光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
{' 5qv@3 (.23rVvnT@ 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
@_yoX(.E& 7o]HQ[ xO 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
!#N\ b $B
.Qc !m 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
&c%Y<1e`% 'EhBRU% Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
bF-"tm jn dGiMA 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
{h dPhL 
B\CN<<N>dD lpm JLH.F 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
\".^K5Pm 
))T>jh #R&H &1 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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jvwwJ<K )!W45"l-3M 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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k#S cg T 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
(6gK4__}] 
T.:+3:8|F @N.jB#nE b 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
Acm<-de 
=o 7}]k7 lB;FUck9 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
.* /Fucr 
n1v5Q2xw Ip
*g' 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
L}k/9F.5 
s RhKlUJG H=^K @Ti: 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
>Aq:K^D/3F 
rZ03x\2 gAb D7SE 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
=:I+6PlF@ 
NL"G2[e _^ |2}t 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
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;0%OB*lcgE j}J Z
保存：Data_Save Design。
