光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
u6Wan*I? ^E:-Uy
例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
Dln1 R[ K= nDC. 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
2eA.04F pnyu& @e 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
9+ xO2n 3vjOfr` Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
?Zsh\^k.g ^SKHYo`,,N 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
XgM&0lVT 
W&&|T;P<J 4*Gv0#dga 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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mfS}+_ C &[_@f# 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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cofdDHXfQI +^&i(7a[? 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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i3Bpim. ",J&UTUh 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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'b z&m( ! pe2:~}WB 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
H(P]Z~et 
p<#aXs jy R!
On 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
Y:L[Iz95o 
v9Sk\9}S <\O8D0. d 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
bt_c$TN 
NsSZ?ky b gKC^Q/F 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
}+G5i_ a 
N3aqNRwlk x<Gjr} 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
9__B!vw: 
$/tj<++W b;5j awG 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
-,T!/E 
O-K*->5S ipg`8*My 保存：Data_Save Design。
