[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 k3[rO}>s  
{g8uMt\4  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: J|
*Z*m  
y?=W  
参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) e^v5ai  
vW6 a=j8  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). ]U[y3  
W,sU5sjA  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. Xae0xs  
[6 d~q]KH  
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： 0|6]ps4Z7  
E :gS*tsY  
RF3?q6j ,  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， LV4\zd6  
2_S%vA<L  
HCBZ*Z-  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK jA'qXc+\  
&d,chb(  
{u!Q=D$3  
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 vjo@aY.x  
3[q&%Z.  
F; upb5  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： nsT]Yxo%M  
3k YVk  
E lf'1  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： s|40v@M  
G.j R  
m/{HZKh  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 * SAYli+@  
2bJqZ,@  
Th!.=S{Y5  
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， M't~/&D#  
rbC4/9G\  
3k%fY  
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： ^pI&f{q  
 ywQ>T+  
4}i2j  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 8(AI|"A"-  
g(X-]/C{  
r'TxYM-R  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： (~59}lu~  
rTJ='<hIy  
Z)JJ-V!  
保存：Data_Save Design。