-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-10-22
- 在线时间1989小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 +~7[T/v+n
iz+ ,,UH
可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 OaY]}4tI$
S_s;f oT
 aM:tg1g [ C!m ,4 任务描述 21] K7
3f:]*U+O
 ?P}) Qa BF" eVKA 镀膜样品 Y5*A,piq 关于配置堆栈的更多信息。 g @ ]1H41 利用界面配置光栅结构 !:~C /B{ 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 zLPCWP.u - 涂层厚度：10纳米 |T-Y tuy8 - 涂层材料。二氧化硅 ZIc-^&`r= - 折射率：扩展的Cauchy模型。 qj^ A  K3& k+~$ 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 kjr q;j: - 基板材料：晶体硅 5G z~,_ - 入射角度。75° |1Nz8Vr. @@}muW>;T  ) P|/<>z
*48LQ zc 椭圆偏振分析仪 #XN URj
L l,nt
 >f;oY9 {m R5 EC/@ 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 [mF=<G" 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。
)
urUa E <4^y7 ]] F
椭圆偏振分析仪 fL gHQ FH;)5GGnv
 T <RWz
5KssfI
a 总结 - 组件... SQk5S P
^ SS9BQ*m
 Ge24Lp;Y 6 @d|]BqQ4jh  7f~7vydZ} + Cq& ~<B 椭圆偏振系数测量 /|<0,oz oJ
s ZokiFJ 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 0JhUncx
DyQvk
 !
n?j)p. OW8TiM
mK 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 |8\e t
^{g+HFTA@
 i^/ H>E%u ,UD5>Ai 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 ~>}7+p
?;
UZE%!OWpeK 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 dw7h@9\ y o2LUB)=R'
 v2mqM5Z * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) ?QzN\f Y; yF^)H{yx 仿真结果与参考文献的比较 G ""=`@
K]i2$ M 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 >Wj8[9zf
[_p&,$z8[
 @'S !G"\ d.NB@[?* VirtualLab Fusion技术 uTP4r
e#4 iue7U
 AFNE1q; {\
glWa ? #1
 r$Y% 15JV
|
