[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 tD~ nPbbB  
7es<%H  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: tEN8S]X  
[.(,vn?6  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) y+aKk6(_W  
O"GuVC}B  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). ^Q\Hy\  
`pYyr/  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. }Q?a6(4  
kR+7JUq]  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： QZm7 Q4  
9Q.@RO$%C  
45,):U5  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， Op'&c0l  
mDXG~*1  
>T#" Im-  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK M ZAz= )-  
_f1;Hho
a  
h+ms%tNT  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 uq2C|=M-x\  
#z1/VZ  
;u-[%(00S  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
Z[9t?ePL  
h"y~!NWn  
A>ve|us$  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： GBl[s,g[|  
SHYbQF2  
-q]5@s/  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 Xw#"?B(M]  

#Dea$  
SajG67  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， |vw],r6  
%Z
3B9  
uznYLS  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： sVpET  
xi<yB0MoA  
+MqJJuWB  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 =)s~t|@v  
iR!]&Oh  
hD[r6c  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
wmA TV/  
' <?=!&\D  
9X&=?+f  
保存：Data_Save Design。