光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
lMX 2O2 o QJ`# &QRp 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
bN$!G9I!, 6ZBg/_m 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
T{={uzQeJJ H N\Zr b 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
XB)e;R 0(|BQ'4~H Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
FKd5]am C^S?W=1=w 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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HM])m>KeT *Rv eR?kO 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
:>$)Snqo=n 
h 94SLj] OYJy;u3 " 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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jGz s; bE M#J OX/ 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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{}?s0U$5 z
I`'n%n= 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
w~EXO;L2 
"aN<3 b zYdSg<[^ 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
aTs5^Kh') 
~4[2{M.0>@ U`JzE"ps] 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
< JHU* Z 
i+yqsY KO cI4%z eR 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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+vkqig l^ni"X 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
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>U^AIaW {nT !|S)$ 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
v@;:aN 
p 8BA an3 D5)qmu 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
iYA06~ d 
N~ljU;wo-9 ?6B)Ek,'X? 保存：Data_Save Design。
