[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 9F)+p7VJq  
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例:评估一四分之一波片的光谱特性: R!b<Sg  
|oPCmsO3R{  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) wUj[c7Y%  
=#dW^?p  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). 13wO6tS k  
1=gE,k5H  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. E}Q'Wz|k  
%!I7tR#;  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： YKKZRlQo  
G#-t&gO3  
b?eIFI&w^l  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， -/rP0h5#  
F7lhLly  
P_6oMR  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK Ya{$:90(4  
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_SdO}AiG  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 "C%<R  
5H#f;L\k  
;"46H'>!  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： ,Bax0p  
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Uo?g@D  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： _K["qm{X_  
H<41H;m  
vFm8T58 7  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 ,Z*&QR  
Hc^q_{}"  
cB#5LXbCE  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， }-QFMPXhG  
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6D3hX>K4  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： LG3D3{H(.  
o;5 J=  
1) 7n (  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 {2"8^;  
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-{[5P!  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
T40&a(hXQ  
U4;r.#qw,  
:"QR;O@  
保存：Data_Save Design。