光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
NZLxHD]m p xd?f2=dd~h 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
n u[ML rk2j#>l$4 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
m@2QnA[ 4 '(f* 2eE: 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
,+DG2u O7m(o:t x3 Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
U0y% u rdP[<Y9 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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^e _hLX\SW feDlH[ $ 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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FEz-+X<q2 4i azNl# 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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l'-Bu( { OkV %Q< 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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ur` 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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W.f / pu 30#s a GV 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
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"{ }% 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
UT~4x|b:O 
; ; OAQ` s 8jV(P(O 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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TCwFPlF| X;
\+<LE 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
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r[`9uVT/ )hn6sXo+ 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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+ZaSM~ r;.y z I 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
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8yR.uMI$/ `!;_ho 保存：Data_Save Design。
