光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
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I7ur s3y" y_u 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
Lc_cB` 6xoCB/] 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
o ^" "=Z 0gH;y+\=* 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
DeTLh($\ OPC8fX5. Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
,tak{[" * {dMo,.eI 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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n a+P|'6 gbziEjRe 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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}-~LXL%!3 G(gZL%M6 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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M=Y['w x F< J`1 : 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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,M=s3D8C @ bZ,)R 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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C sCH :> .zsY VtK 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
w+iI a y 
Y{9xF8# >1 hhz 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
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d[oHjWk /i(R~7;? 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
Suy +XHV 
k(M(]y_ J$i.^ |hE/ 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
F$jfPy-f 
HNd? ' ] E^)d|_ 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
3,1HD _ 
t"P:}ps{? Rw)=<XV)6 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
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=*k+gpF 
X=V2^zrt p{AX"|QM" 保存：Data_Save Design。
