[培训]薄膜设计与镀膜工艺 12.4-6号上海线下专题课程 [复制链接]

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时间地点 MSqVlj  
主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司（微信公众号：讯技光电INFOTEK） n QZwC  
苏州黉论教育咨询有限公司（微信公众号：honglun-seminary） >kDQkhZ  
课程时间： 2026/12/4（四）-12/6（日） gANuBWh8T  
课程地点：上海讯技 {|_M #w~&  
课程讲师：讯技光电工程团队成员 ?2{Gn-{  
课程费用：4800RMB/1人次(包含课程材料费、开票税金、午餐费) <~'"<HwtK  
课程简介： =I;ZMJR  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 suiS&$-E  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 .A{tQ1&_  
    易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 # 0Q]dO  
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课程大纲： +tIF h'  
1.Essential Macleod软件介绍 L<-_1!wh  
1.1 介绍软件 ;jvBF4Lb>  
1.2 创建一个简单的设计 )E@.!Ut4o  
1.3 绘图和制表来表示性能 '(yAfL 9}  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 lC("y' ::  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） E}Z/*lX  
1.6 特定设计的公式技术 L Mbn  
1.7 交互式绘图 [-k  
2.光学薄膜理论基础 bvr^zH,C  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 
FR4QUk  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 E=CsIK   
3. 材料管理 Cc' 37~6~P  
3.1 材料模型 fg!__Rdi  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 K&ZtRRDd  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 mPN@{.(j  
3.4 基板光学常数的提取 RJ ||}5  
4. 光学薄膜设计优化方法 Mxsa-?R;v  
4.1 参考波长与g [.'|_l  
4.2 四分之一规则 2"kLdD  
4.3 导纳与导纳图 N~d?WD\^  
4.4 斜入射光学导纳 OgQV;at  
4.5 光学薄膜设计的进展 ZaDyg"Tw+  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 w\}ieI8J  
4.6.1 优化目标设置 4Lh!8g=/  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） lhz{1P]s  
4.6.3 膜层锁定和链接
J^nBdofP  
5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用 V>)OpvoT#  
5.1 减反射薄膜 o"Euwh!!  
5.2 分光膜 c~$)UND^  
5.3 高反射膜 5uNJx5g  
5.4 干涉截止滤光片 uK#4(eY=W  
5.5 窄带滤光片 X_ cV%#  
5.6 负滤光片 EXw
o,?I  
5.7 非均匀膜与Rugate滤光片 V!ZC(  
5.8 仿生蛾眼/复眼结构 /-ch`u md  
5.9 颜色膜 |`Ntv}  
5.10 Vstack薄膜设计示例 c74.< @w  
5.11 Stack应用范例说明 F/bT)QT<f  
6. 薄膜性能分析 ^f &XQQY  
6.1 电场分布 :O?MSS;~  
6.2 公差与灵敏度分析 pb?c$n$u*  
6.3 反演工程 Zq|I,l0+E  
6.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 [b<oDX#  
7. 真空技术 YTpSHp
f@  
7.1 常用真空泵介绍 trA4R/ &  
7.2 真空密封和检漏 *@r/5pM2}  
8. 薄膜制备技术 zh`<WN&H  
8.1 常见薄膜制备技术 }DEg-j,F  
9. 薄膜制备工艺 %@ODs6 R0  
9.1 薄膜制备工艺因素 fue(UMF~  
9.2 薄膜均匀性修正技术 gX}8#O.K$  
9.3 光学薄膜监控技术 r CHl?J  
10. 激光薄膜 } FlT%>Gw  
10.1 薄膜的损伤问题 [0[i5'K:  
10.2 激光薄膜的制备流程 =:,g  
10.3 激光薄膜的制备技术 e&F8m%t  
11. 光学薄膜特性测量 Y3cMC)  
11.1 薄膜光谱测量 "3"V3w  
11.2 薄膜光学常数测量 C12Fl  
11.3 薄膜应力测量 |&nS|2.'  
11.4 薄膜损伤测量 &yTqZ*Yuk  
11.5 薄膜形貌、结构与组分分析 m 3hrb-  
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有兴趣学习者请联系微信号18019382784