光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
:gt wvM7/B jT0f F 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
_Pal)re]U `lzH:B 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
HOG7|| &y hn .fX:} 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
w{IqzmPiH &y+eE?j Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
^ j7pF.j DK1)9< 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
>M H@FnUL 
yhmW-#+^e Y$^QH.h 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
x.RZ!V- 
6qf`P!7d]M /-lmf pT 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
* UC^&5: 
E{J;-+t c,^-nH'X> 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
+L6$Xm5DAv 
jF8l d5|_| t!GY>u>` 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
Y*f<\z(4 
kE}?"<l ^
z;pP 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
C&gJP7 UF 
[<hi OB B7;MY6h# 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
7=9jXNk Y 
H2} i . D S
yE 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
3L|k3 `I4 
hSmM OS{ B !0[LlF+ 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
-}s?!Pg> 
QHK$ sr4K-|@ 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
M=%p$\x 
p-Ju&4fS _+i-) 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
w]}v m- 
5:wf"3%% O{PRK5 ^h 保存：Data_Save Design。
