[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 ,g-EW jN  
x";w%  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: hT$~ygQ  
E J$36  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) B]m@:|Q  
9I1tN  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). Wcb7 ;~K  
z,qRcO&  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. T2}FYVj?!g  
/27Jev
E  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： s2?T5oWU  
swA+f  
(8v7|Pe8  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， +iRq8aS_  
TG}*5Z`  
1(|D'y#  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK WZOY)>K  
jV.g}F+1m  
k(zsm"<q  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 +k dT(7  
NCxqh<  
`_b`kzJ  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： obdFS,JxxG  
~m|Mg9-  
u0P)7~%  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： z0|&W&&D  
GN KF&M  
e[sK@jX6  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 66^ycZCH  
UzXE_S  
[tMZ G%h  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， U4 13?
Pe  
+C1QY'
>I  
LL|7rS|o  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： PW3GL3+  
dw.F5?j`b  
>
A0k 8T  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 JG9`h#  
F4<O2!V  
A AHt218  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： Ed9Z9  
Lm@vXgMD  
o)OUWGjb/K  
保存：Data_Save Design。