1.关于重点取样。 Y3 $jNuV
p?gm=b#
研究过mannual 里面对于重点取样的描述,应该是个有效的提高追迹效率的方法。但是自己的经验是对光源设置是有效的,但是对散射面(透射,反射)不仅无效,在重点取样方向有效光线数反而减少。 I%d=c0>%
我试过改变散射面的法向与重点取样面的组合,还有确认是"Towards"而不是离开。结果还是一样。有没有达人有这方面经验? IO)Y0J>x
a>j}@8[J
2.关于追迹不完全。 .`D'eS6b
# ~<]z
我最近在做的一个不算复杂的模拟,追30万光线,提示时间15分钟,但是总是在12-3万的地方自动停止,没有任何提示,这样光通量计算就是错的。之后作任何属性的修改都提示无法提取一个dll文件,“MSJET4x.dll",重新打开才可以。 hBU)gP75
试过修改一些结构,(拉开部件距离,防止overlap),结果都是一样。但是作其他的模拟都不会有问题。这是怎么回事? Nj9A-*0g6N
--另,内存应该没有用完,机器配置:P4 3.4Gx2(不过TP似乎只能使用一个),RAM 3G DDR2 533