光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
a gmeiJT (B>yaM#5 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
%Lh-aP{[e m6bWmGn GC 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
3JlC/v#0 aJK-O"0/ 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
WX%h4)z* q5:0&:m$4$ Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
<_BqpZ^` [ -9)T 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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[<e n1 1 ?D8|< 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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]Q ".~Mm F 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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G]L0eV jHkyF`<+ 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
[5]R?bQ0q{ 
th.M.jas i>ESEmb- 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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t Y:G54d=_ T4V[R N
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
X)FL[RO%q 
iyA*J CD
~hS .\h 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
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3 q'K5}
_ (/T +Wpy? 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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EH H|4;P6 #rhVzN-?)W 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
M?E9N{t8)a 
#D!$~ h&i Y;fuh[# 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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O"@?U #Y;.>mF 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
,DE( 5iDS 
::4"wU3t M.o?CX' 保存：Data_Save Design。
