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    [原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1:评估设计曲线 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2009-06-10
    关键词: Optilayer
    光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:评估设计曲线 7Tbkti;  
    [=Z{y8#:J  
    例:评估一四分之一波片的光谱特性: !8g y)2  
    !S:@x.n@iR  
    参数为:QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) ;p9D2&  
    2KEww3.{  
    层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). NSq"\A\  
    ^wlep1D  
    Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK. U*@_T3N  
    }dz(DP d  
    打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口: J\V(MN,  
    m+g>s&1H  
    "DpQnhvbB  
    单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称, [xPE?OD  
    UU/|s>F  
    ?<;<#JN  
    单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK `9-Zg??8r  
    m%&B4E#3T  
    +[ zo2lBx  
    然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。 J^:~#`8  
    9m6j?CFG}  
    MF`'r#@:wa  
    同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500: fW _.  
    > =H8>X  
    H<;j&\$q  
    单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图: U&R$(k0zS  
    m!_ghD{5h  
    Xhi?b|  
    在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口 :X f3wP=  
    ,whNh  
    #pfosC[  
    可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots , U:r2hqegd  
    9:o3JGHSc  
    GHY>DrXO1u  
    在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图: ;>N ~ ,Q  
    j`B{w   
    -cgukl4Va  
    上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。 _3a 5/IZ  
    pZxL?N!  
    $ *A3p  
    单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图: d}_c (  
    (rn x56I$  
    4)I#[&f  
    保存:Data_Save Design。
     
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