光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 w\KO1 Ob
<R>qOX8
例:评估一四分之一波片的光谱特性: cYyv
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$O,$KAC
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) ;1}~(I#Y
AQ 3n=Lr
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). $-Q,@Bztq
t_c;4iE
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. |xyN#wi
wI\v5&X-B
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： 6rMGl zuRo
&Cp)\` [y
jx a?
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， |lAu6d
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D1t@Y.vl
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单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK Fy8KZWim
W} V L 3s
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然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 =ZjF5,@
*A.E?9pL\
?e9Acc`G5
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： L=ZKY
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oe,L&2Jz@
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： %M^X> S\%
Y!* \=h6h
A~ &Tp
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 5an#,vCn{
=< j8)2
MHmaut#
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， @x ?7J@:
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f.cIh ZF
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： % \Nfj) 9
E]V:@/(M'
7H~StdL/>
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 1a 4
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j+NOT`&
T :IKyb
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： _P.+[RS@
JaP2Q } &B
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保存：Data_Save Design。
