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    [原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1:评估设计曲线 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2009-06-10
    关键词: Optilayer
    光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:评估设计曲线 f+ZOE?"  
    *g %bdO  
    例:评估一四分之一波片的光谱特性: X^dasU{*  
    O-ENFA~E;v  
    参数为:QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) {>vgtkJ  
    cAGM|%  
    层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). ;7EeRM*  
    [O'aka Q  
    Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK. 8@+<W%+th  
    7p\&D?  
    打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口: mXhC-8P  
    !5h-$;  
    2Mq@5n  
    单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称, :-U& _%#w  
    qhG2j;  
    THX% z `  
    单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK >'=9sCi  
    LjEMs\P\  
    ,4XOe,WQ  
    然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。 ollVg/z  
    kREFh4QO,  
    _,v?rFLE  
    同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500: YM NLn9  
    htrtiJ1  
    NOoF1kS+  
    单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图: -OmpUv-O"  
    !2&)6SL/  
    C2zKt/)A  
    在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口 thX4-'i  
    P.k>6T<U>  
    D%?9[Qb  
    可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots , B<Cg_C  
    #u+qV!4  
    l O*  
    在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图: FL^t} vA  
    ~@QAa (P.  
    @x A^F%(  
    上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。 "Y5 :{Kj  
    v+trHdSBYE  
    4s'%BM-r-  
    单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图: eTw9 c }[  
    aR@+Qf  
    'L9hM.+  
    保存:Data_Save Design。
     
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