[求助]Macleod 薄膜設計 問題 [复制链接]

300~380  T abs <1%  ， T=50%@405nm +- 10nm %y q}4[S+o  
  425~680  Tave >90%  ，  T=50%@720nm +-10nm .(-3L9T}  
  780~1200 nm T ave <1% ?)&TewP  
;1nd~0
o  
用 (0.5H L 0.5H)^s  (0.5L H 0.5L)^s (0.5L H 0.5L)^s    3個膜堆(2短1長 ) /<@tbZJ*8  
oS4ag  
H： Ta2O5    L：SiO2 tdm /U  
e+mD$(h  
該如何設計

学习学习

设定优化条件呀。另外，你的基底是什么？

下来看看··！！

  顶  我也不会  怎末办？

找一下uv ir这方面的东西了

各為兄弟姊妹們幫幫忙阿 l3-;z)SgH  
)9J&M6
LX  
可以用優化