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摘要 =$%_asQJ
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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 cNuBWLG
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 `l}r&z(8 oMZ|)(7C 任务描述 Bdf]? s[]
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 BO=j*.YKy 8J#T P7; 镀膜样品 UXV>#U? 关于配置堆栈的更多信息。 )pt#Pu
利用界面配置光栅结构 WO6; K] 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 Q\v^3u2;m` - 涂层厚度：10纳米 RjQdlr6 * - 涂层材料。二氧化硅 a{8g9a4 - 折射率：扩展的Cauchy模型。 TYr"yZ([  0Z~G:$O/i 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 3MFb\s&Fq - 基板材料：晶体硅 G-Ju`. - 入射角度。75° c1Ta!p{% J#& C&S 2  p= U5qM.O
(!`]S>_w9 椭圆偏振分析仪 s ;-%Dfn
B& )o:P7h
 ~,.}@XlgT. UK xeN[fv 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 8 6\B|! 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 WKPuI E: <oWoJP`G
椭圆偏振分析仪 kUG3_ *1
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Fps.F hm 总结 - 组件... %@Ty,d:;=
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2i _n+./ B 椭圆偏振系数测量 hd}"%9p
=-qv[;%& 6 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 jF BnP,WQ
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 lx&ME#~ J<{@D9r9<~ 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 LMvsYc~]q
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 Ag`:!* j.@TPf* 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 _ % HyXd
c*g(R.! 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 ,4wZ/r>
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 b}[W[J}` * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) -l!;PV S| `_;VD?")*l 仿真结果与参考文献的比较 W%=b|6E
yU( k;A- 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 FFNv'\)
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 t3 q0|S v?7.)2XcX VirtualLab Fusion技术 p&L`C |0
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