[培训]薄膜设计与镀膜工艺 12.4-6号上海线下专题课程 [复制链接]

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时间地点 7OF6;@<  
主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司（微信公众号：讯技光电INFOTEK） 3zdm-5R.b  
苏州黉论教育咨询有限公司（微信公众号：honglun-seminary）  Rd|#-7  
课程时间： 2026/12/4（四）-12/6（日） JL[xrK0  
课程地点：上海讯技 ;8!L*uMI  
课程讲师：讯技光电工程团队成员 kkvG=  
课程费用：4800RMB/1人次(包含课程材料费、开票税金、午餐费) re\pE2&B  
课程简介： ){~]-VK  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 uvbXsO"z]]  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 <d&9`e1Hc  
    易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 puE!7:X7  
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课程大纲： ^5{M@o  
1.Essential Macleod软件介绍 YzasT:EZN  
1.1 介绍软件 X,
+M?  
1.2 创建一个简单的设计 IYZ$a/{P  
1.3 绘图和制表来表示性能 ZT;8Wvo  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 H Pvs~`>V  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） ix.I)  
1.6 特定设计的公式技术 #* KmPc+  
1.7 交互式绘图 QC/%|M0 {  
2.光学薄膜理论基础
D\"F?>  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 0m`{m'B4n  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 J 'qhY'te  
3. 材料管理 
x(r>iy  
3.1 材料模型 .(2Zoa  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 B<et&r;  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 \xtY\q,[  
3.4 基板光学常数的提取 KG8:F].u(  
4. 光学薄膜设计优化方法 BH@b]bEJ  
4.1 参考波长与g 9hbn<Y  
4.2 四分之一规则 i.~*G8!DM  
4.3 导纳与导纳图 cN]e{|  
4.4 斜入射光学导纳 m+3U[KKvG  
4.5 光学薄膜设计的进展 BAy]&q|.  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 1-!q,q  
4.6.1 优化目标设置 f_{OU E  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） ]U
LE>a  
4.6.3 膜层锁定和链接 klUW_d-  
5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用 ZKk*2EK]2z  
5.1 减反射薄膜 :h(r2?=7  
5.2 分光膜 U/p|X)  
5.3 高反射膜 E:!qncL:  
5.4 干涉截止滤光片 0P?\eoB@8  
5.5 窄带滤光片 A7e
F.V&  
5.6 负滤光片 R=/^5DZ}  
5.7 非均匀膜与Rugate滤光片 7BNu.5*y  
5.8 仿生蛾眼/复眼结构 il403Ae0  
5.9 颜色膜 pz uR H1[  
5.10 Vstack薄膜设计示例 C;DR@'+q  
5.11 Stack应用范例说明 #z.QBG@  
6. 薄膜性能分析 *'BA# /
@  
6.1 电场分布 !}+rg2  
6.2 公差与灵敏度分析 /a'cP  
6.3 反演工程 et-<ib<lY  
6.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 ";>>{lYA.  
7. 真空技术 Iz^lED  
7.1 常用真空泵介绍 H.H$5(?O  
7.2 真空密封和检漏 $t1XoL  
8. 薄膜制备技术 >sfH[b  
8.1 常见薄膜制备技术 jO5R0^w  
9. 薄膜制备工艺 !+F6Bf  
9.1 薄膜制备工艺因素 X~#jx(0_  
9.2 薄膜均匀性修正技术 cW|M4`  
9.3 光学薄膜监控技术 * 11|P  
10. 激光薄膜 "&@v[O)!xu  
10.1 薄膜的损伤问题 _7^4sR8=  
10.2 激光薄膜的制备流程 0/g 0=dW=  
10.3 激光薄膜的制备技术 0}:wM':G  
11. 光学薄膜特性测量 A/xo'G  
11.1 薄膜光谱测量 l&2}/A  
11.2 薄膜光学常数测量 'IykIf  
11.3 薄膜应力测量 uyfH;9L5$  
11.4 薄膜损伤测量 `H#G/zOr  
11.5 薄膜形貌、结构与组分分析 s?}m~Pl  
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有兴趣学习者请联系微信号18019382784