光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
1bzPBi K'?ab 0 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
>qtB27jV ItM?nyA 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
{(a@3m~a% a]X6) 6 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
rA=F:N
2 Jq6p5jr" Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
yWzvE:!) u"T5 m 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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[&NF0c[i fvit+ 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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~fCD#D2KU d0- }Xl 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
Yf {s0Z 
(59<Zo ~Ag !wj 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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r }hj,Sq' M8juab%y 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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Z?nM t "#4PU5. 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
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}1R k]$XC uaU!V4 - 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
]-* }-j` 
6bb=; ke3=s 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
8: s3Q`O 
Q;5\( 0w5 |d%D w^ 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
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R1P ,0 Yf sp_(j!]jX 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
W{-N,?z 
PFPfLxna } Bc6:a 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
-q+Fj; El 
MH !C zV& 5lU`o 保存：Data_Save Design。
