[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 yU>ucuF  
=om<*\vsO  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: 0a9[}g1=#  
CF6qEG6  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) FqZD'Uu7  
OaKr_m  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). s<;{q+1#  
Yyw9IYB;  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. 1:RK~_E  
b/_u\R ]-'  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： \*M;W|8aB  
]E.\ |I(  
.l,]yWwfK  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， n\< uT1n  
K#Xl)h}y7  
<kJ`qbOU  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK ju!V1ky  
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6
RjQ1  
9VMk?   
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 <E:_9#Z0sc  
%jJIR88  
0KZ$v/m  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： PzT@q\O  
a^Z=xlJ/uZ  
|n;5D,r0C  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： `QZKW  
(,tL(:c  
\TLfLqA  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 Q3'P<"u  
5~$WSL?O)  
Y-,S_59  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， 3[@:I^q  
m{&lU@uL  
zcuz @  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： TEbIU8{Y  
`<#O8,7`  
|WNI[49  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 P`S'F_I
N  
C`uL 4r  
FxT]*mo
 
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： k@pEs# a  
IR?nH`V  
og_ylCh:  
保存：Data_Save Design。