光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
+["t@Q4IQ 0n <t/74 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
x<
Td EM_`` 0^ 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
*):x K;o {9 >jWNx 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
5 WR(jl+M Pkr0| bs* Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
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fo2sN"
GEg8\ 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
Kn]c4h}@b5 
=] R_6# H3=U|wr| 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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&yKU f O k-*xd 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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z Mk 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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_)q,:g~fu Ns6Vf5T. 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
x, Im%!h 
IxY%d}[uo 8^3Z]=(Q 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
G) A5;u\P9 
\Rc7$bS2H c
k= 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
kaxAIk8l 
^L&hwXAO: /aepE~T 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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X 
MB,;HeP! 9JHu{r" M 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
kRBPl9 9 
gA e*kf1 9aw- n* < 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
'1{#I/P; 
V$Y5 EX hP4*S^l 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
H26'8e 
neGCMKtzlJ $I%75IZ 保存：Data_Save Design。
