[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 WRov7  
xQ,My  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: Us2IeR  
%EH{p@nM&-  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) 6m%#cP (6K  
)lZoXt_3  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). kt2W7.A5  
|R&cQKaQ`  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. 0PD=/fh[  
A9_}RJ9  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： l0w<NZF  
%zz,qs)Eu  
ZA+w7S
3  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， "IN[(  
p|+TgOYOc  
0,whTnH|  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK R8-=N+hX  
6,cJ3~!48  
Ef$a&*)PH  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 g{^~g  
)uu(I5St  
=}g-N)^  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： Q
pD-%gN  
v>0I=ut  
xn=#4:f  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： bH.SUd)  
\q@Co42n\  
0bG#'.-  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 Ao+6^z_  
:cvT/xhO  
OcLahz6  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， ;,/4Ry22j-  
5=#2@qp  
+rJDDIb  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： " GY3sam  
hdeI/4 B  
[}HS[($  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 #/> a`Ur_  
:nOI|\rC  
n^|SN9_r  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： Vi`P &uPF  
lAR1gHhJ  
iURSYR  
保存：Data_Save Design。