[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 vj0?b/5m  
OD|&qsbL  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: HrxEC)V6#  
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参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) ;_*F [ }w  
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层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). uM#/  
k/O&,T77}J  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. 5H2|:GzUc  
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打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： qsx1:Ny1  
ZS]e}]Zwp  
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单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， i|Wn*~yFOO  
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cPSu!u}D  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK ]W,g>91m  
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然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 Fy^\Uw  
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同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： huIr*)r&p  
Z(P#]jI]  
OMU#Sx!6  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： 3-D!ZS&  
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P.0-(  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 >Ko )Z&j9W  
TXM.,5Dx\  
^9i^Ci9  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， b;{C1aa>}  
(Lp-3Xx  
.IgQn|N  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： aum,bm/0J  
{T9g\F*  
TH-^tw  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 \Ip<bbB0  
Y~6pJNR  
6-~  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： 7~&Y"&  
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Dcf`+?3  
保存：Data_Save Design。