主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器，主要步骤如下： 7|\@zQ h • 定义MMI耦合器的材料； v2r&('pV • 定义布局设定； znJhP}( • 创建一个MMI耦合器； (&|_quP7O • 插入输入面； -9
! .m • 运行模拟； wbDM5% • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 O%g $9-?F0 E:zF/$tG 1. 定义MMI耦合器的材料 C51bc6V 为了定义MMI耦合器的材料，需要进行如下操作： Y2B &go 1) 通过File-New打开“初始性能对话框（Initial Properties）“ ^ ;,M}|<h 9a\nszwa 图1.初始性能对话框
[ EFMu;q 2) 点击图1中的“轮廓和材料（Profiles And Materials）”以激活“轮廓设计窗口（Profile Designer）” 2?m.45` k#8Ti"0 图2.轮廓设计窗口
y@2epY?{ 3) 右键单击图2中材料（Materials）标签下的“电介质（Dielectric）“，选择New以激活电介质材料创建窗口 HEL !GC>#
DRqZ,[!+ !US d9 图3.电介质材料创建窗口
v_e9}yI 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料： Mb3}7 @/[ − Name : Guide ,B4VT 96* − Refractive Index (Re) : 3.3 1im^17 X − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 o"wXIHUmV +*\X]06 图4.创建Guide材料
ikWtC]y 5) 重复步骤3）和4），创建第二种电解质材料： +`7KSwa − Name : Cladding yC
7 7c= − Refractive Index (Re) : 3.27 '$4O!YI9@ − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 %r&-gWTQ, p!] 6ll^ 图5.左图为创建Cladding材料，右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 gtUUsQ%y .
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1，进入通道编辑窗口，构建通道： J=.`wZQkS − Name ： Guide_Channel n JPyM/p − 2D profile definition: Guide WI]o cF − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口，关闭Profile Designer窗口 ThPE
0V + OV')oE 图6.构建通道
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