光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
F.D6O[pZ oJZ0{^ 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
t&-c?&FO\; xR;z!Tg) 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
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WkR 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
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Q!"f: 3*R(&O6} Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
\5b<!Nl xM>dv5<E 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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}X)aP qJ$S3B 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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n&8N`!^o xRF_'|e 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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4VzSqb `KE( R8y 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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0q BXL;sE fVZ_*'v 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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Q8DKU `U ;V- 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
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)' 2vUt`_7 ?#_ _# 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
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!= 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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,=P0rbtK cr{dl\ Na 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
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@T-}\AU VE/~tT; 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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^9kdd[ <zu)=W'R] 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
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9a .[>4} wD[ qE 保存：Data_Save Design。
