光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:评估设计曲线
b|KlWt' S_ELV#X 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
(0W)Jd[ gf\F%VmSN 参数为:QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
$9%UAqk9 9H6%\#rw 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
A`nw(f_/ ~p* \|YC Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK.
Y:-O/X Y$\c_#/] 打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口:
r]<?,xx[ LeTOVgjA| k`u.:C& 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称,
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:$Ruy 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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@' @L 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。
IL&;2% 4u}jkd$]* >5c38D7k) 同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500:
C=zc6C, sG K7Uy u`~,`z^{n 单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图:
n{8v^x g3Z"ri~!G 3U!#rz" 在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口
U3OXO1 l37)
Q qw35LyL 可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots ,
"IuPg=|# <R.Ipyt. Wa!}$q+ 在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图:
<S@XK% j3&tXZ;F m!LJK`gA 上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。
4khc*fh gl>%ADOB@ [\,Jy8t)\ 单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图:
a"bael 9~ rYLR(v fj:q_P67o 保存:Data_Save Design。