光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:评估设计曲线 T-iQ!D~
gKmF#Z"\
例:评估一四分之一波片的光谱特性: P)hGe3
U7e2NES
参数为:QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) dB QCr{7
U'~]^F%eyu
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). ;?TM_%>
D'^%Q_;u
Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK. b2j~"9
I]pz3!On4,
打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口: obv_?i1
X`-o0HG
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单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称, ixoN#'y<"
et(AO)uv6
'F:Tv[qx
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK L$"pk{'
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然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。 u6:$AA
6\VZ6oS
e5"5 U7
同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500: T{N8 K K
F7]8*[u
jR+kx:+
单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图: EY
c)v6[
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H
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在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口 \NKw,`/
YM.
~E vGNnTL
可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots , 9C!b
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在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图: [o7Qr?RN
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myd:"u,}9
上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。 6?JvvS5
VCIV*5
P
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单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图: ~~m(CJ4S
,Vof<,x0
~\<L74BB
保存:Data_Save Design。