[培训]薄膜设计与镀膜工艺 12.4-6号上海线下专题课程 [复制链接]

_-R&A@  
时间地点 6]^~yby P  
主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司（微信公众号：讯技光电INFOTEK） ?s-Z
3{k  
苏州黉论教育咨询有限公司（微信公众号：honglun-seminary） xe&w.aBI>  
课程时间： 2026/12/4（四）-12/6（日） DCheG7lo{  
课程地点：上海讯技 2N}UB=J  
课程讲师：讯技光电工程团队成员 u==`]\_@  
课程费用：4800RMB/1人次(包含课程材料费、开票税金、午餐费) `Q!#v{  
课程简介： sq45
fRAi  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 9{cpxJ  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 buu /Nz$  
    易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 ]=Dzr<*v  
_wp_y-"  
课程大纲： @km@\w  
1.Essential Macleod软件介绍 Q
^{XM  
1.1 介绍软件 /Pyj|!C3`q  
1.2 创建一个简单的设计 B~h3naSe  
1.3 绘图和制表来表示性能 =MjkD)l  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 M->
BV9  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） ak"W/"2:  
1.6 特定设计的公式技术 ?e#bq]  
1.7 交互式绘图 L:_GpZ_  
2.光学薄膜理论基础 PY76;D*`  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 WXs?2S*  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 V]5MIiNl  
3. 材料管理 $V\Dl]a1  
3.1 材料模型 NyR,@n1  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 =fcM2O#$  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ''?iJFR  
3.4 基板光学常数的提取 H
DYWDp  
4. 光学薄膜设计优化方法 0$BX8?Z  
4.1 参考波长与g Mc9JFzp  
4.2 四分之一规则  &Sdf0"  
4.3 导纳与导纳图 `V2doV)  
4.4 斜入射光学导纳 wA2^I70-  
4.5 光学薄膜设计的进展 t\XA JU  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 "8iIOeY-\  
4.6.1 优化目标设置 {`ByZB  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） w'6sJ#ba(  
4.6.3 膜层锁定和链接 .(%]RSBY  
5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用 M)"'Q6ck=  
5.1 减反射薄膜 jR2^n`D  
5.2 分光膜 O<P(
UT"  
5.3 高反射膜 _-|+k  
5.4 干涉截止滤光片 "SA*  
5.5 窄带滤光片 T"/dn%21  
5.6 负滤光片 "9X1T]  
5.7 非均匀膜与Rugate滤光片 Vtv~jJ{m  
5.8 仿生蛾眼/复眼结构 64qqJmG3  
5.9 颜色膜 #H]c/  
5.10 Vstack薄膜设计示例 "BZL*hHq  
5.11 Stack应用范例说明 <<PXh&wu0  
6. 薄膜性能分析 AD~
_n^  
6.1 电场分布 j;J`PH  
6.2 公差与灵敏度分析 %uz6iQaq]X  
6.3 反演工程 K]&i9`>N   
6.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 1T}jK^"  
7. 真空技术 wlFK#iK  
7.1 常用真空泵介绍 _H"_&m$aDm  
7.2 真空密封和检漏 AAF']z<4_"  
8. 薄膜制备技术 TDX~?>P  
8.1 常见薄膜制备技术 Zg9VkL6Z6  
9. 薄膜制备工艺 H6hhU'Kxf8  
9.1 薄膜制备工艺因素 ~t<uX "K  
9.2 薄膜均匀性修正技术 VA@  
9.3 光学薄膜监控技术 E(_lm&,4+  
10. 激光薄膜 Tm2+/qO,  
10.1 薄膜的损伤问题 /*(&Dmt>  
10.2 激光薄膜的制备流程 D `av9I  
10.3 激光薄膜的制备技术 x~ID[  
11. 光学薄膜特性测量 |$Cfm}  
11.1 薄膜光谱测量 N%S|Ey@f  
11.2 薄膜光学常数测量 p2 !w86 F  
11.3 薄膜应力测量 d~q7!  
11.4 薄膜损伤测量 Sqx'nXgO  
11.5 薄膜形貌、结构与组分分析 KMx '(  
32Wa{LG;2  
有兴趣学习者请联系微信号18019382784