光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
@dcW0WQ\ 2]Y (<PC 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
LscAs q<H< O|a v( F9 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
+Mg^u-(A x6F \|nb 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
z RsA[F# IK}T. *[ Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
i?|K+ "=D mflI> J=g 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
(U-p&q>z 
!nykq}kPN\ m<OxO\ Mpf 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
W*8 D@a0 _ 
I] & I d ^n 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
6x -PGq 
@W^g(I(w '}XW 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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*TMg. $ar:5kif 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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tkJ/ h< oNiS"\t 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
0.+iVOz+Y 
xD_jfAH' 6W#+U< 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
ifBJ$x( B. 
R~c(^.|r TF3Tha] 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
s]B^Sz= 
sCnZ\C@u bfa5X< 8 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
e HOm^.gd 
{CGk5` g~ b?bIxCA8 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
FtF !Dtv 
X\$M _b>O 6tnAE': 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
8zpK; + 
V-X n &s Pu*st=KGB 保存：Data_Save Design。
