主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器，主要步骤如下： 8R4qU! M • 定义MMI耦合器的材料； KY+]RxX • 定义布局设定； [h HG . • 创建一个MMI耦合器； 9,WG!4:+W
• 插入输入面； Kv?;cu! • 运行模拟； Funj!x'uE • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 3_zSp.E\l gp/YjUH7k8 1. 定义MMI耦合器的材料 ' ^a!`"Bc 为了定义MMI耦合器的材料，需要进行如下操作： m[8
@Unt 1) 通过File-New打开“初始性能对话框（Initial Properties）“ M&[b.t* woau'7}XOu 图1.初始性能对话框
* nCx[ 2) 点击图1中的“轮廓和材料（Profiles And Materials）”以激活“轮廓设计窗口（Profile Designer）” T 2|:nC)@ fl)zQ cA 图2.轮廓设计窗口
,sI35I J 3) 右键单击图2中材料（Materials）标签下的“电介质（Dielectric）“，选择New以激活电介质材料创建窗口 |!Ists
Z,aGtJ.a'9 PEzia}m 图3.电介质材料创建窗口
sTOFw;v% 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料： %nQmFIt − Name : Guide , `
o+ ? − Refractive Index (Re) : 3.3 ,q</@}.\wN − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 *#h;c1aP ?Aw 3lH#: 图4.创建Guide材料
kqf8= y 5) 重复步骤3）和4），创建第二种电解质材料： Fu# #'# − Name : Cladding j38 6gL − Refractive Index (Re) : 3.27 ]l&'k23~p − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 =4> @8=JA yVYkuO 图5.左图为创建Cladding材料，右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 V6*? $o
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1，进入通道编辑窗口，构建通道： Q|// Z − Name ： Guide_Channel ImHU:iR[J- − 2D profile definition: Guide fIkT"? − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口，关闭Profile Designer窗口 `M] BhW) @C_ =* 图6.构建通道
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