主要镀膜材料及其性能和用途 1Q]Rd
名称 折射率 透光范围 蒸发温度(℃) 蒸发源 应用 tv0Ha A
三氧化二铝 1.62/550nm 200~5000 2000-2200 电子枪 增透膜、多层膜 ;(7-WnU8N
氟化铈 1.63/500nm 300~5000 1429 钼，钽，电子枪 增透膜、多层膜 <$%ql'=
氧化铈 2.35/500nm 400~16000 1950 电子枪 增透膜 W Zq,()h
冰晶石 1.33/500nm 250~14000 1000 钼，钽，电子枪 增透膜 qpI]R
氧化铪 1.95/500nm 230~7000 2500 电子枪 紫外-近红外多层膜 -LTKpN`[@
透明导电膜料 2.0/500nm 400~800 1450 电子枪，Al2O3 透明导电膜 ~/2g)IS
氟化钙 1.23-1.42/550nm 150~12000 1280~1400 钼，钽，钨 增透膜 1pK6=-3 w3
氟化镁 1.38/550nm 130~7000 1300~1600 钼，钽，钨 增透膜、多层膜 mb&lCd ^-
氧化镁 1.7/500nm 200~8000 2000 电子枪 多层膜 +IrZ
;&oy
锆钛混合物 2.1/500nm 400~7000 2300 钨，电子枪 增透膜 w! \3ICB
氧化钪 1.89/500nm 250~5000 2430 电子枪 紫外多层膜 Av o|v>
二氧化硅 1.45/500nm 200~2000 1600~2200 电子枪 多层膜 PY?8 [A+
一氧化硅 1.55/550nm 600~8000 1200~1600 钼，钽，钨 增透膜、保护膜 k'Gw!p}
五氧化二钽 2.1/500nm 400~7000 1950 电子枪 增透膜 C6|(ktt
一氧化钛 2.35/500nm 400~12000 1700~2000 电子枪 多层膜、分光膜 pV7N byb4
二氧化钛 2.35/500nm 400~12000 2200 电子枪 增透膜、多层膜 +Gow5-(
氧化钇 1.87/550nm 400~8000 2500 电子枪 增透膜、多层膜 F|Q H
氧化锆 2.05/500nm 250~7000 2500 电子枪 增透膜、多层膜 1]T|6N?
三氧化二钛 2.35/500nm 400~12000 1800~2000 钽，钨电子枪 增透膜、多层膜 C ZJV_0
氟化钡 1.4/10600nm 220~11000 1280 钼，钽，铂 紫外-远红外膜、多层膜、增透膜 Vo\H<_=G
氟化镧 1.58/500nm 220~14000 1450 钼，电子枪 增透膜 yY Y Nu`
硅 3.4/3000nm 1000~9000 1500 电子枪 红外膜 m[spn@SF
锗 4.4/2000nm 1700~23000 1300~1500 电子枪，钨 红外膜 }k 7_'p&yk
硒化锌 2.58/550nm 600~15000 600~900 钼，钽，电子枪 红外膜 H y]
硫化锌 2.4/1200nm 400~14000 1100 钼，钽，电子枪 多层膜 VevNG *
氟化钇 红外膜(10.61.49/632.8nm 200~15000 1100 钼 m)增透膜 'f+NW &
氟化镨 1.51/632.8nm 220~15000 红外膜(10.61400~1600 钼，电子枪 m)增透膜 zPR8f-U vw
氟化铝 1.35/500nm 200~8000 800~1000 电子枪，钼，钽 紫外膜 FbAW_Am(
氟化铅 1.76/470nm 220~9000 700~1000 铂 紫外膜 v8m`jxII64
氧化钆 1.8/550nm 320~15000 2200 增透膜
