主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器，主要步骤如下： l.3|0lopX) • 定义MMI耦合器的材料； tQYkH$e`/{ • 定义布局设定； q y\Z2k • 创建一个MMI耦合器； m6 V L • 插入输入面； #fQ}8UxU, • 运行模拟； Op>l~{{ { • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 }\Ri:&? 6-6ha7]s 1. 定义MMI耦合器的材料 #*|Gp_l+% 为了定义MMI耦合器的材料，需要进行如下操作： w;=g$Bn 1) 通过File-New打开“初始性能对话框（Initial Properties）“ l'm\ *=3 o-7,P
RmKN 图1.初始性能对话框
Z6\H4,k& 2) 点击图1中的“轮廓和材料（Profiles And Materials）”以激活“轮廓设计窗口（Profile Designer）” q1_iV.G< hwj:$m R 图2.轮廓设计窗口
vOV$H le 3) 右键单击图2中材料（Materials）标签下的“电介质（Dielectric）“，选择New以激活电介质材料创建窗口 !QXPn}q^0
L,7+26XV"B 2Q81#i'Cm 图3.电介质材料创建窗口
}Y`D^z~ 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料： MIx ,#]C& − Name : Guide o4F?Rx,L − Refractive Index (Re) : 3.3 U ,7O{YM − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 -?}Z0e(w glI4Jb_[ 图4.创建Guide材料
1n-+IR" 5) 重复步骤3）和4），创建第二种电解质材料： !U[/P6
+0 − Name : Cladding jBLLx { − Refractive Index (Re) : 3.27 !L?diR − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 (Ee 5Af,4 7%)KB4(\_ 图5.左图为创建Cladding材料，右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 a]4h5kJ';
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1，进入通道编辑窗口，构建通道： hcX` X2^ − Name ： Guide_Channel B$D7} =|kc − 2D profile definition: Guide 0T7c =5z4W − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口，关闭Profile Designer窗口 .d;|iwl
NDYm7X*et 图6.构建通道
ic=tVs
