Dear各位大大................. _{T`ka
{>5c,L$
我在做led模擬,目前遇到些瓶頸,請各位大大為我解答一下....... GY0<\-
b/E1v,/<
以下是我的模擬資料,其模擬目的為研究薄膜厚度與透射率改變影響光強度(lux)之關係........ UlQ }
tjYe82
1.LED Chip:由substrate(300µm*300µm*100µm)及p-n junction組成(n-type為300µm *300µm*4µ ox)/*c<
m;p-type為300µm*300µm*0.3µm )。 '?Hy"5gUA
$^`hu%s,~
2.基板:Sapphire substrate (藍寶石基板),Index=1.7。 ?ILNp`k
F5)Ta?3|"<
3.材料:GaN (氮化鎵),Index=2.4。 e3',? 5j
s2&UeYbIs
4.光源:p-n junction上下面各1 流明,共2流明。 +]UPY5:F
}8 ,b;Q
5.光束:p-n junction上下面各1000 rays,共2000 rays。 /n(0nU[
OhIUm4=|$
6.監視面:10mm*10mm之正方面。 vChkSY([
J]$%1Y
7.距離:LED Chip與監視面之間距離為15mm。 `\#Qr|GC
#]n[
8.模擬光源假設條件: m|e!1_:H
]+,Z()
(1)藍寶石基板其它四面(前、後、左、右)設定為全部吸收,無反射現象,上部無任何設定,下部設定為全反射(假設當作一維光子晶體模擬)。 {:fyz#>>^
"<bL-k*H)
(2)LED Chip其它四面(前、後、左、右)設定為全部吸收,無反射現象,上部與下部無任何設定。 DlTV1X-^1
`s@1'IG;R_
9.我在p-type上再加設一層薄膜index為1.7,設定為不發光,其厚度由100nm、110nm、120nm一直到200nm,但我做研究的結果,其厚度改變,但結果卻是不變,也就是說光強度並未改變,我有設important sampling,target center z為15.003,如果薄膜厚度改變,其光強度不變的話,與光學原理不符,請問我是不是在哪裡有設定錯誤呢? _es>G'S