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    [原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1:评估设计曲线 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2009-06-10
    关键词: Optilayer
    光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:评估设计曲线 T-iQ!D~  
    gKmF#Z"\  
    例:评估一四分之一波片的光谱特性: P)hGe3  
    U7e2NES  
    参数为:QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) dB QCr{7  
    U'~]^F%eyu  
    层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). ;?TM_%>  
    D'^%Q_;u  
    Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK. b2j ~"9  
    I]pz3!On4,  
    打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口: obv_?i1  
    X`-o0HG  
    k! x`cp  
    单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称, ixoN#'y<"  
    et(AO)uv6  
    'F:Tv[qx  
    单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK L$"pk{'  
    >svx 8CT  
    x2/ciC  
    然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。 u6:$AA  
    6\VZ 6oS  
    e5"5 U7  
    同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500: T{N8 K K  
    F7]8*[u  
    jR+k x:+  
    单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图: EY c)v6[  
    >7 cDfv"  
     H =&K_  
    在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口 \ NKw,`/  
    YM.  
    ~EvGNnTL  
    可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots , 9C!b f \  
    >66 `hZ  
    7&w[h4Lw  
    在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图: [o7Qr?RN  
    ~LP5hL  
    myd:"u,}9  
    上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。 6?JvvS5  
    VCIV*5 P  
    m& D#5C  
    单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图: ~~m(CJ4S  
    ,Vof<,x0  
    ~\<L74BB  
    保存:Data_Save Design。
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