[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 dN)@/R^E;  
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例:评估一四分之一波片的光谱特性: sry`EkS  
hsJS(qEh.'  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) 1cdX0[sN
 
#Zq[.9!q{  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). |M$ESj4@  
j0(+Kq:J  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. kN8?.V%Utw  
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打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： U#gv ~)\k  
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单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， r>kDRIHB  
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] RLEyDB  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK LVAnZ'h/|  
*nYb9.T]i  
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然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 Ks/Uyu. X  
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8 aC]" C  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： nep-?7x  
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Y)KO*40c  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： iTpK:pX  
\+I+Lrj%  
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在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 >=!
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67b[T~92o  
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可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， H'2Un(#Al  
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\*x=q20  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： ?6>rQ6tBv  
wJb"X=i*  
.=% ,DT"  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 h_?#.z0ih;  
d\{a&\v  
+f]\>{o4  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： h8-'I=~  
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保存：Data_Save Design。