-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-06-26
- 在线时间1977小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 @b!"joEy
+ R$? 2
可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 |oKu=/[K
"i' bTVs
 (VHND%7P upn8n vy4( 任务描述 <FFJzNc+
o|S)C<w
 q/@dR{- RcY[rnI6 镀膜样品 NlR "$ 关于配置堆栈的更多信息。 lhn8^hOJ/ 利用界面配置光栅结构 &R$Q\ , 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 +Al>2 ~
- 涂层厚度：10纳米 f~& a- - 涂层材料。二氧化硅 O?K./So& - 折射率：扩展的Cauchy模型。 eVy2|n9rH  Yt1mB[&f^ 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 # JNy - 基板材料：晶体硅 Uf,fX/:! - 入射角度。75° QrjDF> HR{s&ho  eO5ktEo J
"h $R ]~eG 椭圆偏振分析仪 Jgx8-\ 8
2PC5^Ni/9@
 Vb6K:ZnF tbj=~xYf 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 ^KHLBSc: 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 n`5WXpz4 ; 2RNrIU I2
椭圆偏振分析仪 to3?$-L N_' +B+U?
 l)}t,!M6
eqzTQen8q 总结 - 组件... X\2_; zwf
}OKL
z .5
 }5S2p@W) +t\^ (SJ 6  p]f&mBO* [!+D <Y 椭圆偏振系数测量 P.4E{.)(
W7e4p R?w 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 |$w* RI0C
J%P)%yX
 >q| Q-I~gs `ut )+ T V 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 ?MZ:_'2p
< c%n?QK{
 z-Hkz
$[e%&h@JR 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 ya>N.h
!LSs9_w 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 ,VG9) K 1K HYIRc Y
 ]Y5dl;xrM) * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) kkfC AM # eEvF 仿真结果与参考文献的比较 @
R'E?|
~I)uWo 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 6Kht:WE
/#\?1)jCK
 7+8bL{ -- S"w@ VirtualLab Fusion技术 Ec.)!Hu
)kA2vX^=Z
 'Kd7l}e!
s>J3\PC
 PJwEA
|
