[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 `|&#=hl~  
X?f\j"v  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: {$AwG#kt  
05SK$ Y<<  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) j3=%J5<  
sH_B*cr3  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). 6~b)Hc/  
Rq`d I~5!b  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. ?cur}`  
W*.j=?)\[  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： y).dw(  
%H/V iC  
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Pv dP#!  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， X^o0t^  
! mb<z^>5  
to,\sc  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK O n/q&h5  
'Bx"i  
\0fS;Q^{j  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 %^KN
Y ;E  
Ah:d2*SR4  
4"^v]&I  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： Ht4A   
u;G-46  
T;C0t9Yew  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： eXA@J[-M:  
&*j# [6  
i K,^|Q8  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 SX1w5+p$C  
vX;~m7+  
bDtb"V8e  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， A<p6]#t#X)  
wGLSei-s  
,z5B"o{Et
 
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： R1?LB"aN  
K#;EjR4H  
^~`t q+  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 +yd{-iH  
wX+KW0|>  
V:'_m'.-Y  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： / n@by4;W  
@:w[(K[^b/  
]@A31P4t|  
保存：Data_Save Design。