光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
aZmbt,. V @s\}ER3 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
j92+kq>Xd clr]gib 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
/#}%c' l_fER p#y 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
2 xi@5;! XLm@, A[ Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
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打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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:5:_Dr< ]O~ /k~f 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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] 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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w Q p{z >*}m .'u 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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KpO%)M!/Z# EtcX zq>w 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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tNW0 C] %'dsb7n 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
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,E4qxZC(X >Wj8[9zf 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
3<6P^p=I 
l`{JxVg H3S u'3 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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et}s yPH f=40_5a6 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
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N)$yBzN Q__1Q Uu 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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6z+*H7Qz 1Q9 e S& 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
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h}P"" t` A5wqm 保存：Data_Save Design。
