Dear各位大大................. jb~W(8cj
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我在做led模擬，目前遇到些瓶頸，請各位大大為我解答一下....... | c:E)S\
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以下是我的模擬資料，其模擬目的為研究薄膜厚度與透射率改變影響光強度(lux)之關係........ )+Nm @+B
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1.LED Chip：由substrate(300µm*300µm*100µm)及p-n junction組成(n-type為300µm *300µm*4µ rP5&&Hso
m；p-type為300µm*300µm*0.3µm )。 asT/hsSNS
( M > C
2.基板：Sapphire substrate (藍寶石基板)，Index=1.7。 WFGcR9mN?
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3.材料：GaN (氮化鎵)，Index=2.4。 OpNTyKbaD
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4.光源：p-n junction上下面各1 流明，共2流明。 *Ce8(
"v,
xJ-(]cO'
5.光束：p-n junction上下面各1000 rays，共2000 rays。 u~uR:E%'C
ZWtlO P#]
6.監視面：10mm*10mm之正方面。 r8R]0\
>A]U.C
7.距離：LED Chip與監視面之間距離為15mm。 bF 85T(G
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8.模擬光源假設條件： }3b3 ^f
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(1)藍寶石基板其它四面(前、後、左、右)設定為全部吸收，無反射現象，上部無任何設定，下部設定為全反射(假設當作一維光子晶體模擬)。 (0wQ [(
^R g=*L
(2)LED Chip其它四面(前、後、左、右)設定為全部吸收，無反射現象，上部與下部無任何設定。 wqB 5KxO
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9.我在p-type上再加設一層薄膜index為1.7，設定為不發光，其厚度由100nm、110nm、120nm一直到200nm，但我做研究的結果，其厚度改變，但結果卻是不變，也就是說光強度並未改變，我有設important sampling，target center z為15.003，如果薄膜厚度改變，其光強度不變的話，與光學原理不符，請問我是不是在哪裡有設定錯誤呢? z:
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