[求助]使用TracePro模擬薄膜厚度改變後之透射率問題 [复制链接]

Dear各位大大................. @8QFP3\1  
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我在做led模擬，目前遇到些瓶頸，請各位大大為我解答一下....... Rk}\)r\  
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以下是我的模擬資料，其模擬目的為研究薄膜厚度與透射率改變影響光強度(lux)之關係........ 3xRM 1GgO  
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1.LED Chip：由substrate(300µm*300µm*100µm)及p-n junction組成(n-type為300µm *300µm*4µ ,;9ak-$8p  
                        m；p-type為300µm*300µm*0.3µm )。 5BrU'NF  
    X";TZk  
2.基板：Sapphire substrate (藍寶石基板)，Index=1.7。 7F,07\c  
    izXbp02  
3.材料：GaN (氮化鎵)，Index=2.4。 th5 X?so  
    dz{#"No0  
4.光源：p-n junction上下面各1 流明，共2流明。 Dq{:R  
    8FAT(f//.  
5.光束：p-n junction上下面各1000 rays，共2000 rays。 nUiS<D2  
    -b@v0%Q2M*  
6.監視面：10mm*10mm之正方面。 X'YfjbGo  
    0PYvey }[  
7.距離：LED Chip與監視面之間距離為15mm。 %=laY_y G  
 s.f`.o  
8.模擬光源假設條件： ll^Th >  
r3n=<l!Jr  
(1)藍寶石基板其它四面(前、後、左、右)設定為全部吸收，無反射現象，上部無任何設定，下部設定為全反射(假設當作一維光子晶體模擬)。 =9kj? u~  
W/#KX}4  
(2)LED Chip其它四面(前、後、左、右)設定為全部吸收，無反射現象，上部與下部無任何設定。 f+*J ue  

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9.我在p-type上再加設一層薄膜index為1.7，設定為不發光，其厚度由100nm、110nm、120nm一直到200nm，但我做研究的結果，其厚度改變，但結果卻是不變，也就是說光強度並未改變，我有設important sampling，target center z為15.003，如果薄膜厚度改變，其光強度不變的話，與光學原理不符，請問我是不是在哪裡有設定錯誤呢? 1[26w_B3  

光形应该变的 总的光通量不会变 因为你的观测面相对chip足够大