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摘要 mSeN M
"A3xX&9-q
可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 b;ZAz
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 (j"MsCwE %W@IB8]Vr 任务描述 _ @76eZd
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 6%1o<{(%f 6G vnyJ{[ 镀膜样品 i|'t!3I^m 关于配置堆栈的更多信息。 5(Oc"0''H 利用界面配置光栅结构 I/|n
ma/ $ 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 1k i "UF/ - 涂层厚度：10纳米 Okc*)crw - 涂层材料。二氧化硅 9x,+G['Zt - 折射率：扩展的Cauchy模型。 k JF HUR  !%9I%Ak^ 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 zf u78 - 基板材料：晶体硅 ~Wv?p4 - 入射角度。75° 3/05ee;| n3,wwymQ  v:;cTX=x`#
?yK\L-ad 椭圆偏振分析仪 O Sk9Eb4ld
H:6$) #
 2_v>8B m,O !M t 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 m"]ys # 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 ,iUx'U r g.if"o
椭圆偏振分析仪 xM \ApN~W 3}Qh`+Yj]
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{ VO4""m 总结 - 组件... 9f`Pi:*+/
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 Jmx }r,j W9"I++~f  ")
D!OW] 6Tnzg`0I 椭圆偏振系数测量 O6]~5&8U.
[DwB7l)O( 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 sd%~pY}
H=C;g)R
 -&}E:zoe
ZbUf|#GTB 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 KHtY
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K-3 _4A s
 RSC-+c6 1 =d}3>YHS 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 ~JpU O~i/
KG$2u:n 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 3I+pe; .>n|#XK
 6* 7&X#gG * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) 2wCRT}C oV`sCr5% 仿真结果与参考文献的比较 ~@l NBF
Sqs`E[G* 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 r;z A `
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HH{_ {QID @ VirtualLab Fusion技术 ^ d qEOW
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