光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
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`~ Sgx+V"bkT 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
bXm :]? ]TfeBX6ST 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
g1dmkX $l43>e{E 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
9dw0<qw1% 69OE T_AS> Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
rJp?d9B :%>oe> _" 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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S`+ZcV 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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FBb m4NB Ol_/uy1r[ 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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{;;eOxOP| <EOg,"F 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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?^ eJ: P$ F#, Cn 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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BMe72 U0zW9jB 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
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1u { 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
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cdHv 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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]+FX$+H/A0 `7F@6n 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
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n J W_a&' 6@i|Kw(: 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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4$qNcMdz |:\$n}K 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
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j #4+- (xjqB{U 保存：Data_Save Design。
