光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
<wd]D@l7r 9 ; i\g= 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
6<76H w3T ]H _V 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
aHzHvl /RnT Q4 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
yYZxLJ=' ]/X(V|t Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
'@nbq M ""iaGH+Cxw 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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@ R|'X 0%`4px4J 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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}c7 KvFMs\o6p 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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),}AI/j;zY ]e?x# <S 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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r=.A'"Kf +j14 Q$ 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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~nLN`H d !U%T&?E l 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
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AM"jX"F9/ >R,'5:Rw 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
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9p* gU[ 8 )*2@-Rp 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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uP $ Cj g^ Yl TB 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
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y m,H@~ 75T_Dx(H 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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`>(W"^ {@Yb%{+ 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
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N7r_77%m0 {~GYj%-^ 保存：Data_Save Design。
