[原创]光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线 [复制链接]

光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 rk7QZVE  
qUxRM_7U  
例:评估一四分之一波片的光谱特性: Eh|]i;G%  
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参数为：QWM@500,     12L     基底:GLASS(1.52) GKoK7qH\J  
P&b19K'  
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). ]p;FZ4-T  
xo&]RYG[<  
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. u%/goxA  
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打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： 1qf!DMcdZ  

图片:o1.jpg

DSt]{fl`P  
RB+N IoQQ|  
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， R1& [S/  

图片:o2.jpg

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'3<fsK=  
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK Pv<24:ao  

图片:o3.jpg

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然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 L5qwWvbT  

图片:o4.jpg

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vq!_^F<  
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： 6$ Gep  

图片:o5.jpg

e'=MQ,EWd  
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?  
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： <0S,Q+&  

图片:o6.jpg

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lhtZaU~V  
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 +e-G,%>9  

图片:o7.jpg

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D5`Q"k   
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， OX"j#  

图片:o8.jpg

H6&J;yT}  
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在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： v*9<c{a  

图片:o9.jpg

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^k Cn*&  
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 wN2QK6Oc  

图片:o10.jpg

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M4d47<'*~  
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： fPrLM'  

图片:o11.jpg

JR@.R ,rII  
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保存：Data_Save Design。