光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
5atYOe p K(aJi,e> 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
y|wc ,n%L> r7qh >JrO 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
.ji_nZ4.+ 0Lb4'25. 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
B$Kn1 k kwsp9 0) Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
hJPlq0C NFv> B> 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
'F 3) 9&M 
%iw3oh&Fkm 7F'`CleU 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
#KO,~]k5|e 
=G]@+e jm eRrnC} 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
RD.V'`n" 
U,LTVYrO ?Q&yEGm( 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
#Skv(IL 
P~ &$l2 Ps<d('= 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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GA Am0; Nv"EV;$ 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
,UuH} E 
B-r0"MX & ccL~#c0P7 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
ZWS`\ M 
4
uQT5 ZzX~&95G 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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/Ju;MeE9 S .a% 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
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Ox@P6|m e zOj+vz 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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h5K $mA5 LlSZr)X 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
OD_W8!- 
m1*O0Tg]" B2O} 1. 保存：Data_Save Design。
