主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器，主要步骤如下： V]P %@<C • 定义MMI耦合器的材料； et}%E9 • 定义布局设定； R_B`dP<"~Y • 创建一个MMI耦合器； ?K=
X[ • 插入输入面； aS&,$sR • 运行模拟； |WsB 0R • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 Kq;s${ |G 18o5Gs;yx 1. 定义MMI耦合器的材料 9K4Jg]? 为了定义MMI耦合器的材料，需要进行如下操作： X^)v ZL? 1) 通过File-New打开“初始性能对话框（Initial Properties）“ p>= b|Qy| |%12Vr]J 图1.初始性能对话框
3oMhsQz~z 2) 点击图1中的“轮廓和材料（Profiles And Materials）”以激活“轮廓设计窗口（Profile Designer）” ;}4^WzmK^( eY8 rm 图2.轮廓设计窗口
,g:\8*Y>' 3) 右键单击图2中材料（Materials）标签下的“电介质（Dielectric）“，选择New以激活电介质材料创建窗口 4x2,X`pe3
abkt&981K+ i]}`e>fF 图3.电介质材料创建窗口
_!E)a 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料： aW(H n[}^ − Name : Guide ' ;3#t(J; − Refractive Index (Re) : 3.3 evGUl~</~ − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 :bu]gj4e PiF &0; 图4.创建Guide材料
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6 5) 重复步骤3）和4），创建第二种电解质材料： DgODTxi X − Name : Cladding eWWfUNBSLX − Refractive Index (Re) : 3.27 (X~JTH:e/ − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 !M;><b}=5 D
] G=sYt 图5.左图为创建Cladding材料，右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 P;
9{;
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1，进入通道编辑窗口，构建通道： kR65{h"gZT − Name ： Guide_Channel a}[ 1*_G − 2D profile definition: Guide MP$9W) − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口，关闭Profile Designer窗口 ^n9)rsb \JbOT%1 图6.构建通道
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