jdZ+X  
*$@u`nM  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). =G`g-E2  
!gJw?(8"  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. H4<Q}([w  
&W{v(@  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： 7\yh<?`V8  
_7'5IA  
P[tYu:  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， ZKai*q4?  
9A *gW j  
Cl!9/l?z  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK "NTiQ}i  
6!wk5#  
6i@* L\ Dl  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 ~nApRC)0  
w[AL'1s]  
?/8V%PL~$  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： G"h}6Za;DO  
pj7v{H+  
hw=~%f;  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： ER0B{b  
I{=Yuc  
X!m lC51  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 &^l(RBp]0  
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BcE  
%< `D'V@  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， /i#";~sO  
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W||&Xb  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： W6B"QbHYz  
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Eh &
'  
o7@C$R_#  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 bP>Kx-%q  
\>X!n2rLZe  
!s:e  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： Hz)i.
AA 4  
%Aqf=R_^  
8|zOgn{  
保存：Data_Save Design。