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    [求助]使用TracePro模擬薄膜厚度改變後之透射率問題 [复制链接]

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    离线阿秋
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2008-04-03
    Dear各位大大................. F1w~f <  
    !@W1d|{lu  
    我在做led模擬,目前遇到些瓶頸,請各位大大為我解答一下.......  #RbPNVs  
    \m*?5]m ;  
    以下是我的模擬資料,其模擬目的為研究薄膜厚度與透射率改變影響光強度(lux)之關係........  H.'MQ  
    4WzB=C(f  
    1.LED Chip:由substrate(300µm*300µm*100µm)及p-n junction組成(n-type為300µm *300µm*4µ ) $#ov-]  
                            m;p-type為300µm*300µm*0.3µm )。 |L%F`K>Z:  
        CP]BSyim'  
    2.基板:Sapphire substrate (藍寶石基板),Index=1.7。 M _Z*F!al<  
        N&-d8[~  
    3.材料:GaN (氮化鎵),Index=2.4。 x\*`i)su  
        LXJ"ct  
    4.光源:p-n junction上下面各1 流明,共2流明。 6^if%62l&  
        VkRvmKYl  
    5.光束:p-n junction上下面各1000 rays,共2000 rays。 UF|v=|*{#  
        eH(8T  
    6.監視面:10mm*10mm之正方面。 iVFHr<zk  
        O5{ >k  
    7.距離:LED Chip與監視面之間距離為15mm。 b U-Cd  
    >]&LbUW+  
    8.模擬光源假設條件: g(;t,Vy,I  
    )DI/y1  
    (1)藍寶石基板其它四面(前、後、左、右)設定為全部吸收,無反射現象,上部無任何設定,下部設定為全反射(假設當作一維光子晶體模擬)。 ,CA,7Mu:  
    %K\_gR}V  
    (2)LED Chip其它四面(前、後、左、右)設定為全部吸收,無反射現象,上部與下部無任何設定。 PHyS^J`  
    X%h1r`h&  
    9.我在p-type上再加設一層薄膜index為1.7,設定為不發光,其厚度由100nm、110nm、120nm一直到200nm,但我做研究的結果,其厚度改變,但結果卻是不變,也就是說光強度並未改變,我有設important sampling,target center z為15.003,如果薄膜厚度改變,其光強度不變的話,與光學原理不符,請問我是不是在哪裡有設定錯誤呢? &b iBm  
     
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    离线lifeng513
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    只看该作者 1楼 发表于: 2008-04-04
    光形应该变的 总的光通量不会变 因为你的观测面相对chip足够大