光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
$5 6Z#'(D k >F 'ypm 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
Ipf|")* Y&[1` :-~- 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
+1Vjw'P @ x9a?L.48 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
c;%_EN% N8!cO[3 Oh Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
$k|g" 9 I[=j&rK` 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
2{]`W57_= 
fXXr+M or B||*.`3gN 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
K)-U1JE7 
;>5 06jZ mYxuA0/k 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
5j: 0Yt 
I'\kFjc kUq=5Y `D 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
_6_IP0; 
wQv'8A_} #%`|~%`{: 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
r^h4z`:L 
cnSJ{T zw+B9PYqX 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
H7 0LhN 
5 elw~u
bnm
P{Ps 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
bIGHGd 
^=C{.{n HqI t74+ 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
EM]s/LD@% 
|w_7_J2 =2[7
E 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
lFa02p0 
= 2Bg9!zW> 4?0vso*X<: 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
>G );j@Q 
SPN5dE.@ 8S>&WR%jH] 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
X'%E\/~u 
eyefW n& Dpvk \ t 保存：Data_Save Design。
