光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:评估设计曲线
6lKM5,Oa =w/S{yC
例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
$S(q;Y
uJX(s6["= 参数为:QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
320g!r p#T^o]+ 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
F,l%SQCyj (qky&}H Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK.
~l@-gAyw u}L;/1,B 打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口:
_hy<11S; OlJkyL8| c{SD=wRt,y 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称,
5uJ{#Zd 1X45~ 1MF0HiC 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
iO?Sf8yJ: ti}g?\VT faJ>,^V# 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。
_);;@T J
BN_Upat lbg^ 2|o~~ 同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500:
iOO1\9{@ @N'0:0Nb_ ?7:?OX 单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图:
.!&S{;Vv?W oB8x_0#n [61T$ . 在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口
DwLl}{r' df$VC !KEnr`O2u 可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots ,
[Tq\K ^!^ =%Yw;%0)Y a=!I(50 在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图:
OlV'#D
t ;~H6 "++q.y 上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。
V L&5TZtz 2\:z
Gw;[maM!%` 单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图:
v G7aT f4k\hUA B9-Nb 4 保存:Data_Save Design。