[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 7gLk~*  
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例:评估一四分之一波片的光谱特性: h('5x,G%  
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参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) | J'k9W"  
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层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). >&>EjK4?  
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Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. <%^WZ:c  
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打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： 0 -M i q  
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单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， GLub5GrxR  
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单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK DB|w&tygq  
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G]xYQ]  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 (-
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nIlx?(=pu  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： [Ous|a[)o  
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5s%e9x|kP  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： TUGD!b{  
C:AV?  
{{bwmNv"  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 3GL?&(eU;  
"IpbR  
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KF8-  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， *\+oe+3  
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在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： >sAaLR4  
8t< X  
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上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 c9@3=6S/  
WAuT`^"u  

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单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： rT-.'aQ2t  
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j,%i.[8S  
保存：Data_Save Design。