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摘要 `w@z
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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 `Jj b4]
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 (R RRG;*n# ]_|%!/_ 任务描述 $`t2SD
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 Bqk+ne o@aXzF2 镀膜样品 .i` -t" 关于配置堆栈的更多信息。 %.\+ j ,G7 利用界面配置光栅结构 u3 &# UN 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 K!E\v4 - 涂层厚度：10纳米 16.? 4 5 - 涂层材料。二氧化硅 +G7[(Wz(z - 折射率：扩展的Cauchy模型。 4ISIg \:c*  iF.f*3-NJB 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 /!/Pk'p=/ - 基板材料：晶体硅 PtL8Kd0`C - 入射角度。75° 5, |{|/ 07ppq?,y  'C:i5?zh(q
v6=X]Ji{YA 椭圆偏振分析仪 &/otoAr(
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 20J-VN: $h=v ;1" 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 ]A l)> 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 ke/4l?zs mU||(;I
椭圆偏振分析仪 6bf!v =~)rT8+)
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_Ii=3Qsf 总结 - 组件... ZHoYnp-~z
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:HFJ! $" 0`2C 椭圆偏振系数测量 /WX&UAG
?D_}',Wx 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 7c@5tCcC-
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 =i/ r: I0^oaccM 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 {q;_Dd
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 3z"%ht~; te jpY 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 mo MNd(p
PklJU:Pu\U 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 AF{@lDa1h uY3# ,
 '#QZhz(+ * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) `s d
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q _,p/2m-Pj 仿真结果与参考文献的比较 TA#pA(k
zMO xJ 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 *ck'vV'@
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