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    [原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1:评估设计曲线 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2009-06-10
    关键词: Optilayer
    光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:评估设计曲线 k N7Bd}  
    "ju'UOcS/  
    例:评估一四分之一波片的光谱特性: KP]"P*? ?  
    uLR<FpM  
    参数为:QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) (?0`d  
    'b&yrBFD  
    层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). m Y,|J\w@  
    %aRT>_6"  
    Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK. !l@zT}i??  
    L2UsqVU  
    打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口: x;s0j"`Jb  
    % Zjdl  
    ?)D^~/ A  
    单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称, YJV%a  
    dT|vYK}\  
    |{>ER,<-  
    单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK ^teq[l$;  
    zUJZ`seF  
    h^UKT`9vt  
    然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。 IxZb$h[  
    C1kYl0 zR[  
    8^/I>0EZ  
    同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500: KqY["5p  
    Fh$slow4!  
    KngTc(^_D  
    单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图: 3?I;ovsM  
    ] }|byo  
    dt@P>rel  
    在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口 ,f3pqi9|  
    rwLAW"0Qz  
    %EbPI)yY3  
    可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots , ED>prE0  
    Pz*_)N}j >  
    XRx+Dddt;  
    在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图:  {^a36i  
    "TyJP[/  
    +ZMls [  
    上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。 G 2bDf-1ew  
    *iBTI+"]  
    )SF}2?7e  
    单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图: d\{>TdyF  
    ,l YE  
    2Y\ d<.M  
    保存:Data_Save Design。
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