[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 |~Z.l  
.!/DM-C  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: P\pHos  
+? E~F  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) f(6`5/C  
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层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). bqWo*>l  
+vIpt{733  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. &CpxD."8x  
iqreIMWz  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： iP]KV.e'/C  
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3X=9$xw_  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， lmi,P-Q  

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单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK ;wK;  
A<fKO <d  
<2"'R(4",  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 opU=49b  
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;h<(vc3@f  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： N?hQ53#3  
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qIS9.AL  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： duFVh8  
Tsch:r S  
`u$  Rd  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 b"Hc==`  
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spM  
<`rmQ`(}s  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， CT1@J-np  
1y'8bt~7Pf  
`?E|frz[  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： >Q3_-yY+  
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'K&^y%~py,  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 IJa6W`}  
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 >M~1{  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： J=7.-R|t  
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X  
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保存：Data_Save Design。