主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器，主要步骤如下： b:m+I
• 定义MMI耦合器的材料； K~N$s "Qx • 定义布局设定； 6l#x1o; • 创建一个MMI耦合器； jJy: /!i • 插入输入面； rbZbj# • 运行模拟； Lo%n{*if • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 g !'R} y c3$T3Lu1 1. 定义MMI耦合器的材料 Zh"m;l/] 为了定义MMI耦合器的材料，需要进行如下操作： md j%zJ8/ 1) 通过File-New打开“初始性能对话框（Initial Properties）“ "Ms;sdjg}& ?=VvFfv% 图1.初始性能对话框
/jY
u-H+C 2) 点击图1中的“轮廓和材料（Profiles And Materials）”以激活“轮廓设计窗口（Profile Designer）” J2YQdCL B5b:znW2@ 图2.轮廓设计窗口
r |Ui1 f5 3) 右键单击图2中材料（Materials）标签下的“电介质（Dielectric）“，选择New以激活电介质材料创建窗口 0MG>77
H iyg 1 D(!^$9e9b 图3.电介质材料创建窗口
=Zd(<&B K 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料： eqbN_$> − Name : Guide dY*q[N/pO − Refractive Index (Re) : 3.3 4&/CES − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 (WM3(US| C]`uC^6g 图4.创建Guide材料
* {g3ia 5) 重复步骤3）和4），创建第二种电解质材料： d2rs+- − Name : Cladding -@orIwA& − Refractive Index (Re) : 3.27 8v4}h9*F"7 − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 YH&=cI@ ]c.w+< 图5.左图为创建Cladding材料，右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示
Ei;tfB
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1，进入通道编辑窗口，构建通道： $ [gN#QW% − Name ： Guide_Channel E5k)~P `| − 2D profile definition: Guide o/5-T4 − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口，关闭Profile Designer窗口 Cf {F"o +v Bi7#& 图6.构建通道
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