[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 9a_P 9s3w  
p[4 +`8  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: W^<AUT  
aImzK/  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) Z}O]pm>=G  
z83v J*.  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
Jt$YSp=!!  
~~yng-3)1  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. }Y-V!z5z!  
ld(60?z>FH  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： }+jB5z'w  
JE O$v|X  
[#KY.n  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， xOkdu
k]  
Y1cL dQn  
]t<=a6<P  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK IJf%OA>v  
>33=0<  
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然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 QN8+Uj/zx  
K+Him] b  
'bbw0aB4  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： 45biy(qa  
aQoB1qd8  
2D!jVr!  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： 8cO?VH,nk  
'6zZ`Ll9  
NLZ5 5yo$  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 _sy{rnaqvb  
"e-z2G@z  
.$~3RjM  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， M[I=N  
mX|M]^_,z  
]fb@>1 jp  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： 3nB
Z+n4
z  
#GGa,@O  
rQzdHA  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 {)Wf[2zJ  
|2'WSAWG  
,|c;x1|O  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： B-g uz  
!=S?*E +j)  
7bYwh8  
保存：Data_Save Design。