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摘要 u 1ZJHry
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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 ptpW41t}^
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 x(P KFn pe()f/Jx( 任务描述 Gg%tV Qu
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[cf 镀膜样品 |gnAqkW0 关于配置堆栈的更多信息。 RF_[?O)Q 利用界面配置光栅结构 4'SaEsA~ 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 3;*z3;#} - 涂层厚度：10纳米 upypxC - 涂层材料。二氧化硅 3Y
z]8`C - 折射率：扩展的Cauchy模型。 =m}TU)4.  &<au/^F 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 Q|Pbt(44 - 基板材料：晶体硅 R]u
(l+` - 入射角度。75° EeCFI I L=,OZ9a A  P,i"&9 8
&hayR_F9 椭圆偏振分析仪 (ZV;$N-t
->\N_|_
tPA:_ =3*Jj`AV 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 ~ m=$VDWm 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 4O!E|/`wO =7 VCtd /
椭圆偏振分析仪 nbGoJC:U :BZMnCfA
 a/~29gW8E\
x f/m!b"p 总结 - 组件... *Bs^NU.
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 lEHwZ< je zmI5"K"'F  "tL2F*F"6X $jG4pPG 椭圆偏振系数测量 9?
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66Gx .tE 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 UfR~%p>K
Cxm6TO`-;
 )lh8
k { <F7V=Er 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 .+yW%~0
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 "j R] MZ txq~+'A:+ 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 rB%y6P B
_A 2Lv]vfV 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 .x}gg \ W"Q!|#;l.
 )TU <:V * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) ;
0ko@ \Lq o G_C?(7> 仿真结果与参考文献的比较 :)IV!_> 'd
l~J*' m2 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 MzzKJ;wbC6
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 #Qh>z%Mn^3 :l,OalO VirtualLab Fusion技术 ^ve14mbF#.
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