[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 )j8'6tk)Z  
t%mi#Gh(  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: XO;_F"H=  
l iY/BkpH  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) ()|e xWW  
pss')YP.  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). Xn"#Zy_  
iX?j"=!  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. efyEzL  
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打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： SVa^:\"$[  
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S8v,'Cc  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， |Gq3pL<jkC  
W(qK?"s2  
`&=%p|  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK s3Bo'hGxG  
!v3d:n\W8  
@w33u^  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 t,Tq3zB  
/\fR6|tJ  
M7qg\1L  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： d1yLDj?  
]#N8e?b,  
=n.&N   
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： "X<V>q$0~c  
[Qr_0O  
[?6+ r  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 O4nA?bA  
v#d3W| ~  
yu#m6K  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， ([m4dr  
l/?bXNt  
|s#,^SJ0  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： M\ wCZG  
\`8$bpW[nS  
L]YJ#5  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 UJS vtD{g  
oVl:g:K40  
mb'{@  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： 2n"-~'3\  
nF-l4=  
<&+0  
保存：Data_Save Design。