[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 a<ztA:xt|1  
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例:评估一四分之一波片的光谱特性: >djTJ>dl_u  
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参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) XVNJ
3/  
SFRQpQ06  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). r%^J3  
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Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. (XJ0?;js=  
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打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： =Zc Vywz;+  
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f0,,<ib.w
 
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， >7^i>si  
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T($6L7 j9  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK L4C_qb k;:  
"8|a4Y+F  
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然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 }xE}I<M  
8>y!=+9_  
69>N xr~k  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： 5gnmRd  
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Hjtn*^fo^  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： QY]G+3W  
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y8QJ=v* B  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 $pOgFA1'  
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X_nxC6[m%  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， -g;cg7O#(  
f.cQp&&]r  
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在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： #lHA<jI  
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YCG5)<9  
`[*nUdG  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 0Zq jq0O#  
F:o<E 42  
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单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： }F~4+4B^  
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[c=T)]E1  
保存：Data_Save Design。