主要镀膜材料及其性能和用途 CK_dEh2c
名称 折射率 透光范围 蒸发温度(℃) 蒸发源 应用 Liqo)m
三氧化二铝 1.62/550nm 200~5000 2000-2200 电子枪 增透膜、多层膜 8Pn
氟化铈 1.63/500nm 300~5000 1429 钼,钽,电子枪 增透膜、多层膜 bWFa{W5!
氧化铈 2.35/500nm 400~16000 1950 电子枪 增透膜 6N/(cUXJ
冰晶石 1.33/500nm 250~14000 1000 钼,钽,电子枪 增透膜 Cfi{%,em
氧化铪 1.95/500nm 230~7000 2500 电子枪 紫外-近红外多层膜 2yN!yIPR
透明导电膜料 2.0/500nm 400~800 1450 电子枪,Al2O3 透明导电膜 fc#9e9R
氟化钙 1.23-1.42/550nm 150~12000 1280~1400 钼,钽,钨 增透膜 oW^b,{~V
氟化镁 1.38/550nm 130~7000 1300~1600 钼,钽,钨 增透膜、多层膜 {*xE+ |
氧化镁 1.7/500nm 200~8000 2000 电子枪 多层膜 l+ }=D@l
锆钛混合物 2.1/500nm 400~7000 2300 钨,电子枪 增透膜 $AK
^E6
氧化钪 1.89/500nm 250~5000 2430 电子枪 紫外多层膜 %YG?7PBB
二氧化硅 1.45/500nm 200~2000 1600~2200 电子枪 多层膜 w2LnY1A
一氧化硅 1.55/550nm 600~8000 1200~1600 钼,钽,钨 增透膜、保护膜 y_X6{}Ke
五氧化二钽 2.1/500nm 400~7000 1950 电子枪 增透膜 7[ ovEE54
一氧化钛 2.35/500nm 400~12000 1700~2000 电子枪 多层膜、分光膜 ~
'ZwD/!e
二氧化钛 2.35/500nm 400~12000 2200 电子枪 增透膜、多层膜 Ev fvU:z
氧化钇 1.87/550nm 400~8000 2500 电子枪 增透膜、多层膜 N/a4Gl(
氧化锆 2.05/500nm 250~7000 2500 电子枪 增透膜、多层膜 2BccE
三氧化二钛 2.35/500nm 400~12000 1800~2000 钽,钨电子枪 增透膜、多层膜 zIa={tU
氟化钡 1.4/10600nm 220~11000 1280 钼,钽,铂 紫外-远红外膜、多层膜、增透膜 9q;O`&
氟化镧 1.58/500nm 220~14000 1450 钼,电子枪 增透膜 g]~vZj
硅 3.4/3000nm 1000~9000 1500 电子枪 红外膜 8JLf @C:
锗 4.4/2000nm 1700~23000 1300~1500 电子枪,钨 红外膜 m6Dm1'+
硒化锌 2.58/550nm 600~15000 600~900 钼,钽,电子枪 红外膜 {vu\qXmMv
硫化锌 2.4/1200nm 400~14000 1100 钼,钽,电子枪 多层膜 Fa("Gok[
氟化钇 红外膜(10.61.49/632.8nm 200~15000 1100 钼 m)增透膜 ?2@^O=I
氟化镨 1.51/632.8nm 220~15000 红外膜(10.61400~1600 钼,电子枪 m)增透膜 SioeIXU
氟化铝 1.35/500nm 200~8000 800~1000 电子枪,钼,钽 紫外膜 `YOYC
氟化铅 1.76/470nm 220~9000 700~1000 铂 紫外膜 @?B+|*cm
氧化钆 1.8/550nm 320~15000 2200 增透膜