光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
\0 ~?i6o (d#&m+
g] 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
/k/X[/WO f$FO 1B) 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
"_&ZRcd* /W .s1N 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
\d;)U4__! /wEl\Kx Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
f+9WGN pw c@g (_%_|2 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
/)kJ iV 
+\ftSm> w)ki<Dudg 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
`V9bd}M%~; 
+ZbNSN= WSMpX -^e@ 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
+c /!R|h=S 
$e+4Kt
, Vz0 (D 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
0 uD3a-J 
^.:&ZsqV D SX%SE) 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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Je|:\Qk kcU n GiP 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
(.=ig
X 
Xps
\+l% i +@]k[9 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
[;Ih I 
M @KQOAzt A S]8rH 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
"8%$,rG1& 
@k{q[6c2 n s<LnUF1b 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
_`p-^ I 
LpY{<:y -ysNo4#e& 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
Ej)7[ 
[R1|=k GU cz,CL/rno 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
p@O Ip 
~]?s A{ [ >mH 保存：Data_Save Design。
