[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 4(\1z6?D  
 Z`*V9  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: 21OfTV-+3  
k1D7=&i  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) -=lm`X<:  
W $D 34(  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). 9SeGkwec?$  
.45wwouZkc  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. p>)1Z<D"a  
-}m  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： ai;!Q%B#Q  

图片:o1.jpg

@ fMlbJq  
0c>>:w20D  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， Lx-%y
'P  

图片:o2.jpg

HVvm3qu4  
q5g_5^csM{  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK VQ!4( <XD  

图片:o3.jpg

sA6HkB.  
_A]jiPq  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 xd3mAf  

图片:o4.jpg

5tv*uz|fv  
8TYh&n=r  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： HV!P]82Pa  

图片:o5.jpg

`x=
kb;  
3R/6/+S-  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： ~6#mVP5sU)  

图片:o6.jpg

 fp||<B  
^I/(9KP#  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 '0 Ys`Qo  

图片:o7.jpg

7h9oY<W  
[vtDtwL  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， #~j$J  

图片:o8.jpg

_x5-!gK  
rKPsv*w  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： \nOV2(FAT  

图片:o9.jpg

toF6 Z  
-6 v?iiZr  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 z*nztvY@e  

图片:o10.jpg

|QzJHP @  
h%:wIkZ/  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： BCExhp  

图片:o11.jpg

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e7G>'K  
保存：Data_Save Design。