光学薄膜设计软件Optilayer使用实例:评估设计曲线 S;Sy.Lp
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例:评估一四分之一波片的光谱特性: 2( GYk
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参数为:QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) 6)YckxN^
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层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). 1N $OXLu
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Evaluation:新建工作目录:File_Problem,出现问题目录(Problem directory),输入目录名称,单击OK. ],!}|
a] c03$f K
打开Datebase窗口并输入基底和层材料:Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口: j7g>r/1eE
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单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料,基底输入:单击NEW,输入基底名称, 9s5s;ntz"
8~,zv_Pl
j07A>G-=
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK <Ffru?o4j
sSKD"
C3=0st$
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS,可于General Information窗口中查看。 aj1g9y
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同理,在Datebase窗口单击Layer Material,再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design,再单击New输入设计名称,单击OK出现Design窗口,输入层数12,中心波长500: =jm\8sl~~
mvpcRe
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)Az0.}
单击OK,再Load该设计。Analysis_T&R&Phase,产生Evaluation图: eVMnI yr
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E]vox~xK>
在图上单击右键,选中Axis出现分析选项窗口 GKWsJO5 n
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可调节X和Y轴,单击Apply即生效。单击Plots , s^PsA9EAn
,tZL"
8H};pu2
在Char栏下把T改为R,单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图: I+Yq",{%
_Ad63.Uq))
VPO~veQ
上图为垂直入射,我们同样可以显示有角度时的图形,Analysis_Options,再单击Plots(或在图形上单击右键再选中Plots)。 ^ux'-/
N@X6Z!EO
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单击Add,输入角度,颜色。单击Apply。如图: G
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保存:Data_Save Design。