[求助]使用TracePro模擬薄膜厚度改變後之透射率問題 [复制链接]

Dear各位大大................. k3?rp`V1  
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我在做led模擬，目前遇到些瓶頸，請各位大大為我解答一下.......  X\$ 
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以下是我的模擬資料，其模擬目的為研究薄膜厚度與透射率改變影響光強度(lux)之關係........ WrPUd{QM  
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1.LED Chip：由substrate(300µm*300µm*100µm)及p-n junction組成(n-type為300µm *300µm*4µ 9O{b]=>wq  
                        m；p-type為300µm*300µm*0.3µm )。 fXI:Y8T  
    Q+4tIrd+  
2.基板：Sapphire substrate (藍寶石基板)，Index=1.7。 _Z5Mw+=19  
    !q"W{P  
3.材料：GaN (氮化鎵)，Index=2.4。 jZ`;Cy\<B  
    KL$bqgc(p3  
4.光源：p-n junction上下面各1 流明，共2流明。 2(5ebe[
 
    `w I/0  
5.光束：p-n junction上下面各1000 rays，共2000 rays。 kKC9{^%)  
    (=D&A<YX  
6.監視面：10mm*10mm之正方面。 z'T)=ycT  
    lL1k.&|5m  
7.距離：LED Chip與監視面之間距離為15mm。 !*- >;:9B  
 bR@p<;G|  
8.模擬光源假設條件： ctE\ q  
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(1)藍寶石基板其它四面(前、後、左、右)設定為全部吸收，無反射現象，上部無任何設定，下部設定為全反射(假設當作一維光子晶體模擬)。 }neY<{z  
iq( )8nxi  
(2)LED Chip其它四面(前、後、左、右)設定為全部吸收，無反射現象，上部與下部無任何設定。 r.7$&BCng  
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9.我在p-type上再加設一層薄膜index為1.7，設定為不發光，其厚度由100nm、110nm、120nm一直到200nm，但我做研究的結果，其厚度改變，但結果卻是不變，也就是說光強度並未改變，我有設important sampling，target center z為15.003，如果薄膜厚度改變，其光強度不變的話，與光學原理不符，請問我是不是在哪裡有設定錯誤呢? \%UkSO\nO3  

光形应该变的 总的光通量不会变 因为你的观测面相对chip足够大