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摘要 @=:( b"Sg
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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 E{|j
L-vy,[9)[*
 ?bW|~<X~ dy`K5lC@ 任务描述 r,a V11{
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b {p-&8- 镀膜样品 \$W>@w0 关于配置堆栈的更多信息。 }GRZCX> 利用界面配置光栅结构 ?u/RQ 1 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 }HRM6fR1S - 涂层厚度：10纳米 v?vm-e - 涂层材料。二氧化硅 CM|?;PBuv
- 折射率：扩展的Cauchy模型。 Dz3=ksXZ
 1 >|2 B&_^ 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 [A A'Ko - 基板材料：晶体硅 *;5P65:u$> - 入射角度。75° f+d [Q1 K`Vi5h R~c  7&-B6Y 4
tUaDwIu# 椭圆偏振分析仪 Y`.FSs
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67;O(3 P;G Rk6 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 +`'=K ;{U 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 ^~XsHmcQ P+K< /i
椭圆偏振分析仪 RzgA;ZC' i-Er|u; W
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u]RI,3Z 总结 - 组件... 6N+ ]g/_a
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 T8'm {[C dPvRbwH<  kMd1)6%6A oU"!"t 椭圆偏振系数测量 H;D 5)eJ90
&pCa{p 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 !79eF)
Q &~|P}
 ;xqN#mqq }3 HN $Fwo 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 (+aU ,EQ
Y- YlQ ^
 '/O >#1 1xBgb/+ 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 |tn.ZEgw3~
V)<Jj 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 w { +G/Ea \%BII>VS
 5TynAiSD_> * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) :[\M|iAo Bl$Hg,in- 仿真结果与参考文献的比较 "@ 1+l&
Ar{7H)V: 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 <dd XvUCX
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 2UbTKN u7(<YSOs VirtualLab Fusion技术 a *2JLK
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