[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 ma]? )1<{  
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例:评估一四分之一波片的光谱特性: KXe ka  
Qp!J:YV  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) A,c'g}:  
I,j3bC  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). V2Y$yV8g1  

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Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. #F4X}  
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Z  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： [g|Hj)(  
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单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， uaxB -PZ  
^saM$e^c:  
z%};X$V`J  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK xOIg|2^8  
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然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 xG%*PNM0q  
e?<D F.Md+  
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同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： +/q0Y`v  
/*P7<5n0  
qLRE}$P  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： F< |c4  
DV,DB\P$  
a: IwA9!L  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 b42QBTeg  
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可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， IMaYEO[  
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4K6x  
d*%Mv[X:<  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： mJ$Htyr  
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V6+Zh>'S  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 \HG$V>2  
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KZ3B~#oQ  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：  tgW kX  
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保存：Data_Save Design。