[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 7s fuju(  
@tv];t  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: hC 4X Y  
j+B5m:ExfI  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) J&U
0y  
luz%FY:  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). uI-76  
C7 & 6rUX  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. W.6JnYLQ&  
ZEyGqCf3  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： oQjB&0k4  

图片:o1.jpg

Nj@?}`C 4  
xdBZ^Q  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， [?f.0q  

图片:o2.jpg

D15u1A  
0*:hm%g  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK 0)Um W{  

图片:o3.jpg

6RT0\^X*:  
kcz#8K]~  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 Py25k 0j!  

图片:o4.jpg

rs<&x(=Hv  
.8PO7#  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： y>cmKE  

图片:o5.jpg

ch8w'  
0|>  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： Dx# @D#  

图片:o6.jpg

3;l>x/amk  
gWv+i/,  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 \/4%[Q2QDm  

图片:o7.jpg

tD0>(41K  
oY6|h3T=Q$  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， E+c3KqM  

图片:o8.jpg

&MQt2aL  
 nIDsCu=A  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： UoS;!}l  

图片:o9.jpg

'>mb@m  
?*mbce[  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 ~S_IU">E  

图片:o10.jpg

XQY&4tK  
)?IA`7X  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： pD6g+Taj  

图片:o11.jpg

`8.32@rUB.  
xv%USm  
保存：Data_Save Design。