[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 qEK4I}Q-=  
a%MzNH  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: teq^xTUF[  
TdNuD V  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) `x%U  
ueWR/  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). `uIx/.L  
G|QUujl  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. q9W~7  
SZim>@R  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： g{g`YvLu^  

图片:o1.jpg

aW`:)y&f  
?o(ZTlT  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， pgz:F#>  

图片:o2.jpg

xQNw&'|UU  
*<`7|BH3  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK Lf,CxZL5  

图片:o3.jpg

PtVo7zOye  
N5q}::Odc  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 ou<S)_|Iu  

图片:o4.jpg

ysSjc  
ULp)T`P  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： d'N(w7-Y  

图片:o5.jpg

l?[{?Luq  
t7jh?]  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： PtQQZ"ept  

图片:o6.jpg

+8LM~voB  
ri/t(m^{W  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 8 *4@-3Sx  

图片:o7.jpg

fnVW/23  
^?$D.^g  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， uI%N?  

图片:o8.jpg

V+qFT3?-  
WW@JVZxK  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： P1(8
U%   

图片:o9.jpg

8yHq7=  
m.1LxM$8  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 NEqt).   

图片:o10.jpg

-vyIOH,  
!7A"vTs  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： 8q_1(& O  

图片:o11.jpg

lTa1pp Zw  
R(M}0JRm  
保存：Data_Save Design。