光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:评估设计曲线
 7Tbk ti;   [=Z{y8#:J  例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
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y)2   !S:@x.n@iR  参数为:QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) 
 ;p9D2&   2KEww3.{  层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
 NSq"\A\   ^wlep1D
  Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK.
 U*@_T 3N   }dz(DPd  打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口: 
 J\V(MN,    m+g>s&1H
   "DpQnhvbB
  m+g>s&1H
   "DpQnhvbB  单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称,
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 UU/|s>F	   ?<;<#JN  单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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 m%&B4E#3T   +[ zo2lBx  然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。
 J^:~#`8    9m6j?CFG}   MF`'r#@:wa
 9m6j?CFG}   MF`'r#@:wa  同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500:
 fW
_.    >=H8>X   H<;j&\$q
  >=H8>X   H<;j&\$q  单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图:
 U&R$(k0zS	    m!_ghD{5h    Xhi?b|
  m!_ghD{5h    Xhi?b|  在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口
 :X
f3wP=   ,whNh   #pfosC[
  ,whNh   #pfosC[  可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots ,
 U:r2hqegd    9:o3JGHSc   GHY>DrXO1u
  9:o3JGHSc   GHY>DrXO1u  在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图:
 ;>N	~,Q    j`B{w    -cgukl4Va
  j`B{w    -cgukl4Va  上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。
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5/IZ    pZxL?N!   $ *A3p
  pZxL?N!   $ *A3p  单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图:
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 (rn x56I$   4)I#[&f  保存:Data_Save Design。