光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线
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例:评估一四分之一波片的光谱特性: Q[!?SSX%
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参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) 4;jAdWj3
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层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). O#^qd0e'P!
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Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. Q &&=:97d
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打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： RLw/~
H?=[9?1wI5
o9{1_7K
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， *= %`f=
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Q\^B OdX^`
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK B( wi+;
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然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 UBuG12U4Y
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同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： { v3@g[:|
g1UQ6Oa
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单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： !$-QWKD4
c)Q OgXv
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在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 "LZv\c~v,%
<Lle1=qQ
qm=9!jqC;
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， 7,{!a56zX
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Vx n-
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： ,y7X>M2
{mHxlG)
X=k|SayE8
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 DY87NS*HF
-,"eN}P^
Je#3
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： )d5mZE!3
NC x )zJ\S
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保存：Data_Save Design。
