光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
|P-kyY34 MC1&X' 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
zo r '`&b1Rc 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
Fnuheb'&m m ,Mg 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
j07b!j:"\} mcWN. Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
!T.yv5ge' bQHJ}aCi 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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:/6u* HwZh v V>=Uvm 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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o97*3W] `8 2^!7 ! 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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W{t- UK
ue -a/a 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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:` S\p [5 Hi&b NM>?O 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
=/ 19 -Y: 
kQ|phtbI k;HI -v 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
G;]zX<2^3 
5KW
n >n rfO rh^ 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
Ll`nO;h 
v %S$5 ZFtN~Tg 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
y 27 MG 
IeB^B D+j C^!~WFy 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
}BiA@n, 
[p z1f!Wn Nk?L<' 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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W\O.[7JP y7LM}dH#m 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
ZSn6JV'g 
]E1|^[y J74kK#uF= 保存：Data_Save Design。
