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摘要 (k9 {&mPJ
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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 7xP>AU )y
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 "5mdq-h( P8K{K :T 任务描述 G9s: Wp
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 T}( J`{ 9i N|c;Qzl 镀膜样品 huu:z3{=J 关于配置堆栈的更多信息。 @
8yV 15! 利用界面配置光栅结构 0>Y3>vwSl 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 LL5n{#)N - 涂层厚度：10纳米 8(UUc> g - 涂层材料。二氧化硅 ] (3e +JC - 折射率：扩展的Cauchy模型。 '>AOJ aA  #C1u~db 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 etdI:N*x - 基板材料：晶体硅 <d,Qi.G4 - 入射角度。75° *%L:soM'Ll u8pJjn;  c>~"Z-VtX
+Zu*9&Cx 椭圆偏振分析仪 ANEW ^\
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 fu3/ n @L *.wX9g9\ 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 T] d9tX- 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 `_C4L=q" dEU +\NY
椭圆偏振分析仪 4y&%YLMpl T] \_[e:'
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Hc1S:RW 总结 - 组件... mG2*s ^$
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DjK:) JQQP!]%}  {)]5o| Hx t W ;1 椭圆偏振系数测量 k3::5&
( /{Wu:e 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 /k3v\Jq{
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 H(U`S m .ev~Vv~ 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 I!?-lI@(
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 9 |v3lGK( SW|{ )L, 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 45e-A{G~
XnmQp)nyV 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 cl
kL)7RQ Zq7Y('=`t@
 $eUI.j(HU * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) Jhdo#}Ub pEf1[ zq 仿真结果与参考文献的比较 5[3vu p?
}t }y 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 lt\.
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>5Y%4++(
 ?-w<H!Y 7 %fB]N VirtualLab Fusion技术 qScc~i Oq
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