光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
nF )b4`Nd up@I,9C/ 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
.c5)` iwXMe(k 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
9n# lDL O U.GRN)fL4 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
G<$ N*3 {f(RY j Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
0| }]=XN^ H{BP7!t[V 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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W=S<DtG2 ;:]#Isq 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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)Jaq5OMA/ tkX?iqKQ 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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}T ~ }W8H c+:XaDS- 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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!qe:M] C'l BY5ODc$ 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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p.|M:C\xL VR XK/dZ 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
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KCl85Wi' 0@tN3u?dx 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
0,]m.)ws 
Fd;%wWY.zm d=DQS>Nz 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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0}3Xry,{ 'Z8=y[l 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
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)Y &RMY y asZ(Hz% 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
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UJiy] y j[${h, p? 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
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xl ]1TB@ WyU \," 保存：Data_Save Design。
