[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 $(gGoL<  
:)p)=c8%  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: #, Q}NO#vT  
0/\PZX+  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) bar0{!Y"  
L)F1NuR  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). v**z$5x9  
W|dpFh`  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. j1YH9T#|D  
mz\NFC<  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
@P:R~m2  
8xF)_UV  
,?g=U8y|  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， F
>dwLbnb  
rH_Jh}Y  
\sK:W|yy  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK k6Ihc?HL  
2{ o0@  
84
=-Lw  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 B0oxCc/'sZ  
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u#`+[AC`  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： vv+D*e&<  
BeK2;[5C  
k-"<{V  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： XRa(sXA3  
D_d|=
i  
#{!O,`qD  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 !?nu?  
BhKO_wQ?:J  
+YTx  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， 2;G98H  
<cYp~e%xIw  
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在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： JO2xT#V  
3bH~';<  
AD]e0_E  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 9\v.qo.  
x;u~NKy  
@\)fzubu  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： :N

uR>~  
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R2w`Y5#`  
保存：Data_Save Design。