[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 :`^3MMLO  
.C;_4jE  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: C 3XZD4.2  
{$1$]p~3o  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) H?(SSL  
A1t~&?  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). akCo+ @  
ZMMo6;  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. 3?Eoj95w!  
?(ls<&s{w  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： D<3V#Opw  
chMc(.cN0  
eQaxZMU  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， sqpOS!
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PWN'.HQ  
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单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK CndgfOF  
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然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 }wOpPN[4  
DMcxa.Sd!  
T<e7(=  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： {29S`-|P  
waWKpk1Wo  
>AzWM .r  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： Tq\~<rEo  
Jg|cvu-+  
^L-w(r62<  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 ^2C /!Y<  
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8lWH=kA\  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， 'LbeL1ca  
GKyG #Fl  
$~,}yh;  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： %t~SOkx  
E<<p_hX8R  
B?#kW!wj  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 9XoQO9*Q  
S'!q}|7X3  
&`yOIX-H_  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： 8@%mnyQ  
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hY=w|b=Y  
保存：Data_Save Design。